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        用第一性原理研究Cr摻雜VO2的相變溫度和電子結(jié)構(gòu)

        2022-12-09 12:56:30萬金玉李雪嬌
        化學研究 2022年6期
        關(guān)鍵詞:鏈長帶隙晶胞

        萬金玉,李雪嬌

        (1. 泉州醫(yī)學高等專科學校,福建 泉州 362000; 2. 中國科學院上海應(yīng)用物理研究所,上海 201800)

        VO2是研究最廣泛的熱致變色應(yīng)用材料之一[1-3],單斜相VO2(M1相)的電子帶隙為0.60 eV[4],表現(xiàn)為半導體特征,M1相VO2在臨界溫度Tc(≈340 K)下表現(xiàn)出完全可逆的半導體-金屬相變(MIT)。近年來,由于智能窗口在建筑上具有大規(guī)模應(yīng)用的趨勢,熱致變色VO2薄膜引發(fā)了大量關(guān)注。但VO2(M1)的相變溫度Tc(340 K)比室溫(298K)高,在智能窗涂層的實際應(yīng)用中遭遇到了阻礙。為了滿足實際應(yīng)用的需求,有很多方法可以降低相變溫度,例如元素摻雜[5]、外部加壓[6]、形成點缺陷[7]等。在這些方法中,元素摻雜是修飾半導體材料電子結(jié)構(gòu)最常用的方法之一,也是改變VO2相變溫度的有效方法,元素摻雜一般是通過控制摻雜比改變帶隙Eg1和Eg2從而改變相變溫度。例如氮在NH3氣氛中通過熱處理合成高純度氮摻雜VO2(M1)薄膜,VO2金屬相到絕緣相的相變溫度從80.0 ℃降低到62.9 ℃[8]。一般情況下,摻雜高價金屬陽離子可以降低相變溫度,摻雜低價金屬陽離子可以提升相變溫度。通過改變鎢的摻雜濃度,鎢摻雜VO2的相變溫度變化范圍為15~68 ℃[9],摻雜Sr增加了帶隙寬度,使薄膜呈現(xiàn)灰色,而W和Sr共摻雜使光透射率和太陽能透光率滿足應(yīng)用要求。Zr[10]摻雜VO2后的薄膜可見光透過率增加,其相變溫度也降低到64.3 ℃。對于摻雜引起相變溫度變化的原因,Booth等[11]和Tan等[12]分別研究了鎢摻雜VO2,認為鎢原子摻雜VO2引起的結(jié)構(gòu)畸變是導致相變的主要原因。在我們以前的研究中發(fā)現(xiàn),鹵素(F、Cl、Br、I)原子摻雜的VO2體系,Cl原子摻雜也能有效降低VO2的相變溫度[13]。

        一些課題組對Cr原子摻雜VO2也進行了研究,Zou等[14]采用溶膠-凝膠法成功地制備了Cr原子摻雜二氧化釩薄膜,隨后自旋涂覆在Al2O3或ITO襯底上,結(jié)果表明,14%濃度的Cr原子摻雜VO2薄膜比純VO2薄膜的太陽能調(diào)節(jié)能力(ΔTsol)低(從11.0%降低到0.6%),可見光透射率(Tlum)也從23.8%降低到4.0%。 Pan等[15]利用基于局部密度近似(LDA)的第一性原理計算方法,對Cr原子摻雜VO2(R相)結(jié)構(gòu)的影響進行了理論研究,結(jié)果顯示Cr原子摻雜VO2(R相)會導致晶體單元內(nèi)體積收縮,這可能與相變溫度有關(guān)。Ji等[16]利用直流反應(yīng)性磁控濺射技術(shù)在硅襯底上成功制備了Cr原子摻雜VO2薄膜,研究了Cr原子摻雜引起的VO2(M2相)薄膜的太赫茲透射率和金屬-絕緣體相變特性,研究結(jié)果表明,適量濃度Cr原子摻雜二氧化釩薄膜具有很大的太赫茲調(diào)制應(yīng)用潛力。本文主要研究Cr原子摻雜VO2的相變溫度和電子結(jié)構(gòu)。

