摘 要：建立以技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)促進(jìn)創(chuàng)新的創(chuàng)新路徑對(duì)打造電子信息制造業(yè)現(xiàn)代產(chǎn)業(yè)集群具有重要作用。以2008-2021年中國(guó)電子信息制造業(yè)上市企業(yè)為研究樣本，對(duì)參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)與企業(yè)專利質(zhì)量的關(guān)系進(jìn)行實(shí)證檢驗(yàn)發(fā)現(xiàn)，參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量存在正向影響，研發(fā)背景高管對(duì)上述關(guān)系起到正向調(diào)節(jié)作用，經(jīng)過穩(wěn)健性檢驗(yàn)后結(jié)論仍然成立。異質(zhì)性分析發(fā)現(xiàn)，企業(yè)規(guī)模越大，參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)越能夠促進(jìn)企業(yè)專利質(zhì)量的提升，東部地區(qū)企業(yè)參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的促進(jìn)作用更強(qiáng)。研究結(jié)論為電子信息制造業(yè)上市企業(yè)實(shí)現(xiàn)以標(biāo)準(zhǔn)促進(jìn)創(chuàng)新的路徑提供了參考。

關(guān)鍵詞：技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)；專利質(zhì)量；電子信息制造業(yè)；研發(fā)背景高管

中圖分類號(hào)中圖分類號(hào)：F273.1

文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A

DOIdoi：10.3969/j.issn.1672-2272.202404134

英文標(biāo)題Study on the Impact of Participation in the Formulation of Technical Standards on the Patent Quality of Enterprises

Su Ping1，2， Zhao Jun1，2

（1.Intellectual Property Research Center for Technological Innovation of Chongqing University of Technology， Chongqing 400054，China；

2.Chongqing Intellectual Property School， Chongqing University of Technology， Chongqing 400054，China）

英文摘要Abstract：The establishment of an innovation path to promote innovation by technical standards plays an important role in creating a modern industrial cluster of electronic information manufacturing industry. Taking the listed enterprises in China's electronic information manufacturing industry from 2008 to 2021 as the research sample， the relationship between participation in the formulation of technical standards and the quality of enterprise patents is empirically examined. It is found that participation in the formulation of national standards and industry standards has a positive effect on enterprise patent quality， and executives with Ramp;D background play a positive moderating role on the above relationship， and the conclusion still holds after the robustness test. Heterogeneity analysis shows that the larger the size of the enterprise，the more participation in technical standardization promotes the enhancement of the enterprise’s patent quality，and the participation of enterprises in technical standardization in the eastern region promotes the enterprise's patent quality more strongly.The findings of the study provide a reference for listed enterprises in the electronic information manufacturing industry to realize the path of promoting innovation by standards.

英文關(guān)鍵詞Key Words：Technical Standards; Patent Quality; Electronic Information Manufacturing; Ramp;D Background Executives

0 引言

2023年6月5月重慶市召開推動(dòng)制造業(yè)高質(zhì)量大會(huì)，首次提出打造“33618”現(xiàn)代制造業(yè)集群體系，升級(jí)制造業(yè)產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)，打造國(guó)家重要先進(jìn)制造業(yè)中心。其中包括以電子信息制造業(yè)為內(nèi)容的億萬(wàn)級(jí)制造業(yè)集群。同時(shí)2023年8月10日，工業(yè)和信息部以及財(cái)政部聯(lián)合印發(fā)的《電子信息制造業(yè)2023-2024年穩(wěn)增長(zhǎng)行動(dòng)方案》提出，“要持續(xù)做好電子信息技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)工作，強(qiáng)化先進(jìn)技術(shù)和標(biāo)準(zhǔn)融合，以高標(biāo)準(zhǔn)助力高技術(shù)創(chuàng)新”。表明國(guó)家對(duì)電子信息制造業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的重視程度，以及對(duì)以技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)推動(dòng)技術(shù)創(chuàng)新這一創(chuàng)新路線的肯定。

