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        例談薄膜干涉技術(shù)在生產(chǎn)實(shí)踐中的應(yīng)用與學(xué)習(xí)指導(dǎo)

        2022-05-26 10:23:10許冬保
        關(guān)鍵詞:學(xué)習(xí)指導(dǎo)

        摘要:薄膜干涉技術(shù)在生產(chǎn)實(shí)踐中有著廣泛的應(yīng)用.如檢測細(xì)絲精度(測量細(xì)絲直徑)的技術(shù)、增透膜技術(shù)、高反射膜技術(shù)、檢驗(yàn)工件平整度技術(shù)等均是薄膜光學(xué)的應(yīng)用.應(yīng)用此類問題以生活實(shí)踐情境為載體,能考查學(xué)生運(yùn)用所學(xué)知識(shí)解釋生活中的現(xiàn)象、解決生活實(shí)踐中的問題的能力.文中涉及到半波損失及光程差,旨在為基礎(chǔ)優(yōu)秀的學(xué)生提供較為嚴(yán)謹(jǐn)、系統(tǒng)的知識(shí)結(jié)構(gòu).實(shí)際問題分析中,不計(jì)半波損失,并不影響問題的分析與討論;在空氣介質(zhì)中,路程即光程,路程差即光程差.

        關(guān)鍵詞:薄膜干涉;兩類模型;劈尖干涉、光程差;干涉條紋;學(xué)習(xí)指導(dǎo)

        中圖分類號(hào):G632文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A文章編號(hào):1008-0333(2022)13-0099-03

        1 薄膜干涉概述

        薄膜光學(xué)是20世紀(jì)60年代初興起的一門應(yīng)用光學(xué)技術(shù).增透膜、高反射膜等均是薄膜干涉.物理光學(xué)的發(fā)展推動(dòng)了科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步,而技術(shù)應(yīng)用又反過來促進(jìn)物理光學(xué)的發(fā)展.應(yīng)用類問題與日常生活以及生產(chǎn)實(shí)踐密切相關(guān).該類問題能有效地考查學(xué)生運(yùn)用所學(xué)知識(shí)解釋生活中的現(xiàn)象、解決生活實(shí)踐中的具體問題的能力.

        1.1 薄膜干涉

        在日常生活中,我們常見到在陽光的照射下,肥皂膜、水面上的油膜以及許多昆蟲(如蜻蜓、蟬、甲蟲等)的翅膀上呈現(xiàn)彩色的花紋,這是光波經(jīng)薄膜兩表面反射后相互疊加所形成的干涉現(xiàn)象,稱為薄膜干涉.

        如圖1所示,薄膜折射率為n,置于折射率為n1的介質(zhì)中.入射光i以入射角θ斜射入薄膜中.在左界面上,一部分光(r1)反射回原介質(zhì)中去.另一部分進(jìn)入介質(zhì),在右界面反射并通過左界面射出(r2).r1、r2兩束光是相干的,能產(chǎn)生干涉條紋.

        1.2 兩類模型

        1.2.1 等傾干涉

        如圖2所示,薄膜各處的厚度相同.傾斜度相同的光束經(jīng)薄膜反射形成同一級(jí)干涉條紋,傾斜度不同的光束經(jīng)薄膜反射形成干涉圖樣,這類干涉稱為等傾干涉.

        在圖2中,某入射光入射角為i1,折射角為i2,反射角為i′1,若薄膜厚度為h,薄膜折射率為n.為使分析簡單化,假定薄膜周圍介質(zhì)為空氣.a1、a2形成的光程差(考慮半波損失)為

        δ=nAB+BC-AC′-λ2

        δ=2hn2-sin2i1-λ2

        當(dāng) 2hn2-sin2i1=2hncosi2=2k+1λ2時(shí),干涉相長;

        當(dāng)2hn2-sin2i1=2hncosi2=2kλ2時(shí),干涉相消.

        上式中 k=0,1,2,…

        1.2.2 等厚干涉

        如圖3所示,平行光由空氣斜射入到折射率為n的介質(zhì)中,入射角為i1,折射角為i2.光波aa2、cc1光程差(考慮半波損失)為

        δ=nAB+BC-CD-λ2

        C處對(duì)應(yīng)薄膜的厚度為h,依照上述同樣的分析,可得

        當(dāng)h=k+12λ2n2-sin2i1時(shí),干涉相長;

        當(dāng)h=kλ2n2-sin2i1時(shí),干涉相消.

        上式中 k=0,1,2,…

        若薄膜很薄,且兩個(gè)表面的夾角很小,則

        δ=2nh-λ2

        上式表明:h相同的各點(diǎn)在同一級(jí)條紋上,h愈大的點(diǎn),干涉級(jí)數(shù)k愈高.

        薄膜各處的厚度不同,同一厚度的光束經(jīng)薄膜反射形成同一級(jí)干涉條紋,厚度不同的光束經(jīng)薄膜反射形成干涉圖樣,這類干涉稱為等厚干涉.

        1.3 劈尖干涉

        如圖4所示,G1、G2為兩片疊放在一起的平板玻璃,其一端的棱邊相接觸,另一端被一直徑為D的細(xì)絲隔開,故在G1的下表面和G2的上表面之間形成一空氣薄層,叫做空氣劈尖.若用單色平行光垂直射向劈尖,則自空氣劈尖上、下兩面反射的光相互干涉.

