劉婭麗 戚磊 鄭夢(mèng)珂 張蓉竹

(四川大學(xué)電子信息學(xué)院, 成都 610065)

激光輻照光學(xué)材料時(shí), 經(jīng)后表面反射的部分光束與入射光束干涉, 在材料內(nèi)部形成駐波場(chǎng).若材料表面存在缺陷, 缺陷會(huì)對(duì)入射光進(jìn)行調(diào)制, 導(dǎo)致材料內(nèi)駐波場(chǎng)分布不再均勻, 局部區(qū)域光強(qiáng)增大.為分析光學(xué)材料的場(chǎng)損傷特性, 建立了一個(gè)劃痕缺陷影響下的光學(xué)材料損傷分析模型.從電子增值理論出發(fā), 分析了劃痕數(shù)量及其所在位置對(duì)材料駐波場(chǎng)和損傷特性的影響, 并針對(duì)熔融石英材料進(jìn)行了具體計(jì)算.結(jié)果表明, 在入射光場(chǎng)不變的前提下, 隨著劃痕數(shù)量增加, 對(duì)光場(chǎng)的調(diào)制作用增強(qiáng), 材料內(nèi)部駐波場(chǎng)的最大場(chǎng)強(qiáng)增大, 熔融石英損傷閾值降低.相對(duì)亞表面和后表面劃痕缺陷而言, 材料上表面的缺陷對(duì)光場(chǎng)具有最大的調(diào)制作用, 因此更容易導(dǎo)致材料損傷.

1 引 言

要想進(jìn)一步提高激光輸出能量, 材料的抗損傷能力成為主要的瓶頸.深入了解光誘導(dǎo)材料損傷的物理機(jī)理, 探索提高材料抗損傷能力的方法, 對(duì)高功率激光系統(tǒng)的研究和發(fā)展具有重要意義.在材料損傷特性的研究過程中, Rubenchik等[1]發(fā)現(xiàn)熔融石英后表面的損傷幾率遠(yuǎn)大于前表面.Ye等[2]分析了劃痕形狀和尺寸對(duì)材料損傷特性的影響, 結(jié)果表明, 后表面劃痕周圍的光場(chǎng)強(qiáng)度隨著劃痕尺寸的增大而增大, 三角形劃痕的光調(diào)制效應(yīng)通常不如鋸齒形和拋物面劃痕明顯.程建和陳明君[3]測(cè)試了KDP的表面缺陷對(duì)材料的光場(chǎng)和抗損傷能力的影響, 研究發(fā)現(xiàn)缺陷材料后表面的光場(chǎng)強(qiáng)于前表面.另外, Génin等[4]分析了存在裂紋影響下的光場(chǎng)分布, 發(fā)現(xiàn)由于裂紋的調(diào)制作用使材料內(nèi)部出現(xiàn)了局部光場(chǎng)增強(qiáng)區(qū)域.這些研究都得到一個(gè)結(jié)論, 即損傷并沒有出現(xiàn)在直接接收光輻射的材料上表面.出現(xiàn)這一現(xiàn)象的原因除了表面缺陷引起的光調(diào)制外,就是材料內(nèi)部形成的駐波場(chǎng).