        關(guān)于VO2的帶隙,Goodenough研究表明,通過八面體晶體場,V的3d態(tài)電子分裂成eg和t2g,空的軌道形成反鍵σ*能帶,t2g靠近費米能級(EF)分裂出一個π*和d||[17]。對于M1相VO2,d||能帶分裂成了一個d||滿帶和一個空的反鍵d||*帶,π*能帶從費米能級上來打開了帶隙[18-19],本文稱π*和d||之間的帶隙為Eg1,表示直接帶隙,而π*與O2的pπ軌道之間的間隙為Eg2,表示光學帶隙,Eg1與相變溫度有關(guān),Eg2與可見光透過率和顏色有關(guān)。對于R相VO2,d||和π*能帶的重疊導致軌道各向同性金屬態(tài)。

        1 計算部分

        1.1 計算方法和計算模型

        計算采用VASP[20-21]以及VASPKIT[22]軟件,用PAW[23]方法描述離子電子和價電子之間的相互作用,用PBE處理電子-電子相互作用的交換相關(guān)能,截斷能是600 eV,能量和力的收斂標準分別是1×10-4eV/atom和0.01 eV。對于V 3d的電子相關(guān)性用DFT+U計算,U=3.4 eV。根據(jù)Andersson[24-25]的實驗數(shù)據(jù),M1-VO2的晶體常數(shù)是a= 0.574 3 nm,b= 0.451 7 nm,c= 0.537 5 nm,α= 90°,β= 122.61°,γ= 90°,空間群是P21/c。根據(jù)McWhan[26]的實驗數(shù)據(jù),在a軸方向,V-V 鏈長分別是0.312 5 nm和0.265 4 nm。R-VO2的晶體常數(shù)是a=b= 0.455 5 nm,c= 0.285 1 nm,α=β=γ= 90°,空間群是P42/mnm。在計算中,M1相采用2×2×2的超晶胞結(jié)構(gòu),R相采用2×2×4的超晶胞結(jié)構(gòu),兩種超晶胞結(jié)構(gòu)都包含32個V原子和64個O原子。Cr原子替代V原子或以八面體間隙摻雜來摻雜VO2,替代摻雜以CrV31O64來表示,間隙摻雜以CrV32O64來表示。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 結(jié)構(gòu)優(yōu)化

        表1是計算的純VO2的2×2×2超晶胞、Cr原子替代VO2一個V原子的CrV31O64體系和Cr原子間隙摻雜VO2的CrV32O64體系的結(jié)構(gòu)優(yōu)化參數(shù)與實驗數(shù)據(jù)進行對比,通過對比發(fā)現(xiàn),理論計算的純VO2晶體常數(shù)和體積(1.128 1 nm、0.920 3 nm、1.082 8 nm、0.953 79 nm3)與實驗值(轉(zhuǎn)化成超晶胞為1.148 6 nm、0.903 4 nm、1.075 0 nm、0.939 73 nm3)比較相差不大,相對于實驗數(shù)據(jù),計算值變化最大的是a減小了1.78%,體積增加了1.49%,結(jié)構(gòu)參數(shù)變化在一個合理的范圍。α、β和γ值變化最大的是β值,相比實驗值減小了0.53%。從表中可以看出,兩種摻雜體系的β值相對于純VO2都有所減小,體積都有所增加,其中間隙摻雜體系由于多了一個Cr原子,體積增加的最多,根據(jù)Sun等[27]的研究表明,β值減小和體積增加與相變溫度降低有關(guān)。

        表1 純VO2和摻雜體系的結(jié)構(gòu)優(yōu)化數(shù)據(jù)與實驗值的對比

        圖1是計算的VO2的V-V鏈長,對于VO2R相,V-V鏈長都是0.277 5 nm(圖1d),VO2M1相中,V原子間形成 V-V二聚體,其中,對于純VO2中的短、長V-V鏈長分別為0.250 9 nm、0.317 4 nm(圖1a),Cr原子對VO2M1和R相摻雜后,VO2R相固定的鏈長和M1相兩種鏈長交替出現(xiàn)的現(xiàn)象發(fā)生改變,但是M1相的長鏈都小于0.317 4 nm,短鏈都大于0.250 9 nm,R相也不再只存在一種鏈長。這種改變減小了VO2R相和M1相之間的結(jié)構(gòu)差異,從而降低相變溫度。