參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)能夠促進(jìn)企業(yè)績(jī)效[1]、產(chǎn)品質(zhì)量[2]以及市場(chǎng)績(jī)效的提升[3]。但參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)創(chuàng)新的影響，學(xué)界尚存爭(zhēng)議。有學(xué)者認(rèn)為參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)可以幫助企業(yè)積累技術(shù)知識(shí)[4]，加速技術(shù)的迭代。同時(shí)，制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)后，企業(yè)可以利用技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)實(shí)現(xiàn)規(guī)模經(jīng)濟(jì)[5]，提高研發(fā)投入。也有學(xué)者對(duì)參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)創(chuàng)新的促進(jìn)作用提出了質(zhì)疑，認(rèn)為擁有技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的企業(yè)會(huì)由于對(duì)現(xiàn)有技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的依賴，產(chǎn)生創(chuàng)新惰性從而抑制企業(yè)的創(chuàng)新[6]。也有學(xué)者認(rèn)為由于經(jīng)驗(yàn)證據(jù)不足，技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的鎖定效應(yīng)被過分強(qiáng)調(diào)，因此他們實(shí)證研究了電子信息行業(yè)，并得出技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)化的發(fā)展可以提升技術(shù)的多樣性，從而抵消技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的鎖定效應(yīng)[7]。學(xué)者們?cè)谘芯繀⑴c制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)創(chuàng)新的影響時(shí)多從定性的角度進(jìn)行分析，僅有少數(shù)學(xué)者從定量的角度研究[8-10]。

本文從專利質(zhì)量入手，以2008-2021年中國(guó)407家電子信息制造業(yè)上市企業(yè)為研究樣本，運(yùn)用OLS面板回歸模型分析參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的影響，同時(shí)考察研發(fā)背景高管在參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量影響中的調(diào)節(jié)作用。

1 理論分析與研究假設(shè)

1.1 參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的影響

根據(jù)資源基礎(chǔ)理論，企業(yè)可以通過尋求外部合作以獲取新資源從而提高競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)[11]，同時(shí)企業(yè)可以利用組織間的知識(shí)流動(dòng)機(jī)制獲取并學(xué)習(xí)知識(shí)從而提高創(chuàng)新能力[12]。技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)制定為信息交流和通過合作網(wǎng)絡(luò)獲得互補(bǔ)的研發(fā)資產(chǎn)提供了機(jī)會(huì)[13]。而標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)很難被沒有參與到標(biāo)準(zhǔn)制定過程中的主體所認(rèn)知，未參與技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)制定無(wú)法獲得與技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)參與者們之間交換的技術(shù)知識(shí)[14]。同時(shí)參與技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的各方在所屬技術(shù)領(lǐng)域具有一定的實(shí)力，企業(yè)可以通過參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)學(xué)習(xí)吸收其他企業(yè)的先進(jìn)知識(shí)，來彌補(bǔ)自身技術(shù)缺陷從而促進(jìn)企業(yè)整體的技術(shù)進(jìn)步，以進(jìn)一步提升其創(chuàng)新質(zhì)量。此外，合作制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)能夠降低研發(fā)失敗的風(fēng)險(xiǎn)，從而減少研發(fā)消耗。

在技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)制定之后，標(biāo)準(zhǔn)能直接或間接刺激創(chuàng)新[15]。標(biāo)準(zhǔn)制定者能夠有效地使用從其他標(biāo)準(zhǔn)那里獲得的技術(shù)規(guī)范[16]。主要表現(xiàn)在標(biāo)準(zhǔn)在位者可以利用不同類型標(biāo)準(zhǔn)從不同路徑促進(jìn)企業(yè)創(chuàng)新，如參與制定術(shù)語(yǔ)和信息標(biāo)準(zhǔn)能夠支持各利益相關(guān)方之間的有效溝通，降低溝通成本，提升研發(fā)效率，提高專利質(zhì)量。參與制定測(cè)量和測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)可以通過提供通用評(píng)估方法提高早期研究活動(dòng)的準(zhǔn)確性和效率。參與制定安全性標(biāo)準(zhǔn)可增強(qiáng)消費(fèi)者信心，產(chǎn)生積極的網(wǎng)絡(luò)外部效應(yīng)，從而擴(kuò)大市場(chǎng)與制造相關(guān)的標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品，形成規(guī)模經(jīng)濟(jì)，提升企業(yè)利潤(rùn)，激勵(lì)企業(yè)進(jìn)行更高水平的研發(fā)。

因此，本文認(rèn)為參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)能夠提高企業(yè)技術(shù)水平，降低研發(fā)風(fēng)險(xiǎn)，完善創(chuàng)新體系，提高企業(yè)知識(shí)獲取的數(shù)量和質(zhì)量，企業(yè)利用這些高質(zhì)量的知識(shí)，可以產(chǎn)生更高質(zhì)量的創(chuàng)新成果。而高質(zhì)量的創(chuàng)新成果主要以專利形式體現(xiàn)。

