肖茂才

自1985年我國第一部《專利法》頒布實施以來，隨著我國專利制度的不斷完善與發(fā)展，大眾創(chuàng)業(yè)萬眾創(chuàng)新的科技創(chuàng)新能力也在不斷提高，我國發(fā)明創(chuàng)造中的發(fā)明專利、實用新型專利和外觀設(shè)計專利這三種發(fā)明創(chuàng)造的專利申請量也在不斷的逐年增加，專利申請人的自主申請與保護意識也越來越強;而三種發(fā)明創(chuàng)造中的發(fā)明專利、實用新型專利的專利保護則以權(quán)利要求書中所記載的權(quán)利要求為保護界定保護范圍，如何根據(jù)專利產(chǎn)品做出合理合法的專利申請方案及專利申請數(shù)量是值得不斷探討與研究的。

北京市高級人民法院《專利侵權(quán)判定指南》第一條第一款確定保護范圍的解釋對象中第2點記載：專利獨立權(quán)利要求從整體上反映發(fā)明或者實用新型專利的技術(shù)方案，記載解決技術(shù)問題的必要技術(shù)特征，與從屬權(quán)利要求相比，其保護范圍最大。確定專利權(quán)保護范圍時，通常應(yīng)當(dāng)對保護范圍最大的專利獨立權(quán)利要求做出解釋。

北京市高級人民法院《專利侵權(quán)判定指南》第一條發(fā)明實用新型專利權(quán)保護范圍的第二款解釋原則中第8點記載：整體（全部技術(shù)特征）原則。將權(quán)利要求中記載的全部技術(shù)特征所表達的技術(shù)內(nèi)容作為一個整體技術(shù)方案對待，記載在前序部分的技術(shù)特征和記載在特征部分的技術(shù)特征，對于限定保護范圍具有相同作用。

北京市高級人民法院《專利侵權(quán)判定指南》第二條發(fā)明、實用新型專利權(quán)的侵權(quán)判定第一款技術(shù)特征的對比方法中第30點記載：判定被訴侵權(quán)技術(shù)方案是否落入專利權(quán)的保護范圍，應(yīng)當(dāng)審查權(quán)利人主張的權(quán)利要求所記載的全部技術(shù)特征，并以權(quán)利要求中記載的全部技術(shù)特征與被訴侵權(quán)技術(shù)方案所對應(yīng)的全部技術(shù)特征逐一進行比較。以及第31點記載：被訴侵權(quán)技術(shù)方案包含與權(quán)利要求記載的全部技術(shù)特征相同或者等同的技術(shù)特征的，應(yīng)當(dāng)認定其落入專利權(quán)保護范圍;被訴侵權(quán)技術(shù)方案的技術(shù)特征與權(quán)利要求記載的全部技術(shù)特征相比，缺少權(quán)利要求記載的一個或多個技術(shù)特征，或者有一個或一個以上技術(shù)特征不相同也不等同的，應(yīng)當(dāng)認定其沒有落入專利權(quán)保護范圍。

而根據(jù)專利法第二條規(guī)定：本法所稱發(fā)明創(chuàng)造是指發(fā)明、實用新型和外觀設(shè)計;發(fā)明，是指對產(chǎn)品、方法或者其改進所提出的新的技術(shù)方案;實用新型，是指對產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實用的新的技術(shù)方案。

由此不難發(fā)現(xiàn)，一件專利產(chǎn)品，即便是一件看起來結(jié)構(gòu)較為簡單的專利構(gòu)件，也應(yīng)當(dāng)遵循技術(shù)方案進行考慮專利的技術(shù)特征處理，而不能是將一件看似結(jié)構(gòu)簡單的專利構(gòu)件涉及到所有的技術(shù)方案都放在同一件專利申請?zhí)幚?，雖然這在一定程度上可以達到降低專利申請總費用，但在專利保護角度上則容易因此而受到較大的不利影響。