        薄膜厚度h處的光程差 δ=2h-λ2,δ取不同的值,得到不同的條紋.即

        出現(xiàn)亮條紋的條件是 2h=2k+1λ2;出現(xiàn)暗條紋的條件是 2h=kλ.式中 k=0,1,2,…

        2 應(yīng)用舉例

        2.1 檢測細(xì)絲精度(測量細(xì)絲直徑)的技術(shù)

        通過劈尖空氣干涉原理,可定量得到被檢測細(xì)絲的直徑與標(biāo)準(zhǔn)細(xì)絲直徑之間的差異值,也可精確測量固定樣品的熱膨脹系數(shù).

        例1(2011年“卓越”自主招生試題)利用光的干涉可以測量待測圓柱形金屬絲與標(biāo)準(zhǔn)圓柱形金屬絲的直徑差(約為微米量級(jí)),實(shí)驗(yàn)裝置如圖5所示.T1和T2是具有標(biāo)準(zhǔn)平面的玻璃平晶,A0為標(biāo)準(zhǔn)金屬絲,直徑為D0;A為待測金屬絲,直徑為D;兩者中心間距為L.實(shí)驗(yàn)中用波長為λ的單色光垂直照射平晶表面,觀察到的干涉條紋如圖5所示,測得相鄰條紋的間距為ΔL.

        (1)證明 D-D0=λL2ΔL.

        (2)若輕壓T1的右端,發(fā)現(xiàn)條紋間距變大,試由此分析D與D0的大小關(guān)系.

        2.2 增透膜技術(shù)

        因?yàn)榉瓷涔庀嘞?,透射光加?qiáng),這樣的膜稱為增透膜或稱之為消反射層.

        例2如圖6所示,一個(gè)玻璃透鏡的一面鍍了一薄層氟化鎂(MgF2),以便減弱從透鏡表面的反射,MgF2的折射率為1.38;玻璃鏡的折射率為1.50.若光幾乎是垂直于透鏡表面入射的.求至少為多厚的鍍膜能消除可見光譜中間區(qū)域的光(λ=550nm)的反射?

        2.3 高反射膜技術(shù)

        登山運(yùn)動(dòng)員和滑雪者戴的眼鏡片上常鍍有高反射膜,目的是增強(qiáng)對(duì)某一光譜區(qū)內(nèi)的反射能量,同時(shí)使透射光減弱.實(shí)際應(yīng)用中,在有關(guān)設(shè)備鏡頭的表面,根據(jù)需要還可以鍍制各種性能的多層高反射膜、彩色分光膜、冷光膜以及干涉濾光片等.

        例3在一折射率為n0的玻璃基片上均勻地鍍一層折射率為n的透明介質(zhì)膜.今使波長為λ的單色光由空氣(折射率取1)垂直射入到介質(zhì)膜表面上,若想使在介質(zhì)膜上、下表面反射的光干涉增強(qiáng),已知n0>n>1.求介質(zhì)膜至少應(yīng)多厚?

        2.4 檢驗(yàn)工件平整度技術(shù)

        在磨制光學(xué)元件時(shí),必須檢驗(yàn)元件表面的質(zhì)量.劈尖空氣干涉現(xiàn)象為檢驗(yàn)元件表面質(zhì)量提供了依據(jù).精密度可達(dá)到0.1μm左右.

        例4等厚干涉常被用來檢測工件的表面平整度.在經(jīng)過加工的工件表面放一塊薄光學(xué)平板玻璃,如圖7所示,平板玻璃和工件表面的夾角為θ(θ很?。?用波長為λ的單色光垂直照射工件.求

        (1)垂直于工件表面觀測時(shí)干涉條紋的間距:

        (2)若觀測到如圖8所示的干涉條紋畸變,則說明工件表面存在的缺陷是什么?

        3 自主學(xué)習(xí)指導(dǎo)

        綜上,文中比較系統(tǒng)地闡述了物理光學(xué)中關(guān)于薄膜干涉形成的原因、產(chǎn)生明暗條紋的條件、條紋的物理特征以及在生活實(shí)踐中的應(yīng)用.考慮到知識(shí)的嚴(yán)密性,文中對(duì)半波損失及光程差兩個(gè)概念,沒有回避,旨在拓寬學(xué)生學(xué)習(xí)的知識(shí)面,幫助學(xué)生掌握較為全面的知識(shí)體系、培養(yǎng)嚴(yán)謹(jǐn)?shù)乃季S習(xí)慣、發(fā)展關(guān)鍵能力,進(jìn)而提升學(xué)科核心素養(yǎng).

        干涉中的半波損失,對(duì)許多問題的分析沒有什么影響,只是亮條紋與暗條紋的位置互換而已,對(duì)干涉條紋的寬度、疏密等沒有影響.

        干涉中的光程差,定義為光行走路程與介質(zhì)折射率之乘積,但很多問題中,薄膜為空氣薄膜,光行走的路程即光程;路程差即光程差.

        參考文獻(xiàn):[1]

        程守洙,江之永.普通物理學(xué)下冊(cè)(第六版)\[M\].北京:高等教育出版社,2006:141.

        \[2\] 姚啟鈞.光學(xué)教程(第四版) \[M\].北京:高等教育出版社,2008:34-35.

        \[3\] 馬文蔚等.物理學(xué)(第四版)下冊(cè)\[M\].北京:高等教育出版社,1999:121-123.

        [責(zé)任編輯:李璟]

        收稿日期:2022-02-05

        作者簡介:許冬保(1963-),男,江西省九江人,特級(jí)教師,從事高中物理教學(xué)研究.[FQ)]

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