Xu等[5]通過實(shí)驗(yàn)分析了熔融二氧化硅的損傷機(jī)理, 發(fā)現(xiàn)材料的缺陷使其損傷特性降低.Li等[6]用實(shí)驗(yàn)測(cè)定存在劃痕缺陷的石英玻璃的損傷點(diǎn), 發(fā)現(xiàn)劃痕會(huì)使材料損傷點(diǎn)的密度增大.韓偉等[7]用實(shí)驗(yàn)研究了熔融石英材料在5 ns的紫外平頂脈沖激光輻照下的損傷增長(zhǎng)情況, 研究發(fā)現(xiàn)熔融石英后表面損傷點(diǎn)主要呈指數(shù)增長(zhǎng)規(guī)律, 且損傷增長(zhǎng)速率隨激光通量的增加而上升.魯江濤等[8]推導(dǎo)了單層膜的駐波場(chǎng)分布公式, 并利用電場(chǎng)分布分析了材料表層的損傷特性.Deng和Dong[9]利用電磁波方程求解了三層不同折射率增透涂料的駐波場(chǎng)分布.于慧波和馮國(guó)英[10]研究了光學(xué)元件內(nèi)部的應(yīng)力分布及損傷機(jī)理, 發(fā)現(xiàn)沖擊波使激光輻照中心發(fā)生斷裂,沖擊波的反射疊加使光學(xué)元件局部拉應(yīng)力增大, 從而導(dǎo)致后表面附近被損傷.賀全龍[11]研究了微結(jié)構(gòu)缺陷材料的激光誘導(dǎo)損傷機(jī)理, 研究表明材料損傷閾值的決定因素主要是光學(xué)帶隙和材料的POHC結(jié)構(gòu)缺陷.Li 等[12]分析了劃痕尺寸對(duì)光場(chǎng)調(diào)制的影響, 發(fā)現(xiàn)材料表面調(diào)制場(chǎng)主要受劃痕寬度和深度的影響, 其中深度是影響材料損傷特性的最重要參數(shù), 當(dāng)劃痕深寬比一定時(shí), 劃痕長(zhǎng)度對(duì)光場(chǎng)的影響不明顯.我們?cè)谇捌诘墓ぷ髦衃13]研究了劃痕尺寸對(duì)光場(chǎng)和材料熱損傷特性的影響, 研究發(fā)現(xiàn)劃痕長(zhǎng)度對(duì)光場(chǎng)的影響極小, 光場(chǎng)主要受劃痕寬度和深度的影響, 寬度或深度越大, 對(duì)光場(chǎng)調(diào)制作用越強(qiáng),但深度是影響材料損傷特性最重要的參數(shù).

光學(xué)材料的損傷機(jī)理研究一直是高功率激光系統(tǒng)研究中關(guān)注的重點(diǎn)問題, 光學(xué)材料客觀存在各種缺陷, 在激光誘導(dǎo)缺陷材料損傷領(lǐng)域中, 現(xiàn)有研究更多的是分析缺陷對(duì)光場(chǎng)的調(diào)制作用, 研究材料的應(yīng)力損傷和熱熔融損傷, 少有進(jìn)一步研究缺陷材料的場(chǎng)損傷特性.另外, 有部分文獻(xiàn)關(guān)注到了光學(xué)元件內(nèi)部的駐波場(chǎng)問題, 但是沒有針對(duì)非理想元件內(nèi)部的駐波場(chǎng)對(duì)損傷特性的影響進(jìn)行具體研究.在實(shí)際的應(yīng)用條件下表面缺陷對(duì)光場(chǎng)的調(diào)制會(huì)影響到材料內(nèi)部駐波場(chǎng)的分布, 進(jìn)而影響材料的損傷特性.這一物理過程需要通過建立合理的理論分析模型來進(jìn)行分析.目前關(guān)于材料損傷問題的研究主要是實(shí)驗(yàn)測(cè)定, 對(duì)不同輻照條件下形成的各種損傷特性進(jìn)行數(shù)據(jù)整合.這種后驗(yàn)式的研究方式隨機(jī)性強(qiáng), 難以滿足實(shí)際激光技術(shù)發(fā)展的需要.本工作的意義在于: 建立一個(gè)理論研究模型, 對(duì)實(shí)際光學(xué)材料的損傷特性進(jìn)行先驗(yàn)性的研究.先通過簡(jiǎn)單的缺陷特性對(duì)損傷規(guī)律進(jìn)行分析, 然后在此基礎(chǔ)上對(duì)隨機(jī)的復(fù)雜缺陷影響進(jìn)行研究.通過剖析材料損傷的基本物理實(shí)質(zhì), 為實(shí)際的光學(xué)系統(tǒng)研究提供理論參考.

本文以常用的熔融石英材料為研究對(duì)象, 基于時(shí)域有限差分原理模擬缺陷對(duì)光場(chǎng)的調(diào)制作用, 針對(duì)存在劃痕缺陷的熔融石英進(jìn)行研究, 分析不同劃痕缺陷熔融石英的駐波場(chǎng)分布, 并討論劃痕數(shù)量和位置對(duì)熔融石英場(chǎng)損傷特性的影響.

