*趙 莊,李學(xué)超,張糧成
(安徽理工大學(xué)力學(xué)與光電物理學(xué)院,安徽,淮南 232001)
非線性光學(xué)是現(xiàn)代光學(xué)的一個分支,其主要內(nèi)容是研究在強相干光作用下介質(zhì)產(chǎn)生的非線性現(xiàn)象以及與其相關(guān)的應(yīng)用[1]。研究非線性光學(xué)對激光技術(shù)、光譜學(xué)的發(fā)展以及物質(zhì)結(jié)構(gòu)分析等都有重要意義。自首次觀測到非線性光學(xué)效應(yīng)二次諧波產(chǎn)生至今,經(jīng)過短短幾十年的理論和實驗研究,非線性光學(xué)在基本原理研究、新效應(yīng)的發(fā)現(xiàn)和應(yīng)用及新型非線性材料探索方面都已取得了巨大的發(fā)展,并隨著研究的深入在許多交叉學(xué)科領(lǐng)域也得到了廣泛的開發(fā)和應(yīng)用[2-3]。
隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,納米制造技術(shù)也有顯著進(jìn)步。近年來,半導(dǎo)體量子點、量子線和量子阱、等低維量子結(jié)構(gòu)一直是廣泛研究的課題。它們可以看作是光電子器件的天然候選材料,并且在目前的磁場和電場等不同場合得到了廣泛的研究[4]。眾所周知,由于強量子約束效應(yīng)的存在,低維量子系統(tǒng)中的非線性效應(yīng)可以比塊狀材料中的非線性效應(yīng)更顯著地增強,這對于新興的微電子和光電器件的演化至關(guān)重要。
對QDs 的線性和非線性光學(xué)性質(zhì)有影響的重要因素有溫度、靜水壓力、外加電場和磁場以及強激光場[5-6]。近年來,半拋物型QDs 由于其不同尋常的電子和光學(xué)特性以及可能的實際應(yīng)用引起了人們的廣泛關(guān)注。然而溫度、靜水壓力和外加磁場對AlGaAs/Ga 半拋物型QDs 非線性光學(xué)性質(zhì)的綜合影響的系統(tǒng)研究迄今尚未得到全面的研究。因此,這一領(lǐng)域的研究在理論上和實際應(yīng)用中都是非常有意義的[7]。
我們的目的是研究量子點中的約束以及電場和磁場對OR 系數(shù)的影響。本文的組織結(jié)構(gòu)如下:在第1 節(jié)中,利用有效質(zhì)量近似得到了電子態(tài)的本征函數(shù)和本征能,并利用緊湊密度矩陣方法和迭代方法導(dǎo)出了OR 系數(shù)的解析表達(dá)式。第2 節(jié)給出了GaAs/AlGaAs 拋物型量子點的數(shù)值結(jié)果和討論。通過分析可以發(fā)現(xiàn),考慮量子點中電場磁場以及半徑和寬度的影響,可以使得OR 系數(shù)提高。第3 節(jié)作了簡要總結(jié)。
圖1 當(dāng)量子點半徑R 取不同的值時,光整流系數(shù)隨入射光的能量的變化情況(F=4KV/cm,L=3 nm,B=4T)Fig.1 When the quantumdot radiusRtakesdifferentalues,the li ghtrectification coefficientchangeswiththe energy of the incident light(F=4KV/cm,L=3nm,B=4T)
圖2 當(dāng)外加磁場取不同的值時,光整流系數(shù)隨入射光的能量的變化情況(F=4KV/cm,L=3nm,R=12nm)Fig.2 When the external magnetic field takes different values, the variation of the optical rectification coefficientwith the energy of the incident light(F=4KV/cm,L=3nm,R=12nm)
圖3 當(dāng)電場振幅取不同的值時,光整流系數(shù)隨入射光的能量的變化情況(B=4T,L=3nm,R=12nm)Fig.3Whentheelectric field amplitudetakesdifferent values,thelightrectification coefficientchanges with the energy of the incident light(B=4 T,L=3 nm,R=12 nm)
圖4 當(dāng)量子點寬度L 取不同的值時,光整流系數(shù)隨入射光的能量的變化情況(F=4KV/cm,R=12nm,B=4T)Fig.4 When the quantum dot width L takes different values,the light rectification coefficientchanges with the energy of the incident light(F=4KV/cm,R=12nm,B=4T)