        圖1 VO2 M1相和R相的V-V鏈長: (a)純VO2 M1相; (b) CrV31O64 (M1); (c) CrV32O64(M1); (d)純VO2 R相; (e) CrV31O64 (R); (f) CrV32O64 (R)

        2.2 相變溫度

        根據(jù)Netsianda等[28]的文獻,相變溫度Tc可以由公式1計算獲取:

        Tc=Tc,0(ΔH/ΔH0)

        (1)

        ΔTc=Tc-Tc,0

        (2)

        其中Tc,0是純VO2的相變溫度340 K,ΔH0是純VO2在相變過程中的焓變,ΔH是VO2摻雜體系在相變過程中的焓變,在忽略0 K時熵的貢獻以及凝聚態(tài)的pV項時,焓近似等于亥姆霍茲自由能。Cr原子替代摻雜VO2的形成亥姆霍茲自由能可以用公式3表示[27],其中等式右邊原子和晶胞的U值是通過DFT計算獲得的自由能。

        ΔfU[CrV31O64]={U[CrV31O64]-31×U[V]

        -U×[Cr]-64×U[O]}

        (3)

        Cr原子間隙摻雜VO2的形成亥姆霍茲自由能可以用公式4表示:

        ΔfU[CrV32O64]={U[CrV32O64]-32×U[V]

        -U×[Cr]-64×U[O]}

        (4)

        通過計算,如表2所示,所有體系M1相的形成亥姆霍茲自由能都比對應(yīng)的R相的亥姆霍茲自由能要小,說明M1相在低溫下更穩(wěn)定。通過計算,Cr原子替代摻雜VO2體系的相變溫度為315 K,Cr間隙摻雜VO2體系的相變溫度為238 K,說明Cr原子以兩種方式摻雜VO2對降低VO2相變溫度都起到一定影響。

        表2 純VO2 (M1和R相)和Cr摻雜VO2(M1和R相)體系的自由能、形成亥姆霍茲自由能和相變溫度(Tc)

        2.3 形成能

        摻雜體系的穩(wěn)定性可以用形成能判斷,Cr原子替代和間隙摻雜VO2的形成能可以用公式5~6表示:

        Eform=E(CrV31O64)-E(V32O64)-μCr+μV

        (5)

        Eform=E(CrV32O64)-E(V32O64)-μCr

        (6)

        μCr和μV分別為Cr和V原子的化學勢,化學勢通過公式7~8計算,其中2代表一個晶胞結(jié)構(gòu)中有2個原子:

        μCr=E(Crbulk)/2

        (7)

        μV=E(Vbulk)/2

        (8)

        表3 純VO2 M1相和Cr摻雜VO2 M1相體系的價帶頂(EVBM)、導帶底(ECBM)、帶隙Eg1和Eg2

        2.4 能帶結(jié)構(gòu)與態(tài)密度

        本征帶隙Eg1是d||和π*之間的間隙,由于帶隙的形成,電子運動從連續(xù)變成不連續(xù),Berglund[29]也證實VO2M1相的Eg1大約0.6~0.7 eV,表現(xiàn)出半導體特征。VO2在近紅外區(qū)域(750~1 500 nm)的吸收是跨越本征帶隙的光學躍遷,所以帶隙Eg1減小可以增加近紅外的吸收[30],同時Eg1變窄也會降低轉(zhuǎn)移能級[31],從而降低相變溫度。我們計算的純VO2的超晶胞結(jié)構(gòu)的帶隙值為0.689 eV,與Chen等[32]計算的0.69 eV相符,也與X射線光發(fā)射譜結(jié)果一致[33],說明U=3.4 eV以及這套方法計算的結(jié)果可行。光學帶隙Eg2是O 2p和π*之間的帶隙,對應(yīng)于可見光的吸收。光學帶隙為1.551 eV,與文獻報道相符[34]。

