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        輻射電離效應(yīng)的激光模擬方法在半導(dǎo)體器件中的應(yīng)用

        2018-03-23 11:59:34彭鑫
        電子技術(shù)與軟件工程 2018年4期
        關(guān)鍵詞:半導(dǎo)體器件應(yīng)用

        彭鑫

        摘 要由于需要對(duì)半導(dǎo)體器件進(jìn)行安全快捷以及無(wú)損傷的切割,因此產(chǎn)生了輻射電離效應(yīng)的激光模擬方法,這種方法已經(jīng)得到了國(guó)際上的認(rèn)可。并且跟大型地面輻射模擬裝置相比,激光模式方法具有很多優(yōu)勢(shì),可作為重要的補(bǔ)充手段來(lái)展開(kāi)針對(duì)性的抗輻射加固設(shè)計(jì)來(lái)對(duì)半導(dǎo)體器件輻射效應(yīng)進(jìn)行深入研究,在理論和應(yīng)用方面都具有重要的意義。本文主要就γ射線、激光和半導(dǎo)體器件之間互相作用產(chǎn)生的電離效應(yīng)做簡(jiǎn)要分析,結(jié)合國(guó)內(nèi)外發(fā)展情況進(jìn)行了總結(jié),根據(jù)當(dāng)前研究存在的問(wèn)題展開(kāi)探討,以及對(duì)未來(lái)進(jìn)行的展望。

        【關(guān)鍵詞】輻射電離效應(yīng) 激光模擬 半導(dǎo)體器件 應(yīng)用

        電離效應(yīng)的產(chǎn)生是由于在應(yīng)用場(chǎng)景中存在的輻射因素與半導(dǎo)體材料之間進(jìn)行的相互作用關(guān)系,會(huì)對(duì)一些與半導(dǎo)體材料相關(guān)的電子器件或者是工作系統(tǒng)產(chǎn)生巨大的影響,甚至是發(fā)生失效并且無(wú)法恢復(fù)的情況。因此,對(duì)與輻射效應(yīng)的影響我們要進(jìn)行深入的認(rèn)識(shí)并且加強(qiáng)抗輻射技術(shù)的研究。

        在這之前,人們進(jìn)行模擬輻射環(huán)境的裝置主要是一些大型的地面裝置,常見(jiàn)的例如重離子和電子直線加速器等等來(lái)進(jìn)行對(duì)輻射效應(yīng)的研究,并且獲得了一定的成果。但是這些裝置都存在著一些缺點(diǎn),比如對(duì)測(cè)量的范圍有限制和不便于對(duì)實(shí)驗(yàn)參數(shù)進(jìn)行調(diào)節(jié)等等。對(duì)于測(cè)量出的信息也不準(zhǔn)確以及會(huì)對(duì)被測(cè)器件產(chǎn)生損壞,導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)人員無(wú)法在實(shí)驗(yàn)中進(jìn)行安全方便的實(shí)驗(yàn)研究。

        本文主要以激光模擬半導(dǎo)體器件γ射線輻射電離效應(yīng)為重點(diǎn),對(duì)激光模擬輻射電離效應(yīng)中存在的問(wèn)題進(jìn)行探討。

        1 國(guó)內(nèi)研究現(xiàn)狀與進(jìn)展

        我國(guó)是在21世紀(jì)初才開(kāi)始對(duì)激光模擬輻射電離效應(yīng)進(jìn)行關(guān)注,并且研究目標(biāo)大多是針對(duì)單粒子效應(yīng)的,其中包括了西北核技術(shù)研究所和中科院空間中心、中科院微電子所以及哈爾濱工業(yè)大學(xué)等。這些單位搭建激光模擬單粒子效應(yīng)系統(tǒng)的方式主要是通過(guò)自主研發(fā)或者是從國(guó)外進(jìn)行引進(jìn),并且對(duì)半導(dǎo)體器件等單粒子效應(yīng)定量能進(jìn)行一定的評(píng)估工作。但是目前國(guó)內(nèi)與國(guó)外取得成就的最大差距在于還沒(méi)有公開(kāi)發(fā)表的激光模擬劑量率效應(yīng)方面的研究。