2 材料內(nèi)部駐波場(chǎng)分布

激光輻照光學(xué)材料時(shí), 在材料中傳輸光束的部分能量會(huì)被下表面反射, 反射光與入射光干涉, 在材料內(nèi)部形成穩(wěn)定的駐波場(chǎng).對(duì)于理想的光學(xué)材料, 在材料內(nèi)任意z位置處, 入射光束的電場(chǎng)強(qiáng)度可寫為

反射光束的電場(chǎng)強(qiáng)度可寫為

在材料內(nèi), 入射光和反射光疊加形成駐波場(chǎng), 該駐波場(chǎng)的電場(chǎng)強(qiáng)度可表示為[8]

其中,r1和r2分別為入射光和反射光的光程, 可表示為r1=n·z,r2=n·(2h0?z) ,h0為材料的厚度,t和r分別為正入射條件下材料上表面的透射率和下表面的振幅反射率, 表達(dá)式分別為t=和n分別為空氣和材料的折射率,E為入射光的電場(chǎng)強(qiáng)度.

如果材料并非理想, 而是表面存在加工過程殘留的劃痕, 入射光在材料表面被劃痕調(diào)制.光場(chǎng)復(fù)振幅中將附加調(diào)制相位項(xiàng) ??N, 且與劃痕的調(diào)制作用直接相關(guān), 因此首先需要分析劃痕產(chǎn)生的調(diào)制場(chǎng)分布情況.圖1(a)—圖1(c)是三種劃痕熔融石英的三維簡(jiǎn)易缺陷模型.模型中所有劃痕的尺寸完全相同, 劃痕長(zhǎng)l, 寬w, 深h, 劃痕數(shù)量為N, 材料的折射率為n.

圖1 熔融石英表面劃痕缺陷三維圖 (a)N = 1; (b) N =2; (c) N = 3Fig.1.Three-dimensional diagram of scratch defects on fused quartz surface: (a) N = 1; (b) N = 2; (c) N = 3.

當(dāng)光學(xué)材料表面存在深度為h的相位型凹陷時(shí), 其引入的相位 ?φ可寫為[13]

材料表面的矩形單劃痕引入的相位為 ??1, 其表達(dá)式為[13?15]

若材料表面存在雙劃痕, 對(duì)光束的相位調(diào)制 ??2為兩劃痕引入相位的疊加, 其表達(dá)式為[13?15]

若材料表面存在多條劃痕, 則 ??N可表示為[14,15]

因此, 入射光被光學(xué)材料表面的劃痕調(diào)制后,(3)式所表示的材料內(nèi)部的駐波場(chǎng)可改寫為

由(4)式—(8)式可知, 表面劃痕會(huì)對(duì)光場(chǎng)產(chǎn)生相位調(diào)制, 劃痕的數(shù)量、相對(duì)位置等參數(shù)將影響到最后光場(chǎng)的分布情況.

3 劃痕缺陷對(duì)熔融石英駐波場(chǎng)的影響

當(dāng)激光輻照劃痕缺陷材料時(shí), 由于光場(chǎng)被劃痕調(diào)制, 從而改變內(nèi)部的光場(chǎng)分布情況.下面分別分析劃痕數(shù)量及其相對(duì)位置對(duì)駐波場(chǎng)分布的影響, 選擇的入射激光脈寬為10 ps, 場(chǎng)強(qiáng)為100 MV/cm,波長(zhǎng)為355 nm.

3.1 劃痕數(shù)量對(duì)熔融石英駐波場(chǎng)的影響

由(8)式可知, 不同數(shù)量的劃痕會(huì)引入不同的相位, 使駐波場(chǎng)分布發(fā)生變化.利用有限差分算法分別對(duì)單劃痕、雙劃痕和三條劃痕以及理想表面熔融石英材料的駐波場(chǎng)進(jìn)行了計(jì)算, 結(jié)果如圖2所示.圖中的矩形方框表示劃痕所在位置.