綜上所述，本文提出以下假設(shè)：

H1：參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量具有正向影響；

H2：參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量具有正向影響。

1.2 研發(fā)背景高管在參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量影響中的調(diào)節(jié)作用

高管的支持對(duì)企業(yè)創(chuàng)新有著重要作用。根據(jù)高階梯隊(duì)理論，企業(yè)的決策會(huì)受到管理者特征的影響[17]。具有研發(fā)背景的高管也會(huì)對(duì)企業(yè)的研發(fā)以及創(chuàng)新產(chǎn)生影響，他們往往具備深厚的技術(shù)背景和創(chuàng)新能力，能夠更好地理解和把握技術(shù)趨勢(shì)、市場(chǎng)需求，并帶領(lǐng)團(tuán)隊(duì)開展相關(guān)研發(fā)工作[18]，提升研發(fā)效率，還可以通過緩解企業(yè)的融資約束或者降低管理者的短視提高企業(yè)創(chuàng)新質(zhì)量[19-20]。由于高管背景特征會(huì)影響其價(jià)值取向和認(rèn)知[21]，因此具有研發(fā)背景的高管會(huì)更加注重企業(yè)的研發(fā)與創(chuàng)新。

在技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)制定的過程中，具有研發(fā)背景高管的企業(yè)能夠率先了解領(lǐng)先技術(shù)優(yōu)勢(shì)，從而投入研發(fā)，在技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)合作中占據(jù)更高的地位。技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的制定往往需要某一技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)多家企業(yè)進(jìn)行合作，在標(biāo)準(zhǔn)合作中，不同企業(yè)對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)的重視程度存在差異，相比于沒有研發(fā)背景的高管的企業(yè)，擁有有研發(fā)背景高管的企業(yè)對(duì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)會(huì)更加重視，因此會(huì)在企業(yè)制定標(biāo)準(zhǔn)的過程中投入更多的資源，在標(biāo)準(zhǔn)制定中獲得更多的話語(yǔ)權(quán)，從而有效地利用標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)一步創(chuàng)新。再者，技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)具有時(shí)效性，當(dāng)擁有技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的企業(yè)被市場(chǎng)中的競(jìng)爭(zhēng)者通過研發(fā)獲得同等水平甚至是遠(yuǎn)超標(biāo)準(zhǔn)水平的技術(shù)時(shí)，企業(yè)的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)可能會(huì)被其他擁有先進(jìn)技術(shù)的企業(yè)所代替，從而使企業(yè)喪失標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品的技術(shù)和市場(chǎng)優(yōu)勢(shì)。具有研發(fā)背景的高管對(duì)先進(jìn)的技術(shù)具有敏銳的洞察力[22]，研發(fā)背景高管的研發(fā)經(jīng)歷能夠讓企業(yè)認(rèn)識(shí)到競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手中可能存在替代標(biāo)準(zhǔn)的技術(shù)，從而在被替代之前對(duì)標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)進(jìn)行更深層次的研發(fā)，產(chǎn)出高質(zhì)量創(chuàng)新成果，保持標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)的領(lǐng)先地位。

高管團(tuán)隊(duì)經(jīng)驗(yàn)是認(rèn)知的重要影響因素，認(rèn)知有助于提高高管團(tuán)隊(duì)在不確定和模糊環(huán)境下的信息處理能力，促進(jìn)組織內(nèi)部的高效溝通，從而獲得內(nèi)部組織支持和外部戰(zhàn)略資源[23]。研發(fā)背景的高管通常具有更好的技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)能力和團(tuán)隊(duì)管理經(jīng)驗(yàn)，能夠有效地協(xié)調(diào)和整合企業(yè)內(nèi)部的研發(fā)資源，推動(dòng)團(tuán)隊(duì)間的協(xié)作和創(chuàng)新活動(dòng)[24]。通過高管的引領(lǐng)和支持，企業(yè)研發(fā)團(tuán)隊(duì)可以更好地利用技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)制定的機(jī)會(huì)，加強(qiáng)創(chuàng)新合作，提高專利質(zhì)量和創(chuàng)新效率。