以一個結(jié)構(gòu)看似簡單的洗臉?biāo)⑸w構(gòu)件來探討分析研究其在專利申請?zhí)幚頃r的專利技術(shù)方案與專利技術(shù)數(shù)量相互關(guān)系：洗臉?biāo)⑸w通常被應(yīng)用于臉部清潔護理器具的聲波洗臉?biāo)⒒螂妱酉茨標(biāo)⒅?，對洗臉?biāo)в忻⒔Y(jié)構(gòu)的洗臉?biāo)⑺㈩^進行可靠有效保護，以希望達到維持這些刷頭的毛刷正常形狀特性，以避免在不使用時候出現(xiàn)刷毛部分外露等導(dǎo)致刷毛受損、變形等不利因素產(chǎn)生，從而導(dǎo)致不能正?？煽坑行У谋３诌@些刷頭的正常形狀特性，最終導(dǎo)致降低洗臉?biāo)a(chǎn)品對臉部的清潔洗護作用;可以說是洗臉?biāo)⑸w與臉部清潔護理有著起到最能直接關(guān)聯(lián)影響的構(gòu)件性部件;然而現(xiàn)有洗臉?biāo)⒎雷o蓋存在著安裝在洗臉?biāo)⒌乃㈩^位置上之后容易發(fā)生脫落、導(dǎo)致刷毛發(fā)生受損等現(xiàn)象，不能有效可靠保持刷頭本身的正常形狀特性，或者是在安裝使用過程中安裝取用操作不夠便捷靈活，費時費力;因而對于一個洗臉?biāo)⑸w本身改進后的結(jié)構(gòu)技術(shù)方案則可能會有涉及到洗臉?biāo)⑸w與洗臉?biāo)㈩^之間的安裝配合角度、配合卡槽的配合裝配形狀結(jié)構(gòu)技術(shù)方案，并且考慮洗臉?biāo)㈩^的刷毛在使用過后的清洗過程中也會涉及應(yīng)用到的清潔液及最后的清洗護理等清洗操作環(huán)節(jié)因素，還需要在洗臉?biāo)⑸w上增加考慮對蓋裝后的洗刷蓋進行透氣及安裝取用操作便捷靈活性技術(shù)角度考慮，因而對于一個形狀結(jié)構(gòu)改進后的洗臉?biāo)⑸w技術(shù)方案的專利申請角度考慮，如果僅是考慮獲取專利授權(quán)因素，那么這些改進技術(shù)方案所有涉及到的改進技術(shù)方案均可考慮放在同一件專利申請里進行申請專利，也可以節(jié)約較多的專利申請費用;然而如果是基于專利保護角度進行專利申請考慮，則需要考慮北京市高級人民法院《專利侵權(quán)判定指南》上述判斷指南因素，還是需要將涉及到的改進技術(shù)方案各技術(shù)改進點進行單獨申請專利更為合適，雖然專利申請數(shù)量增多了，專利申請費用也相應(yīng)增加了，但對于專利產(chǎn)品的專利保護更為合適合理。

我們再來看看這一個洗臉?biāo)⑸w的產(chǎn)品中所涉及到有哪些改進技術(shù)方案點：1.為獲得更大程度上的達到提高刷毛在防護蓋內(nèi)的安全性，不易發(fā)生變形受損，使刷毛能更好的保持正常形狀特性的改進方案為：采用在刷蓋防護側(cè)壁具有從防護蓋主體上的防護尾罩處向防護蓋與洗臉?biāo)⑺㈩^相安裝連接的安裝入口外端頭逐漸向外微度傾斜張開的傾斜銳角的技術(shù)方案;2.為提高洗臉?biāo)⑺㈩^防護罩安裝在刷頭上的可靠牢固性，達到更好的安裝定位、鎖裝效果，不易發(fā)生防護罩脫落現(xiàn)象，從而提高和保證刷毛維持正常的形狀，不易因受損變形而降低刷毛的質(zhì)量及護理使用效果及使用壽命而采用的改進技術(shù)方案為：在洗臉?biāo)⑸w的防護側(cè)壁外端的內(nèi)壁處設(shè)有與洗臉?biāo)⑺㈩^相安裝連接的連接鎖槽;3.為提高洗臉?biāo)⒃谑褂弥蟮乃畾庹舭l(fā)或揮發(fā)出去速度，使使用過后的洗臉?biāo)⑺a(chǎn)生的水液或護理液能夠達到更快速的的蒸發(fā)及揮發(fā)效果，防止了水液或護理液較長時間的停留在刷頭部分或刷毛體中，從而降低刷毛及洗臉?biāo)⒌漠a(chǎn)品使用壽命而采用的改進技術(shù)方案為：在防護罩主體的防護尾罩端面上設(shè)有若干個透氣通孔;4.為更大程度上提高洗臉?biāo)⑺㈩^護蓋在安裝或取下操作時防護側(cè)壁與手掌或手指之間的摩擦力作用，在安裝或取下操作時不易打滑，抓取更為牢固可靠更易受力，提高了安裝或取下刷頭護蓋的操作方便性及快捷性而采用的：防護蓋主體上具有與洗臉?biāo)⑺㈩^相安裝連接的防護側(cè)壁，防護側(cè)壁的外表面上設(shè)有磨砂層或凹凸的紋理層;因而可將這4個技術(shù)方案改進點分別作為4件單獨專利申請進行申請發(fā)明或?qū)嵱眯滦蛯＠?，然后再將這4個技術(shù)方案改進點作為4條各自獨立技術(shù)主線，分別對各技術(shù)方點再進行一步解剖與分析研究各自對應(yīng)更進一步改進技術(shù)創(chuàng)新點，比如對第1個技術(shù)方案中可對傾斜銳角的角度等技術(shù)點進行再深層次的分析研究限定從屬權(quán)利要求;可對第2個技術(shù)方案中連接鎖槽的形狀結(jié)構(gòu)及分布模式進行再深層次的分析研究限定從屬權(quán)利要求;可對第3個技術(shù)方案中透氣通孔結(jié)構(gòu)形狀與分布模式進行再更深層次的分析研究限定從屬權(quán)利要求;可對第4個技術(shù)方案中紋理層的形狀結(jié)構(gòu)及厚度以及分布關(guān)系等因素進行更深層次的分析研究限定從屬權(quán)利要求;從而可以較為有效合理的獲得一個洗臉?biāo)⑸w或者是一系列的洗臉?biāo)⑸w的專利申請保護，形成一個較為有效合理的專利保護壁壘，而不是僅僅為獲得一份專利證書而將這些技術(shù)方案改進點都累加放在同一份專利申請文件中。

參考文獻：

[1]北京市高級人民法院《專利侵權(quán)判定指南》2013年9月4日。

[2]中華人民共和國專利法（2020年修正） 2020年10月17日。