2020年6期
刊物介紹
本刊報(bào)道我國在半導(dǎo)體材料、光電子材料、納米材料、薄膜材料和超硬材料等領(lǐng)域在理論研究、生長(zhǎng)技術(shù)、性能、品質(zhì)鑒定、原料制備，以及應(yīng)用技術(shù)和加工等方面的科研成果，同時(shí)介紹國內(nèi)外晶體材料的發(fā)展動(dòng)態(tài)與學(xué)術(shù)交流活動(dòng)。學(xué)報(bào)是我國從事人工晶體研究人員與國外同行交流的一個(gè)重要窗口。
人工晶體學(xué)報(bào)
聲光電磁晶體材料專欄
- 鈮酸鋰晶體及其應(yīng)用概述
- 固相晶體生長(zhǎng)技術(shù)的發(fā)展
——從籽晶誘導(dǎo)到無籽晶生長(zhǎng) - MPCVD單晶金剛石高速率和高品質(zhì)生長(zhǎng)研究進(jìn)展
- 鈣鈦礦結(jié)構(gòu)RFeO3晶體研究進(jìn)展
- 面向水聲換能器的壓電單晶復(fù)合材料設(shè)計(jì)研究
- KDP類晶體快速生長(zhǎng)技術(shù)研究
- 鉭酸鋰晶體高溫富鋰擴(kuò)散工藝的研究
- La3+摻雜對(duì)Pb(Lu1/2Nb1/2)O3反鐵電單晶儲(chǔ)能性能的影響
- PMN-PT∶Er3+鐵電晶體的光譜特性與J-O理論分析
- 粉末紫外二階非線性光學(xué)性能測(cè)試研究
- 鈮酸鋰電光調(diào)Q晶體漏光現(xiàn)象的研究
- 基于摻雜壓電薄膜的FBAR制備及研究
- 大尺寸Y方向鉭酸鎵鑭壓電晶體生長(zhǎng)及性能研究
- 氟化鈣晶體缺陷對(duì)應(yīng)力雙折射影響機(jī)制的研究
- 外延PbZr0.4Ti0.6O3薄膜厚度對(duì)鐵電儲(chǔ)能性能的影響
團(tuán)隊(duì)介紹
研究論文
- 基于納米壓痕的氧化鎵晶體斷裂韌度檢測(cè)方法研究
- 一種釓硼酸鹽Rb2LiGdB2O6的結(jié)構(gòu)、合成及光學(xué)性質(zhì)
- 局域共振型圓柱殼類聲子晶體帶隙特性研究
- 基于進(jìn)化算法的一維多相聲子晶體拓?fù)鋬?yōu)化設(shè)計(jì)
- 冷卻速率對(duì)Al-30wt%Si合金初晶硅形貌和雜質(zhì)的影響研究
- 多晶硅鑄錠生產(chǎn)氣體在線檢測(cè)系統(tǒng)
- 填隙法在拋光銅襯底上制備高質(zhì)量石墨烯薄膜
- 基于二硫化鉬/石墨烯復(fù)合材料的汞蒸氣傳感器
- Cu/Ag單摻及Cu-Ag共摻對(duì)ZnO光催化性能影響的第一性原理研究
- 氰基增強(qiáng)氮化碳光生載流子的有效分離
- 常壓水解-離子交換法制備TiO2負(fù)極材料及其電化學(xué)性能研究
- 美拉德法制備SOFCs用Gd0.2Ce0.8O1.9電解質(zhì)粉體的研究