因此，本文提出以下假設(shè)：

H3：研發(fā)背景高管正向調(diào)節(jié)參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的促進(jìn)作用；

H4：研發(fā)背景高管正向調(diào)節(jié)參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的促進(jìn)作用。

1.3 數(shù)據(jù)來源

本文選取2008-2021年中國(guó)電子信息制造業(yè)上市企業(yè)，數(shù)據(jù)主要來源于國(guó)泰安數(shù)據(jù)庫(kù)以及Incopat數(shù)據(jù)庫(kù)。本文對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行如下篩選：①剔除樣本時(shí)間區(qū)間內(nèi)ST以及*ST的企業(yè)，剔除該類企業(yè)的原因是該類企業(yè)虧損或有財(cái)務(wù)造假的情況會(huì)導(dǎo)致樣本失真；②剔除變量存在較多缺失值的企業(yè);③剔除在樣本截止年份上市的企業(yè)。經(jīng)過數(shù)據(jù)整理后最終得到407家電子信息制造業(yè)上市企業(yè)的數(shù)據(jù)，為避免異常值的影響，本文對(duì)所有連續(xù)變量進(jìn)行了1%的縮尾處理。

2 研究設(shè)計(jì)

2.1 變量的定義與選取

2.1.1 被解釋變量

近年來相關(guān)學(xué)者從各個(gè)角度對(duì)專利質(zhì)量測(cè)度進(jìn)行了研究，部分學(xué)者運(yùn)用單一的方法如專利維持年限、專利被引用數(shù)量[8，25]；部分學(xué)者采用綜合方法衡量企業(yè)專利質(zhì)量[26-27]；張杰等[28]首次利用國(guó)際專利分類（IPC）定義的知識(shí)寬度法測(cè)度專利質(zhì)量后，有學(xué)者[29-32]借鑒該方法進(jìn)行相關(guān)研究。

本文認(rèn)為專利申請(qǐng)人難以憑借未獲得授權(quán)的專利申請(qǐng)行使其對(duì)自己智力成果享有的權(quán)利，因此專利質(zhì)量應(yīng)當(dāng)在專利已獲得授權(quán)的范圍下討論。同時(shí)本文結(jié)合研究設(shè)計(jì)，考慮專利質(zhì)量的衡量應(yīng)當(dāng)以專利文本所記載的技術(shù)內(nèi)容為依據(jù)。本研究主要從專利的技術(shù)水平來評(píng)價(jià)專利質(zhì)量，而來自專利審查員以及該專利相關(guān)技術(shù)的其他發(fā)明人的引用是對(duì)該專利技術(shù)一定程度上的認(rèn)可，專利被引用的數(shù)量越多，表明專利技術(shù)影響力越高，反映專利真實(shí)的技術(shù)水平。因此本文參考龍小寧等[33]的研究，以對(duì)數(shù)化處理后的公司獲得授權(quán)的專利被引用數(shù)量衡量企業(yè)專利質(zhì)量。

2.1.2 解釋變量

由于標(biāo)準(zhǔn)信息統(tǒng)計(jì)目前還需完善，技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的類別以及用途等信息還未做詳細(xì)區(qū)分，因此本文以參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的數(shù)量來衡量企業(yè)參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，其包含企業(yè)制定新的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的數(shù)量以及代替其他技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的數(shù)量，這體現(xiàn)了企業(yè)制定新標(biāo)準(zhǔn)和更新標(biāo)準(zhǔn)的能力。

2.1.3 調(diào)節(jié)變量

根據(jù)已有研究[34]，選擇有高?；蛘呖蒲性核蒲泄ぷ鹘?jīng)歷，或者曾經(jīng)從事企業(yè)研發(fā)工作的經(jīng)歷為研發(fā)背景高管。

2.1.4 控制變量

參考周青等[3]、郭玥[35]、凌士顯等[36]、吳堯等[37]的研究，選擇企業(yè)規(guī)模（Size）、企業(yè)年齡（Age）、研發(fā)投入（RD）、創(chuàng)新政策補(bǔ)貼（RDsusidy）、盈利能力（ROA）、償債能力（Debat）為控制變量，加入回歸模型中。各變量具體的定義以及測(cè)度方式如表1所示。

