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        一種基片集成波導(dǎo)-微帶過(guò)渡器的仿真設(shè)計(jì)

        2020-08-19 03:23:20武歡歡
        通信電源技術(shù) 2020年10期
        關(guān)鍵詞:矩形波導(dǎo)金屬化微帶線

        武歡歡

        (陜西國(guó)防工業(yè)職業(yè)技術(shù)學(xué)院,陜西 西安 710300)

        0 引 言

        基片集成波導(dǎo)是加拿大吳柯教授和東南大學(xué)洪偉教授共同提出的一種新技術(shù)[1]。由于基片集成波導(dǎo)可以等效成矩形波導(dǎo),近年來(lái)國(guó)內(nèi)外學(xué)者紛紛采用基片集成波導(dǎo)設(shè)計(jì)功分器、濾波器、雙工器、定向耦合器和天線等多種微波毫米波電路[2]?;刹▽?dǎo)-微帶過(guò)渡器在微波集成電路中主要應(yīng)用于兩個(gè)方面。一方面是器件間的互連,在電路中不一定完全由基片集成波導(dǎo)(SIW)結(jié)構(gòu)構(gòu)成[2],而大部分器件是由微帶線設(shè)計(jì)的。為了方便基片集成波導(dǎo)與其他形式的電路集成,需要設(shè)計(jì)一種高性能、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、易于加工的過(guò)渡轉(zhuǎn)換的結(jié)構(gòu)。另一方面,通常微波器件的測(cè)試在Ka波段以下常采用同軸電纜測(cè)試,在Ka波段以上常采用矩形波導(dǎo)測(cè)試系統(tǒng)。

        1 基片集成波導(dǎo)概念

        基片集成波導(dǎo)是近幾年出現(xiàn)的一種新型的微帶傳輸線,主要應(yīng)用于高頻段。其主要原因是由于高頻段的波長(zhǎng)過(guò)小,容差過(guò)高會(huì)使微帶線失效,而基片集成波導(dǎo)的主要思想就是在介質(zhì)基片上采用LTCC或者薄膜工藝實(shí)現(xiàn)兩排通孔,形成電壁,與上下金屬面一起構(gòu)成類似于普通波導(dǎo)的結(jié)構(gòu)?;刹▽?dǎo)結(jié)構(gòu)如圖1所示,上下表面為金屬化層,類似與傳統(tǒng)矩形波導(dǎo)的兩個(gè)波導(dǎo)壁,基片集成波導(dǎo)的兩排周期性的金屬化過(guò)孔類似于矩形波導(dǎo)的窄壁,電磁波被限制在由兩排金屬化孔和上下金屬化層形成的矩形腔內(nèi),由于兩邊存在的金屬化過(guò)孔,所以橫磁波(TM)是不存在的,而橫電波的主模為TE10模,所以矩形波導(dǎo)的電場(chǎng)結(jié)構(gòu)與普通矩形波導(dǎo)的場(chǎng)結(jié)構(gòu)相類似,但是由于兩排周期性通孔之間存在一定的縫隙,所以磁場(chǎng)會(huì)產(chǎn)生微量的干擾,電磁能量會(huì)有少量泄露。但當(dāng)相鄰兩個(gè)金屬化孔間距s與金屬化孔直徑d滿足一定的關(guān)系的時(shí)候,這種微量的泄露可以忽略不計(jì)。圖1中的h表示基片集成波導(dǎo)的介質(zhì)基板的厚度,a表示兩排金屬化通孔的圓心間的距離,也就是基片集成波導(dǎo)的寬度。

        圖1 SIW結(jié)構(gòu)圖

        2 基片集成波導(dǎo)-微帶過(guò)渡器的設(shè)計(jì)

        基片集成波導(dǎo)-微帶過(guò)渡器的微帶漸變式結(jié)構(gòu)可以分為兩類:直接型過(guò)渡結(jié)構(gòu)和曲線型過(guò)渡結(jié)構(gòu)[3]。其中,直接型過(guò)渡結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方法和加工工藝較為簡(jiǎn)單,故本文主要研究直接型微帶漸變式,結(jié)構(gòu)如圖2所示。

        圖2 直接型微帶漸變式結(jié)構(gòu)圖

        基片集成波導(dǎo)設(shè)計(jì)首先根據(jù)設(shè)計(jì)要求選擇合適的介質(zhì)基板,其次根據(jù)設(shè)計(jì)選定的頻段計(jì)算SIW波導(dǎo)的寬度,選擇合適的板材(介電常數(shù),厚度)。利用式(1)[4]計(jì)算得出基片集成波導(dǎo)的等效阻抗,令Z0=Ze,即可求得基片集成波導(dǎo)到微帶過(guò)渡部分的微帶線的寬度ws,再根據(jù)同軸線的特性阻抗,計(jì)算出微帶輸出端口的微帶線的寬度w。最后,確定過(guò)渡部分的長(zhǎng)度。選取12~18 GHz頻段進(jìn)行直接型微帶漸變式過(guò)渡器的仿真設(shè)計(jì),仿真模型如圖3所示。