        國(guó)內(nèi)外暫且都無(wú)沒(méi)有公開(kāi)文獻(xiàn)進(jìn)行關(guān)于激光模擬半導(dǎo)體器件中總劑量效應(yīng)的報(bào)道。但是根據(jù)美國(guó)SNL的文獻(xiàn)中我們可以知道,它對(duì)輻射場(chǎng)景中產(chǎn)生的低劑量率下的總劑量效應(yīng)是非常重視的,并且一直在進(jìn)行與其相關(guān)的研究。

        總的來(lái)說(shuō),對(duì)激光模擬半導(dǎo)體器件輻射電離效應(yīng)的研究,在很多實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目中都得到了應(yīng)用和發(fā)展。但這其中還存在的許多我們還沒(méi)有弄明白的專業(yè)性問(wèn)題,需要我們從實(shí)踐中繼續(xù)探究,對(duì)其進(jìn)行完善。隨著新的材料工藝和技術(shù)的不斷進(jìn)步和發(fā)展,需要我們對(duì)關(guān)于輻射電離效應(yīng)的研究進(jìn)一步加強(qiáng)來(lái)進(jìn)行有效的技術(shù)進(jìn)步和提升。

        2 半導(dǎo)體器件的γ射線輻射效應(yīng)

        γ射線與半導(dǎo)體器件相互作用時(shí)引發(fā)的輻射電離效應(yīng)主要包括以下幾類:第一種是瞬時(shí)脈沖γ射線電離半導(dǎo)體器件產(chǎn)生電子-空穴對(duì)的現(xiàn)象,被稱為瞬時(shí)劑量效應(yīng)對(duì)于該項(xiàng)目,國(guó)際上的研究已經(jīng)建立了可以預(yù)測(cè)高達(dá)1012rad(Si)/s的理論相應(yīng)模型,發(fā)現(xiàn)了非線性電離等現(xiàn)象的發(fā)生,還分析了高緯度的載流子輸運(yùn)過(guò)程;第二種是電離總劑量效應(yīng),主要是由于長(zhǎng)期輻射的累積效應(yīng)導(dǎo)致器件失效的過(guò)程。一般來(lái)說(shuō),總劑量效應(yīng)發(fā)生時(shí)間短的原因是因?yàn)檠趸锵葳咫姾砂l(fā)生了損傷,而界面陷阱電荷的損傷會(huì)導(dǎo)致長(zhǎng)時(shí)間總劑量輻射效應(yīng)的產(chǎn)生。根據(jù)近年來(lái)國(guó)外的研究發(fā)現(xiàn),雙極型器和CMOS器件的輻射損傷在長(zhǎng)期低劑量率的總劑量輻照下發(fā)生了明顯的加強(qiáng)。

        這兩種輻射效應(yīng)產(chǎn)生的效果都會(huì)對(duì)半導(dǎo)體器件和系統(tǒng)性能發(fā)生退化或者邏輯錯(cuò)誤的現(xiàn)象產(chǎn)生影響,甚至?xí)l(fā)生損壞后無(wú)法修復(fù)的情況發(fā)生,因此,在可能會(huì)發(fā)生這種輻射的場(chǎng)景中,研究人員必須要通過(guò)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證來(lái)進(jìn)行有效的加固措施。

        3 輻射效應(yīng)激光模擬存在的主要問(wèn)題和研究方法

        由于激光與半導(dǎo)體相互作用的原理和γ射線與半導(dǎo)體的作用原理之間的不同會(huì)導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)?zāi)M效果的呈現(xiàn)有一定的適用范圍和具有一定的差別。

        對(duì)于產(chǎn)生的瞬時(shí)劑量率效應(yīng),存在的差別主要是:

        (1)γ 射線具有的高能量和較強(qiáng)的穿透力,在半導(dǎo)體器件和系統(tǒng)中會(huì)產(chǎn)生在各個(gè)方向上基本一致的電離效果,而半導(dǎo)體是根據(jù)光子能量導(dǎo)致的對(duì)光的吸收系數(shù)強(qiáng)烈,影響模擬實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)確度的原因一般是半導(dǎo)體材料對(duì)光的吸收而產(chǎn)生的電離不均勻的情況;

        (2)器件中摻雜的類型和濃度對(duì)半導(dǎo)體對(duì)光的吸收系數(shù)和電離能,這也是造成電離不均勻的原因之一;

        (3)由于金屬對(duì)激光產(chǎn)生的較高的反射率導(dǎo)致的遮擋效應(yīng)也會(huì)造成電離不均勻;