2.2 模型構(gòu)建

為了檢驗(yàn)本文的假設(shè)H1、H2，本文構(gòu)建了以下模型（1）、（2）：

Patquantityi，t=α0+α1Countrystani，t+α5Sizei，t+α3Agei，t+α5RDi，t+α4RDsusidyi，t+α6ROAi，t+α7Debati，t+α8SOEi，t+ηt+ηind+εi，t（1）

Patquantityi，t=β0+β1Industrystani，t+β2Sizei，t+β3Agei，t+β4RDi，t+β5RDsusidy+β6ROAi，t+β7Debati，t+β8SOEi，t+ηi+ηt+εi，t（2）

Patquantity表示為被解釋變量專利質(zhì)量，i與t分別表示企業(yè)以及年份，α和β表示各變量待估計(jì)的參數(shù)，Countrystan以及Industrystan表示企業(yè)i在t年參與的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)以及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)數(shù)量，為了避免變量帶來的內(nèi)生性問題，本文加入了企業(yè)規(guī)模（Size）、企業(yè)年齡（Age）、研發(fā)投入（RD）、政府創(chuàng)新補(bǔ)助（RDsusidy）、資產(chǎn)利潤(rùn)率（ROA）、資產(chǎn)負(fù)債率（Debat）以及企業(yè)性質(zhì)（SOE），ηi、ηt分別表示企業(yè)層面以及年份層面的固定效應(yīng)以控制個(gè)體不隨時(shí)間變化的差異，以及不隨個(gè)體變化但隨時(shí)間而變化的遺漏變量的問題。為了保障模型的合理性，εi，t為隨機(jī)誤差項(xiàng)。

為檢驗(yàn)本文假設(shè)H3、H4，本文設(shè)定了以下模型：

Patquantityi，t=γ0+γ1Countrystani，t+γ3Countrystani，t×Manageri，t+γ2Manageri，t+γ4Controli，t+ηi+ηt+εi（3）

Patquantityi，t=δ0+δ1Industrystani，t+δ3Industrystani，t×Manageri，t+δ2Manageri，t+δ4Controli，t+ηi+ηt+εi （4）

其中，γ和δ表示各變量待估計(jì)的參數(shù)，Manageri，t為調(diào)節(jié)變量，表示企業(yè)i在第t年時(shí)有研發(fā)背景的高管的個(gè)數(shù)，Controli，t表示前文中提到的控制變量的集合，其他變量符號(hào)的具體含義與前文描述相同。為了避免異方差帶來的影響，本文使用穩(wěn)健標(biāo)準(zhǔn)誤進(jìn)行估計(jì)。

3 參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量影響的實(shí)證分析

3.1 變量描述性統(tǒng)計(jì)

如表2所示，本文主要對(duì)被解釋變量、解釋變量以及調(diào)節(jié)變量進(jìn)行分析，專利質(zhì)量的最大值為7.034，最小值為0，說明電子信息制造業(yè)上市專利質(zhì)量存在著較大差距，解釋變量參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的均值為0.285，最大值為6，最小值為0；參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的均值為0.142，最大值為4，最小值為0。研發(fā)背景高管均值為1.966，說明我國(guó)電子信息制造業(yè)上市企業(yè)具有研發(fā)背景高管水平較高，但最大值為8，最小值為0，標(biāo)準(zhǔn)差為1.73，說明我國(guó)電子信息制造業(yè)上市企業(yè)之間對(duì)于研發(fā)高管的重視程度存在較大差異。

3.2 基準(zhǔn)回歸

表3中列（1）、（2）匯報(bào)了參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)以及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的影響結(jié)果，結(jié)果顯示，參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)與參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的影響系數(shù)分別為0.049、0.091，且均在1%水平上顯著為正，說明企業(yè)每參與制定一個(gè)單位的國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，企業(yè)專利質(zhì)量就會(huì)提升0.049%或0.091%，初步驗(yàn)證了本文假設(shè)H1與H2；同時(shí)，參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的回歸系數(shù)大于參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的回歸系數(shù)，說明了參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的促進(jìn)作用強(qiáng)于參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的促進(jìn)。表3列（3）、（4）匯報(bào)了研發(fā)背景高管在企業(yè)參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的影響結(jié)果，交互項(xiàng)的系數(shù)均為正數(shù)，且均在1%水平下顯著，說明研發(fā)高管能夠正向調(diào)節(jié)企業(yè)參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的促進(jìn)作用。初步驗(yàn)證了本文假設(shè)H3與H4。

3.3 穩(wěn)健性檢驗(yàn)