圖2(a)—圖2(d)分別為理想表面、單劃痕、雙劃痕和三條劃痕熔融石英材料的駐波場(chǎng)分布.從圖2(a)可以看出, 激光輻照理想材料時(shí), 單純由于駐波的影響, 材料內(nèi)部光場(chǎng)分布出現(xiàn)了周期性的增強(qiáng)現(xiàn)象.在某一厚度(即xoy面)上的光場(chǎng)分布是均勻的.從圖2(b)—圖2(d)可知, 當(dāng)表面劃痕對(duì)入射光場(chǎng)進(jìn)行調(diào)制后, 材料內(nèi)部駐波場(chǎng)的橫向均勻性被破壞, 形成離散的局部增強(qiáng)和減弱.由此可見,光能量的重新分配是導(dǎo)致材料損傷以點(diǎn)狀形式出現(xiàn)的主要原因.材料表面存在多條劃痕時(shí), 由于每條劃痕都會(huì)對(duì)光場(chǎng)產(chǎn)生相位調(diào)制, 因而隨著劃痕數(shù)量增加, 材料內(nèi)被調(diào)制后的場(chǎng)強(qiáng)增大.同時(shí)劃痕位置分布會(huì)影響駐波場(chǎng)出現(xiàn)增強(qiáng)和減弱的位置.相比于理想熔融石英, 存在缺陷調(diào)制的場(chǎng)強(qiáng)更大.對(duì)于缺陷熔融石英而言, 劃痕數(shù)量從1增加到3時(shí), 其場(chǎng)強(qiáng)的峰值分別為106.4, 110.9和113.4 MV/cm.

圖2 表面存在不同數(shù)量劃痕時(shí)熔融石英內(nèi)部的駐波場(chǎng)分布 (a) N = 0; (b) N =1; (c) N = 2; (d) N = 3Fig.2.Standing wave field distribution inside fused quartz with different number of scratches on the surface: (a) N = 0; (b) N =1;(c) N = 2; (d) N = 3.

3.2 劃痕位置對(duì)熔融石英駐波場(chǎng)的影響

材料內(nèi)的駐波場(chǎng)分布會(huì)受劃痕所在位置的影響.下面分別計(jì)算劃痕位于材料上表面、亞表面和后表面時(shí), 缺陷熔融石英駐波場(chǎng)的分布情況, 如圖3所示, 圖中的矩形方框表示劃痕所在位置.

由圖3可知, 劃痕存在于材料不同位置時(shí), 駐波場(chǎng)分布發(fā)生變化.劃痕位于材料上表面時(shí), 兩兩相鄰的劃痕間出現(xiàn)光場(chǎng)增強(qiáng)區(qū)域.如果劃痕位于亞表面, 光場(chǎng)傳輸?shù)絹啽砻娌疟徽{(diào)制, 而經(jīng)后表面反射的光場(chǎng)在向上傳輸過程中再次被劃痕調(diào)制.由于往返調(diào)制光場(chǎng)反向, 最終的疊加導(dǎo)致劃痕間的強(qiáng)光場(chǎng)區(qū)域消失.如果劃痕位于后表面, 光場(chǎng)傳輸?shù)胶蟊砻鏁r(shí)被劃痕調(diào)制, 同時(shí)調(diào)制后的反射光束與剛到達(dá)后表面的入射光束疊加, 因而駐波場(chǎng)分布發(fā)生變化.但材料內(nèi)最大場(chǎng)強(qiáng)位置始終出現(xiàn)在材料下表面, 與現(xiàn)有實(shí)驗(yàn)研究結(jié)果一致[1?3].當(dāng)劃痕位于材料上表面時(shí), 場(chǎng)強(qiáng)最大值為113.4 MV/cm.相比而言, 存在于亞表面的劃痕對(duì)光場(chǎng)的調(diào)制作用最弱,其最大場(chǎng)強(qiáng)為100.1 MV/cm.

圖3 不同位置缺陷熔融石英的駐波場(chǎng)分布 (a)上表面缺陷; (b)亞表面缺陷; (c)后表面缺陷Fig.3.Standing wave field distribution of fused quartz with defects at different locations: (a) Surface defects; (b) subsurface defects;(c) rear surface defects.

4 駐波場(chǎng)對(duì)材料損傷特性的影響

在表面缺陷和駐波場(chǎng)的共同作用下, 材料內(nèi)部光場(chǎng)分布不再均勻.在光場(chǎng)強(qiáng)度出現(xiàn)極大值的位置, 能量的瞬間積累讓材料內(nèi)部電子迅速電離為自由電子, 自由電子密度積累方程如下[16?18]:

其中N(t) 為自由電子密度,g和μ分別為自由電子擴(kuò)散與復(fù)合速率,Rai是雪崩電離速率, 根據(jù)Thornber雪崩電離模型, 其表達(dá)式為[16,19,20]

式中vs為飽和漂移速率,e為電子電荷,Eg為材料的禁帶寬度,EI,Ep,EkT分別為電子克服電離散射、聲子散射和熱散射效應(yīng)所需的電場(chǎng)強(qiáng)度.