        (4)由于,SiO2,Si3N4等介質(zhì)不能通過(guò)激光能量進(jìn)行完全的電離,因此對(duì)于存在這些介質(zhì)的器件產(chǎn)生不太滿意的模擬實(shí)驗(yàn)效果;

        (5)因?yàn)棣蒙渚€可以對(duì)空氣進(jìn)行電離,而激光不能,因此而造成一定的影響;

        (6)因?yàn)棣?射線產(chǎn)生的熱載流子具有較高的能量,而激光的光致載流子能力較低;

        (7)激光脈沖的形狀和脈寬到和γ射線脈沖很難做到完全相同。

        對(duì)激光場(chǎng)在器件內(nèi)的時(shí)間和強(qiáng)度特性以及空間分布的分析是激光模擬輻射電離效應(yīng)中的核心問(wèn)題,并且關(guān)于激光能力參數(shù)相對(duì)應(yīng)的等效劑量相對(duì)應(yīng)的數(shù)學(xué)模型的構(gòu)建,可以根據(jù)不同因素在半導(dǎo)體器件內(nèi)通過(guò)構(gòu)造和γ輻射場(chǎng)相近的激光場(chǎng)來(lái)進(jìn)行研究。

        現(xiàn)下已知的激光模擬輻射劑量率的主要范圍是108 rad(Si)/s~1012 rad(Si)/s。對(duì)于在這個(gè)范圍之外的激光模擬劑量率效應(yīng)研究只有極少數(shù),因此需要對(duì)激光模擬進(jìn)行更多更精細(xì)的完善措施。

        對(duì)于總劑量效應(yīng)來(lái)說(shuō),在長(zhǎng)期低劑量率下對(duì)半導(dǎo)體器件總劑量效應(yīng)進(jìn)行激光模擬實(shí)驗(yàn)主要會(huì)產(chǎn)生以下問(wèn)題:

        (1)激光能量與輻射劑量率的線性對(duì)應(yīng)關(guān)系下限具有的不確定性;

        (2)一般需要較長(zhǎng)的時(shí)間來(lái)對(duì)總劑量效應(yīng)的產(chǎn)生進(jìn)行研究,而很難有較長(zhǎng)的時(shí)間來(lái)進(jìn)行長(zhǎng)時(shí)間的模擬實(shí)驗(yàn)探究,因此還不能驗(yàn)證是否能夠提高激光能力來(lái)進(jìn)行有效的實(shí)驗(yàn)加速;

        (3)因?yàn)樵谠摥h(huán)境下發(fā)生實(shí)驗(yàn)效應(yīng)的場(chǎng)所含有無(wú)法被激光進(jìn)行有效電離的SiO2會(huì)使實(shí)驗(yàn)效果的準(zhǔn)確性與實(shí)際情況產(chǎn)生出入,需要我們繼續(xù)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)證明。

        4 結(jié)束語(yǔ)

        在文中我們主要是就該項(xiàng)研究在我國(guó)的發(fā)展現(xiàn)狀和問(wèn)題做出了簡(jiǎn)單的分析和探究,這是目前在國(guó)際上推崇的研究方向,而我國(guó)在該方面的發(fā)展和研究都還不夠完善,因此,應(yīng)盡快推出相關(guān)的研究,為相關(guān)領(lǐng)域的實(shí)際運(yùn)用提供一定的技術(shù)參考。

        參考文獻(xiàn)

        [1]楊善潮.齊超.劉巖.郭曉強(qiáng).金曉明.中子單粒子研究效應(yīng)現(xiàn)狀及進(jìn)展[J].強(qiáng)激光與粒子束,2015(11).

        [2]李沫,孫鵬,宋宇,代剛.張健.半導(dǎo)體器件輻射電離效應(yīng)的激光模擬方法[J].太赫茲科學(xué)與電子信息學(xué)報(bào),2015(01).

        [3]岳龍.張戰(zhàn)剛.何玉娟.郝明明.雷志峰. 激光束模擬劑量率效應(yīng)關(guān)鍵技術(shù)分析[J].太赫茲科學(xué)與電子信息學(xué)報(bào),2017(01).

        作者單位

        湖北省師范大學(xué)物理與電子科學(xué)學(xué)院 湖北省黃石市 435002

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