3.3.1 替換被解釋變量

有學(xué)者認(rèn)為專利自引可能會(huì)虛增企業(yè)“專利”價(jià)值[38]，從而造成對(duì)專利質(zhì)量錯(cuò)誤的度量，因此本文將剔除專利自引后的專利被引用數(shù)量作為衡量專利質(zhì)量（Patquantity1）的指標(biāo)，進(jìn)行回歸分析，結(jié)果如表4。表4中列（1）、（2）、（3）、（4）顯示，在更換解釋變量后，參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)以及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)專利質(zhì)量的影響均在1%的水平下顯著，同時(shí)調(diào)節(jié)效應(yīng)仍然顯著證明了基準(zhǔn)回歸具有穩(wěn)健性。

3.3.2 滯后一期檢驗(yàn)

考慮到參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利的質(zhì)量的影響可能存在時(shí)滯效應(yīng)，本文將參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)與參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)滯后一期進(jìn)行穩(wěn)健性檢驗(yàn)。結(jié)果如表5所示，滯后一期的解釋變量以及滯后一期的解釋變量與調(diào)節(jié)變量的交互項(xiàng)仍然在1%的水平下顯著為正，證明了回歸結(jié)果的穩(wěn)健性。

3.3.3 傾向得分匹配

為了緩解樣本自選擇帶來的內(nèi)生性問題，本文采用傾向得分匹配的方法進(jìn)行回歸估計(jì)，首先將在樣本時(shí)間區(qū)間內(nèi)參與過制定國(guó)家技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)或者行業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的企業(yè)賦值為1，作為處理組，沒有參與過制定國(guó)家技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)或行業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的企業(yè)賦值為0，作為控制組，作為處理變量。同時(shí)，將本文的控制變量企業(yè)規(guī)模、企業(yè)年齡、研發(fā)投入、政府創(chuàng)新補(bǔ)貼、盈利能力以及企業(yè)負(fù)債設(shè)置為匹配變量。采用1對(duì)1精確匹配、1∶2臨近匹配、半徑匹配、核匹配、局部線性匹配、馬氏匹配、樣條匹配分別進(jìn)行傾向得分匹配，使用Logit模型進(jìn)行擬合。表6與表7分別是以參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)與參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)為處理變量的傾向得分匹配的結(jié)果，從表6與表7的列（1）、（2）、（3）、（4）、（5）、（6）、（7）可以看出，采用不同匹配方法匹配后的處理組與非處理組的平均處理效應(yīng)均顯著，有效緩解了因?yàn)闃颖咀赃x擇帶來的內(nèi)生性問題。

3.4 異質(zhì)性檢驗(yàn)

3.4.1 企業(yè)規(guī)模異質(zhì)性

相較于小規(guī)模企業(yè)，規(guī)模較大的企業(yè)能夠投入更多資源參與標(biāo)準(zhǔn)的制定，同時(shí)在制定標(biāo)準(zhǔn)后，大規(guī)模的企業(yè)也具有足夠的成本在標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)的基礎(chǔ)上進(jìn)行更進(jìn)一步的研發(fā)，產(chǎn)出更高質(zhì)量的專利，本文基于基準(zhǔn)回歸，將參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)與企業(yè)規(guī)模的交互項(xiàng)（Countrystan×Size）與（Industrystan×Size）加入到回歸模型中。表8列（1）結(jié)果顯示，參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)數(shù)量與企業(yè)規(guī)模變量的交互項(xiàng)的系數(shù)為0.031，且在1%統(tǒng)計(jì)水平上通過顯著性檢驗(yàn)，表明了相較于小規(guī)模企業(yè)，規(guī)模更大的企業(yè)參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)更能夠促進(jìn)企業(yè)專利質(zhì)量的提升。表8列（2）顯示，參與行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)數(shù)量與企業(yè)規(guī)模變量的交互項(xiàng)的系數(shù)為0.045，且在1%的水平上通過顯著性檢驗(yàn)，表明相比于小規(guī)模企業(yè)，規(guī)模更大的企業(yè)參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)更能夠促進(jìn)企業(yè)專利質(zhì)量的提升。