Rpi是多光子電離速率, 根據(jù)Keldysh光電離模型, 其表達(dá)式為[21,22]

式中ω為輻照激光頻率,m為電子有效質(zhì)量,

當(dāng)自由電子積累到臨界值時(shí), 材料折射率發(fā)生不可逆轉(zhuǎn)的改變, 從而判定為損傷, 此時(shí)激光的能量密度, 即損傷閾值[16,23]表達(dá)式為

其中,c為光速,ε為介電常數(shù),n為材料折射率,E為入射光場(chǎng)強(qiáng),τ為激光脈寬.

5 劃痕缺陷對(duì)熔融石英損傷特性的影響

場(chǎng)強(qiáng)在自由電子的積累過程中起到了關(guān)鍵性作用, 因而駐波場(chǎng)分布決定了材料的損傷閾值, 即在駐波場(chǎng)中場(chǎng)強(qiáng)更大的位置最先發(fā)生損傷.下面分別分析劃痕數(shù)量和劃痕位置對(duì)缺陷熔融石英損傷特性的影響.

5.1 不同數(shù)量劃痕缺陷熔融石英的損傷特性

由(10)式和(11)式可知, 材料的電離速率與光場(chǎng)有關(guān).下面對(duì)缺陷熔融石英內(nèi)電子的電離速率進(jìn)行計(jì)算.圖4為理想熔融石英和表面存在單劃痕、雙劃痕、三條劃痕時(shí), 材料后表面沿劃痕寬度方向的雪崩電離速率和光生電子速率分布.

圖4 熔融石英后表面的電離速率隨劃痕數(shù)量的變化 (a)雪崩電離速率分布; (b)光生電子速率分布Fig.4.Changes of the ionization rate of fused quartz with the number of scratches: (a) Avalanche ionization rate distribution; (b) photoelectron ionization rate distribution.

由圖4可知, 缺陷熔融石英的雪崩電離速率和光生電子速率有相同的變化規(guī)律, 是由于兩種電離速率都與場(chǎng)強(qiáng)成正相關(guān)的關(guān)系.劃痕調(diào)制使材料內(nèi)的場(chǎng)強(qiáng)增大, 從而使缺陷材料的兩種電離速率都大于理想情況, 且最大速率出現(xiàn)在光場(chǎng)最大值位置.隨著表面劃痕的數(shù)量增加, 調(diào)制光場(chǎng)之間的相互干涉作用也隨之增強(qiáng), 從而使得兩種電離速率的最大值均隨劃痕數(shù)量的增多而增大.當(dāng)表面存在三條劃痕時(shí), 兩種電離速率都出現(xiàn)了數(shù)值接近的三個(gè)峰,恰好與駐波場(chǎng)中的最大場(chǎng)強(qiáng)位置一致.

結(jié)合(9)式, 計(jì)算了劃痕數(shù)量不同時(shí), 缺陷熔融石英內(nèi)自由電子隨時(shí)間的增值規(guī)律, 如圖5所示.

從圖5可以看出, 隨著劃痕數(shù)量的增加, 缺陷熔融石英材料內(nèi)自由電子積累越快.因?yàn)閯澓墼黾訒r(shí), 調(diào)制后的光場(chǎng)越強(qiáng), 雪崩電離速率和多光子電離速率都增大, 因而材料更快積累自由電子, 也更易發(fā)生損傷.

圖5 劃痕數(shù)量不同的熔融石英內(nèi)自由電子積累過程Fig.5.Free electron accumulation in fused quartz with different number of scratches.

利用(12)式計(jì)算不同劃痕數(shù)量缺陷熔融石英的損傷閾值, 如圖6所示.存在表面劃痕缺陷時(shí)的損傷閾值明顯低于理想表面的熔融石英.劃痕數(shù)量從0增加到3時(shí), 由于調(diào)制后的場(chǎng)強(qiáng)隨劃痕數(shù)量的增多而增大, 因而損傷閾值隨劃痕數(shù)量的增加而降低.當(dāng)脈寬為10 ps時(shí), 理想熔融石英的損傷閾值為0.53 J/cm2, 有三條劃痕材料的閾值為0.35 J/cm2,降低到理想閾值的66.1%.

圖6 不同劃痕數(shù)量熔融石英的損傷閾值Fig.6.Damage thresholds of fused quartz with different number of scratches.