        圖2是純VO2M1相2×2×2超晶胞結(jié)構(gòu)的態(tài)密度和能帶結(jié)構(gòu)圖,從圖中可以看出,純VO2的本征帶隙Eg1為0.689 eV,光學帶隙Eg2為1.551 eV,能帶圖中費米能級沒有穿過能帶,表現(xiàn)為半導體特性。圖3是純VO2R相2×2×2超晶胞結(jié)構(gòu)的態(tài)密度和能帶結(jié)構(gòu)圖,從圖中可以看出,費米能級穿過了能帶,表現(xiàn)為金屬性。

        圖2 純VO2 M1相超晶胞結(jié)構(gòu)的態(tài)密度(a)和能帶結(jié)構(gòu)(b)

        圖3 純VO2 R相超晶胞結(jié)構(gòu)的態(tài)密度(a)和能帶結(jié)構(gòu)(b)

        在VO2中引入Cr原子,可以改變其半導體性質(zhì)。Cr原子的價電子比V原子多,形成n型半導體。圖4a和4b是Cr原子替代摻雜VO2M1相的態(tài)密度和能帶圖,相比純VO2,Cr原子替代摻雜VO2的CrV31O64體系的帶隙Eg1從0.689 eV降低到0.371 eV。帶隙Eg1的減小增強了近紅外光的吸收,減小了電子的躍遷能,相變溫度降低。從圖中可以看出,CrV31O64摻雜體系的帶隙Eg1減小是因為價帶和導帶同時下移,但價帶移動的距離遠,造成Eg1減小。Cr原子間隙摻雜VO2后在費米能級處出現(xiàn)一個雜質(zhì)能級。同時光學帶隙Eg2降低到1.204 eV,增加了VO2對可見光的吸收,導致可見光透射率降低。

        圖4c和4d是Cr原子間隙摻雜VO2M1相的態(tài)密度和能帶圖,Cr原子間隙摻雜VO2M1相的CrV32O64體系的帶隙Eg1從0.689 eV降低到0.257 eV,帶隙Eg1減小表明Cr原子間隙摻雜VO2可以降低VO2從R相到M1相的相變溫度。從能帶圖和態(tài)密度圖可以看出,費米能級穿過能帶,表明Cr原子間隙摻雜VO2M1相后體系表現(xiàn)出金屬特性。

        圖4 (a)和(b): Cr替代摻雜VO2 M1相的分態(tài)密度(PDOS)、總態(tài)密度(TDOS)和能帶;(c-d) Cr間隙摻雜VO2 M1相的分態(tài)密度(PDOS)、總態(tài)密度和能帶

        圖5a和5b是Cr原子替代摻雜VO2R相的態(tài)密度和能帶圖,圖5c和5d是Cr原子間隙摻雜VO2R相的態(tài)密度和能帶圖,可以看出兩種摻雜體系在摻雜后VO2R相仍然表現(xiàn)出金屬性特性。

        圖5 (a-b) Cr替代摻雜VO2 R相的分態(tài)密度(PDOS)、總態(tài)密度(TDOS)和能帶;(c-d) Cr間隙摻雜VO2 R相的分態(tài)密度(PDOS)、總態(tài)密度和能帶

        3 結(jié)論

        用第一性原理分別計算純VO2M1相和R相、Cr原子替代VO2M1相和R相的一個V原子的CrV31O64摻雜體系和Cr原子間隙摻雜VO2M1相和R相的CrV32O64體系的形成亥姆霍茲自由能、相變溫度、能帶和態(tài)密度,結(jié)果顯示,兩種摻雜體系的形成亥姆霍茲自由能比相應(yīng)的純VO2M1相和R相都有所減小,說明Cr原子摻雜VO2容易進行。兩種摻雜體系的相變溫度都有所降低,特別是Cr原子間隙摻雜VO2的相變溫度從340 K降低到238 K。對于摻雜后帶隙Eg1的變化,CrV32O64摻雜體系的帶隙從0.689 eV降低到0.257 eV,CrV31O64摻雜體系的帶隙減小到0.371 eV,說明Cr原子摻雜有助于降低VO2的相變溫度。同樣,兩個體系摻雜后帶隙Eg2也有所減小,Eg2減小導致了可見光透射率的降低。這個發(fā)現(xiàn)將為實驗工作提供一種新的調(diào)節(jié)VO2相變的方法。

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