3.4.2 地區(qū)異質(zhì)性

不同區(qū)域的經(jīng)濟(jì)發(fā)展水平不同，政府招商引資的能力也不同，電子信息制造業(yè)企業(yè)的數(shù)量也會(huì)存在一定差距。東部地區(qū)的電子信息制造業(yè)企業(yè)數(shù)量較多，企業(yè)實(shí)力也更強(qiáng)，當(dāng)從事相同的活動(dòng)時(shí)，發(fā)達(dá)地區(qū)的企業(yè)獲得的收益往往高于欠發(fā)達(dá)的地區(qū)。因此本文將樣本企業(yè)所在的23個(gè)省及直轄市分為東部、中部和西部3份樣本，東部地區(qū)包括北京、上海、廣東、天津、北京等10個(gè)省份，中部為河南、安徽、湖南等共8個(gè)省份，西部地區(qū)為重慶、四川、陜西等5個(gè)省份，比較不同地區(qū)企業(yè)參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)以及行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的制定對(duì)于企業(yè)專利質(zhì)量的影響是否存在差異。

如表9列（1）、（2）、（3）所示，分組回歸后，只有位于東部地區(qū)企業(yè)參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量影響的系數(shù)為正，并在1%水平上顯著，而中部和西部地區(qū)企業(yè)參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的影響均不顯著。表10列（4）、（5）、（6）所示，位于東部和中部的企業(yè)參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)能對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的影響系數(shù)均為正，且均在1%水平上顯著，但西部地區(qū)企業(yè)參與行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的制定對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量影響不顯著。

4 結(jié)論、啟示與展望

4.1 研究結(jié)論

本文以2008-2021年我國(guó)電子信息制造業(yè)上市企業(yè)為樣本，運(yùn)用個(gè)體時(shí)間雙向固定模型檢驗(yàn)了參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的影響，并利用替換被解釋變量、解釋變量滯后一期以及傾向得分匹配的方法檢驗(yàn)了結(jié)果的穩(wěn)健性與內(nèi)生性。本文得出如下主要結(jié)論。

一是企業(yè)參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)能夠正向影響企業(yè)專利質(zhì)量。主要由于參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)的過程中，企業(yè)能夠與其他同樣具備較高技術(shù)水平的企業(yè)進(jìn)行合作，獲得先進(jìn)的技術(shù)知識(shí)，提高企業(yè)專利質(zhì)量。同時(shí)，國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)是對(duì)技術(shù)發(fā)展具有重大意義的標(biāo)準(zhǔn)，在制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的過程中，企業(yè)能夠不斷完善自己的技術(shù)，積累充足的技術(shù)經(jīng)驗(yàn)，從而提高技術(shù)創(chuàng)新能力，進(jìn)而提高企業(yè)專利質(zhì)量。最后，參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)后電子信息制造業(yè)企業(yè)能夠在行業(yè)內(nèi)和消費(fèi)者之間產(chǎn)生廣泛的影響力，促進(jìn)技術(shù)產(chǎn)品的銷售，實(shí)現(xiàn)規(guī)模經(jīng)濟(jì)，企業(yè)因此能夠加大研發(fā)投入，間接提升企業(yè)的專利質(zhì)量。

二是企業(yè)參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)能夠正向影響企業(yè)專利質(zhì)量。第一，行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)能夠一定程度上代表該行業(yè)的最高技術(shù)水平，電子信息制造業(yè)企業(yè)參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)能夠與同行業(yè)優(yōu)秀的企業(yè)進(jìn)行合作，了解行業(yè)前沿技術(shù)，從而進(jìn)行針對(duì)性的研發(fā)，提高企業(yè)專利質(zhì)量。第二，參與行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)能夠規(guī)范企業(yè)自身的研發(fā)、生產(chǎn)流程，提升研發(fā)、生產(chǎn)效率，從而提升企業(yè)的專利質(zhì)量。第三，參與制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)時(shí)企業(yè)可以積極表達(dá)自身訴求，提升在行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)中的影響，減少適應(yīng)標(biāo)準(zhǔn)的帶來的損耗，從而間接提高專利質(zhì)量。

三是研發(fā)背景高管能夠正向調(diào)節(jié)參與標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的促進(jìn)作用。研發(fā)背景高管能夠調(diào)動(dòng)企業(yè)具體參與標(biāo)準(zhǔn)制定的員工的積極性，使其能夠在制定標(biāo)準(zhǔn)的過程中，積極與其他標(biāo)準(zhǔn)制定人員交流溝通，獲取更多技術(shù)信息，從而提升企業(yè)的專利質(zhì)量。具有研發(fā)背景的高管對(duì)于企業(yè)產(chǎn)品的技術(shù)領(lǐng)域較為熟悉，能夠更加了解如何利用現(xiàn)有的標(biāo)準(zhǔn)資源實(shí)現(xiàn)進(jìn)一步的創(chuàng)新，從而實(shí)現(xiàn)專利質(zhì)量的提升。