        基片集成波導(dǎo)的等效阻抗計(jì)算公式[5]為:

        其中a為基片集成波導(dǎo)的等效寬度,aRWG為矩形波導(dǎo)的寬度,η0=120πΩ為TEM模在空氣中的波阻抗;h為介質(zhì)基板的厚度;εr為介質(zhì)基板的相對(duì)介電常數(shù)。

        圖3 直接型微帶漸變式過(guò)渡結(jié)構(gòu)仿真圖

        通過(guò)HFSS仿真和理論分析可以得出基片集成波導(dǎo)與傳統(tǒng)的矩形波導(dǎo)具有相同的散射特性和場(chǎng)分布,傳輸模式同為TE10模,但微帶線與基片集成波導(dǎo)的連接部分會(huì)出現(xiàn)不連續(xù)性問(wèn)題,而通過(guò)一系列的仿真調(diào)試,可以將這種不連續(xù)性通過(guò)阻抗匹配的方式來(lái)削弱[6]。

        由于波在兩種不同的導(dǎo)波結(jié)構(gòu)中進(jìn)行傳輸,在兩種導(dǎo)波結(jié)構(gòu)的連接部分會(huì)產(chǎn)生反射。為了消除這種反射波,引入等效阻抗來(lái)解決阻抗匹配問(wèn)題。傳統(tǒng)的矩形波導(dǎo)的等效阻抗為:

        式中:a為矩形波導(dǎo)寬度;λ為工作波長(zhǎng);b為波導(dǎo)高度;μ為磁導(dǎo)率;角頻率,ε為介電常數(shù),波數(shù)?;刹▽?dǎo)中兩排金屬化通孔形成的電壁與矩形波導(dǎo)的場(chǎng)分布十分類似,這兩排金屬化通孔的存在,使得基片集成波導(dǎo)中不存在橫磁波,所以基片集成波導(dǎo)與矩形波導(dǎo)一樣傳輸?shù)闹髂>鶠門E10模。因此,矩形波導(dǎo)與基片集成波導(dǎo)的阻抗存在一定的等效關(guān)系。

        微帶線的寬度w可以由式(3)求出:

        Z0為微帶線的特性阻抗。

        通過(guò)仿真優(yōu)化可以得出,過(guò)渡段的長(zhǎng)度l2對(duì)于傳輸性能的影響較大,過(guò)渡段的長(zhǎng)設(shè)度定為:

        其中,c為常數(shù),將其定義為過(guò)渡系數(shù)。c值越小,l2的尺寸越小,過(guò)渡段越陡峭。所以,選取合適的過(guò)渡系數(shù)是設(shè)計(jì)過(guò)渡器的關(guān)鍵。

        采用HFSS高頻電磁仿真軟件對(duì)過(guò)渡器進(jìn)行建模,選取泰康利的介電常數(shù)為2.55、厚度為0.762 mm的介質(zhì)基板。通過(guò)以上分析可以計(jì)算得到錐型基片集成波導(dǎo)-微帶過(guò)渡器的設(shè)計(jì)參數(shù),如表1所示。當(dāng)c取不同值時(shí),S參數(shù)的變化如圖4所示,其中過(guò)渡系數(shù)c一般選取3~4為宜。圖4為不同過(guò)渡系數(shù)下的S11仿真結(jié)果,產(chǎn)生這種現(xiàn)象的主要原因是過(guò)渡段過(guò)于陡峭,阻抗變化劇烈,影響了電磁波的傳輸。但是,過(guò)渡段過(guò)于緩慢會(huì)增加電路的物理尺寸,增加電磁波的損耗,也不利于能量的傳輸。通過(guò)調(diào)整參數(shù)掃描的間隔,最終選取過(guò)渡系數(shù)為3.2,則相應(yīng)的過(guò)渡段的長(zhǎng)度為3.4 mm,HFSS仿真結(jié)果如圖5所示。

        表1 基片集成波導(dǎo)-微帶過(guò)渡器設(shè)計(jì)參數(shù)/mm

        圖4 不同過(guò)渡系數(shù)下的S11的仿真結(jié)果

        圖5 基片集成波導(dǎo)-微帶過(guò)渡結(jié)構(gòu)S參數(shù)仿真結(jié)果

        3 結(jié) 論

        本文主要闡述基片集成波導(dǎo)的基本特性和設(shè)計(jì)方法,仿真設(shè)計(jì)了基片集成波導(dǎo)-微帶的過(guò)渡器,采用直接過(guò)渡的方式在12~18 GHz的頻帶范圍內(nèi)通過(guò)HFSS進(jìn)行仿真設(shè)計(jì),各端口均得到了良好匹配,在所設(shè)計(jì)的頻帶范圍內(nèi)回波損耗均小于-20 dB。

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