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        晶圓代工 尖端競(jìng)爭(zhēng)

        2018-07-01 17:06:24謝澤鋒
        英才 2018年6期
        關(guān)鍵詞:臺(tái)積電臺(tái)積代工

        謝澤鋒

        30年前,張忠謀開(kāi)創(chuàng)性地打造了全球第一家專(zhuān)業(yè)代工企業(yè)——臺(tái)灣積體電路制造公司(臺(tái)積電),并迅速發(fā)展為臺(tái)灣乃至全球半導(dǎo)體業(yè)的領(lǐng)頭羊。

        這位臺(tái)灣“半導(dǎo)體之父”用自己的實(shí)踐重新定義了一個(gè)產(chǎn)業(yè),他創(chuàng)造了專(zhuān)業(yè)代工的概念,因?yàn)樵谒?,所有的集成電路企業(yè)都是自己設(shè)廠(chǎng)自己生產(chǎn),包括英特爾、德州儀器等。

        經(jīng)過(guò)這30年的發(fā)展,臺(tái)積電在全球晶圓代工領(lǐng)域獨(dú)占鰲頭,憑借龐大的產(chǎn)能規(guī)模以及高于全球平均水平的年成長(zhǎng)率,2017年臺(tái)積電市占率高達(dá)55.9%,持續(xù)拉大與競(jìng)爭(zhēng)者的距離。

        更可怕的是,臺(tái)積電銷(xiāo)售收入超過(guò)全球其他所有代工廠(chǎng)的總和,達(dá)到320.4億美元,每年凈利潤(rùn)高達(dá)110億美元,而中國(guó)利潤(rùn)最高的民營(yíng)企業(yè)華為2017年凈利潤(rùn)為75億美元左右。

        可以說(shuō),臺(tái)積電是臺(tái)灣絕對(duì)的鎮(zhèn)島基石,在臺(tái)灣股市,臺(tái)積電的市值占到了全臺(tái)灣的16%-18%。

        中國(guó)集成電路的設(shè)計(jì)——制造——封裝三大環(huán)節(jié)之中,制造是差距最大的部分。國(guó)內(nèi)企業(yè)中,中芯國(guó)際是中國(guó)內(nèi)地規(guī)模最大、技術(shù)最先進(jìn)的集成電路芯片制造企業(yè),但其營(yíng)收也只有臺(tái)積電的十分之一。

        晶圓制造是極度燒錢(qián)的行當(dāng),臺(tái)積電2017年宣布將在臺(tái)灣南部建立的3納米工廠(chǎng),投資預(yù)計(jì)高達(dá)200億美元,這還僅僅是資本支持,研發(fā)投入還需要進(jìn)一步追加。高額的資金門(mén)檻,將許多公司攔在門(mén)外。另一家躋身世界前十的華虹宏力公司近三年的營(yíng)收從6.5億美元增加到8.07億美元,增長(zhǎng)了24.15%。

        但這個(gè)體量對(duì)于國(guó)際巨頭來(lái)說(shuō),還是十分弱小,即使在10年內(nèi)提升10倍,也遠(yuǎn)遠(yuǎn)無(wú)法和臺(tái)積電、三星、英特爾相抗衡。

        另外制程工藝技術(shù)的差距更加嚴(yán)峻,華虹宏力的最高水平制程只有90納米,可以說(shuō)華虹宏力目前的資本和技術(shù)力量都不足以參與主流玩家競(jìng)爭(zhēng)。

        中芯國(guó)際被寄予厚望,中國(guó)中芯半導(dǎo)體早在2016年2月就宣布 28 納米HKMG工藝已經(jīng)成功進(jìn)入設(shè)計(jì)定案階段。臺(tái)積電已經(jīng)在2016年底開(kāi)始導(dǎo)入10納米制程,在2017年開(kāi)始大規(guī)模量產(chǎn)。

        蘋(píng)果iphone 8手機(jī)上搭載的A11處理器,使用的就是臺(tái)積電10納米工藝,華為推出的新一代手機(jī)處理器麒麟970,也使用了臺(tái)積電10納米工藝。

        即使中芯國(guó)際在今年順利實(shí)現(xiàn)28納米HKMG工藝量產(chǎn),28nm對(duì)10nm,臺(tái)積電比中芯國(guó)際先進(jìn)了三代。

        在全力完成28納米HKMG工藝量產(chǎn)的同時(shí),中芯國(guó)際也準(zhǔn)備跳過(guò)20納米制程,直接開(kāi)始14納米制程的研發(fā)。2015年,中芯國(guó)際和華為、高通以及比利時(shí)IMEC 共同成立合資公司,中芯國(guó)際作為最大股東,共同研發(fā)14納米芯片工藝。

        不過(guò),中芯國(guó)際和世界巨頭的差距也受到整個(gè)中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的拖累。28納米和10納米之間并非單純的工藝技術(shù)的差距,更涉及到設(shè)備和材料。

        超大規(guī)模集成電路的機(jī)械拋光和清洗至關(guān)重要,但中國(guó)目前沒(méi)有任何一家企業(yè)能生產(chǎn)出高純的拋光漿料和清洗液,拋光不成則電路會(huì)被劃傷,一片劃傷就相當(dāng)于報(bào)廢1萬(wàn)個(gè)cpu。光刻機(jī)、拋光機(jī)等設(shè)備和材料掌握在臺(tái)灣、日本、美國(guó)以及荷蘭企業(yè)手里。

        中國(guó)集成電路晶圓制造的進(jìn)步,需要整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的支持和協(xié)作。

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