5.2 不同位置劃痕缺陷熔融石英的損傷特性

由于劃痕缺陷位于材料不同位置時(shí), 其駐波場(chǎng)分布不同, 從而使電離速率分布和材料的損傷特性不同.下面分別計(jì)算缺陷位于上表面、亞表面和后表面時(shí), 熔融石英后表面沿劃痕寬度方向的雪崩電離速率和光生電子速率分布.

由圖7可知, 當(dāng)劃痕位于不同表面時(shí), 其最大電離速率出現(xiàn)的位置不同.若劃痕位于材料亞表面或后表面, 最大電離速率出現(xiàn)在邊緣兩劃痕位置附近, 且兩種電離速率的最大值都低于劃痕存在于上表面的情況, 這是因?yàn)閯澓郛a(chǎn)生的附加相位項(xiàng)發(fā)生變化, 缺陷材料的最大場(chǎng)強(qiáng)大于理想情況.劃痕位于材料上表面時(shí), 自由電子積累速度最快, 雪崩電離速率和光生電子速率的最大值分別為1.57 ×1014和7.99 × 1033/s.

圖7 不同位置缺陷熔融石英的電離速率分布 (a)雪崩電離速率分布; (b)光生電子速率分布Fig.7.Ionization rate distribution of defective fused quartz at different locations: (a) Avalanche ionization rate distribution; (b) photoelectron ionization rate distribution.

下面計(jì)算劃痕位置不同時(shí), 缺陷熔融石英內(nèi)自由電子隨時(shí)間的增值規(guī)律, 如圖8所示.

從圖8可以看出, 劃痕位置會(huì)影響缺陷熔融石英材料內(nèi)自由電子積累速度.由于劃痕缺陷位于材料上表面時(shí), 熔融石英內(nèi)的調(diào)制光場(chǎng)更強(qiáng), 雪崩電離速率和多光子電離速率更大, 因而材料自由電子增值越快.相比而言, 劃痕位于材料亞表面時(shí), 自由電子增值最慢.

圖8 劃痕位置不同的熔融石英內(nèi)自由電子積累Fig.8.Free electron accumulation in fused quartz with different scratch positions.

分別計(jì)算不同位置缺陷熔融石英的損傷閾值,如圖9所示.缺陷材料的損傷閾值均低于理想材料.對(duì)于缺陷熔融石英而言, 上表面存在缺陷時(shí), 其損傷閾值低于亞表面和后表面缺陷情況.當(dāng)脈寬為10 ps時(shí), 亞表面缺陷的熔融石英的損傷閾值為0.46 J/cm2, 為上表面缺陷熔融石英閾值的131.4%.

圖9 不同位置缺陷熔融石英的損傷閾值Fig.9.Damage thresholds of defective fused quartz at different locations.

6 總 結(jié)

本文研究了劃痕缺陷對(duì)熔融石英材料場(chǎng)損傷特性的影響.具體分析了不同條件下, 劃痕數(shù)量及位置對(duì)材料內(nèi)部駐波場(chǎng)分布的影響, 在分析了熔融石英材料內(nèi)部光場(chǎng)作用下的電子增值情況后, 得到了材料的光誘導(dǎo)損傷特性.研究表明, 激光輻照劃痕缺陷熔融石英時(shí), 劃痕的相位調(diào)制作用會(huì)破壞駐波場(chǎng)分別的均勻性.駐波場(chǎng)的存在總是會(huì)使材料在靠近后表面處出現(xiàn)最大場(chǎng)強(qiáng), 解釋了材料損傷點(diǎn)大概率出現(xiàn)在材料后表面的現(xiàn)象.當(dāng)材料存在的劃痕數(shù)量不惟一時(shí), 多條劃痕共同作用于光場(chǎng), 其最大場(chǎng)強(qiáng)隨劃痕條數(shù)的增加而增大.以熔融石英材料為例, 當(dāng)10 ps脈沖入射時(shí), 如果三條劃痕位于材料上表面, 對(duì)光場(chǎng)調(diào)制作用最強(qiáng), 材料損傷閾值下降最為明顯, 比理想材料下降了66.1%.另外, 劃痕間隔對(duì)材料的駐波場(chǎng)及場(chǎng)損傷特性也有一定影響, 分析間隔的具體影響時(shí), 可直接利用前面的計(jì)算模型和分析過程, 只需改變劃痕的間隔參數(shù)進(jìn)行研究.