四是規(guī)模越大的企業(yè)參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)更能夠促進(jìn)企業(yè)專利質(zhì)量的提升，可能因?yàn)橹贫夹g(shù)標(biāo)準(zhǔn)需要投入大量的研發(fā)投入以及人力資源投入，還可能面臨研發(fā)失敗的風(fēng)險(xiǎn)，小規(guī)模的企業(yè)可能缺少足夠的資源制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，只投入少量的資源，獲取和積累的技術(shù)知識(shí)也較少，因此對(duì)專利質(zhì)量的促進(jìn)作用也較弱。

五是東部地區(qū)企業(yè)參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的促進(jìn)作用更強(qiáng)。中部和西部地區(qū)電子信息制造業(yè)的企業(yè)較少，無(wú)法形成像東部企業(yè)一樣的創(chuàng)新集群，在參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)活動(dòng)中缺少足夠的技術(shù)交流，導(dǎo)致參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的促進(jìn)作用不明顯。而相較于西部地區(qū)，中部地區(qū)企業(yè)能夠獲得政府一定的支持，同時(shí)企業(yè)本身具有一定技術(shù)能力，可能缺少參與制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)實(shí)力，但有能力參與行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的制定，因此中部地區(qū)的企業(yè)將自身資源投入到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的制定中，而行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)具有專業(yè)性、實(shí)用性和靈活性，因此制定行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)能夠提升中部企業(yè)專利質(zhì)量。

4.2 管理啟示

首先企業(yè)應(yīng)當(dāng)建立標(biāo)準(zhǔn)化戰(zhàn)略，積極參與標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)制定，促進(jìn)企業(yè)專利質(zhì)量提升，從而實(shí)現(xiàn)企業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。其次，政府應(yīng)當(dāng)完善國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化體系，合理配置行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)與國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)制定資源，實(shí)現(xiàn)制定國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)和行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)帶來的收益最大化。

同時(shí)，政府應(yīng)當(dāng)制定中小企業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)鼓勵(lì)政策，激勵(lì)中小企業(yè)參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，以提高中小企業(yè)的創(chuàng)新水平。再者，中西部地區(qū)政府應(yīng)當(dāng)積極推動(dòng)電子信息制造業(yè)的發(fā)展，提升中西部地區(qū)電子信息制造業(yè)企業(yè)實(shí)力，使得中西部地區(qū)電子信息制造業(yè)企業(yè)能夠有足夠的資源投入到參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)的活動(dòng)中，以實(shí)現(xiàn)企業(yè)的持續(xù)創(chuàng)新。最后，企業(yè)要加強(qiáng)創(chuàng)新型人才引進(jìn)與培育，保障企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化戰(zhàn)略的有效實(shí)施，以及標(biāo)準(zhǔn)活動(dòng)收益的最大化。

4.3 不足與展望

首先，部分樣本存在缺失。本文在收集數(shù)據(jù)時(shí)發(fā)現(xiàn)，距離樣本觀測(cè)截止年份較遠(yuǎn)的上市公司未披露如研發(fā)投入、政府補(bǔ)助等信息，從而造成本文所需樣本缺失，隨著我國(guó)企業(yè)會(huì)計(jì)準(zhǔn)則逐漸完善，近年來企業(yè)披露的信息越來越全面，因此未來的研究可以在相關(guān)研究數(shù)據(jù)充足的情況下進(jìn)行更完善的研究。其次，研究深度與研究廣度不足。本文雖然從高管研發(fā)背景的調(diào)節(jié)效應(yīng)角度探討了企業(yè)參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)專利質(zhì)量的影響，但未能找到較好的中介機(jī)制。因此未來研究可以從多角度探索企業(yè)參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)專利質(zhì)量的影響機(jī)制；同時(shí)，從其他異質(zhì)性角度分析參與制定技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)對(duì)企業(yè)專利質(zhì)量的影響。

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責(zé)任編輯（責(zé)任編輯：吳 漢）