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        Y2O3修飾Ni/SiO2催化劑在甲烷部分氧化制合成氣反應(yīng)中的催化性能及穩(wěn)定性

        2016-12-29 05:43:03王雅莉翁維正夏文生萬惠霖
        物理化學(xué)學(xué)報 2016年11期
        關(guān)鍵詞:轉(zhuǎn)化率粒徑載體

        王雅莉 李 琪 翁維正 夏文生 萬惠霖

        (廈門大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院,固體表面物理化學(xué)國家重點實驗室,醇醚酯化工清潔生產(chǎn)國家工程實驗室,福建省理論計算化學(xué)重點實驗室,福建廈門361005)

        Y2O3修飾Ni/SiO2催化劑在甲烷部分氧化制合成氣反應(yīng)中的催化性能及穩(wěn)定性

        王雅莉 李 琪 翁維正 夏文生*萬惠霖*

        (廈門大學(xué)化學(xué)化工學(xué)院,固體表面物理化學(xué)國家重點實驗室,醇醚酯化工清潔生產(chǎn)國家工程實驗室,福建省理論計算化學(xué)重點實驗室,福建廈門361005)

        采用常規(guī)浸漬法制備Y2O3修飾的Ni/SiO2催化劑,并考察其催化甲烷部分氧化(POM)制合成氣反應(yīng)性能。結(jié)果表明,Y2O3的引入減小了金屬Ni的粒徑,有效提高了Ni在載體表面的分散性,增強了金屬Ni與載體SiO2間的相互作用,從而使催化劑的抗燒結(jié)、抗積碳能力,以及催化劑的POM反應(yīng)性能得以改善。

        甲烷部分氧化;Ni;SiO2;Y2O3;穩(wěn)定性

        1 引言

        甲烷部分氧化(POM)制合成氣反應(yīng),由于其微放熱性,在反應(yīng)過程中不需額外補充能量,因此耗能較低、投資較少,且H2/CO摩爾比例為2,適用于甲醇合成、費托合成,因而被認(rèn)為是甲烷利用的有效途徑之一1。從催化劑成本和對反應(yīng)的催化性能看,負(fù)載型Ni基催化劑相較于貴金屬有明顯的優(yōu)勢。不同于Al2O3、La2O3、CeO2、MgO等載體,SiO2以耐酸、耐堿、耐高溫、比表面積大等優(yōu)點成為人們常用的載體2,3,但Ni/SiO2催化劑中Ni與SiO2間的相互作用很弱,Ni在POM反應(yīng)條件下極易發(fā)生團(tuán)聚、燒結(jié)、積碳而失活4。為此,國內(nèi)外學(xué)者從金屬分散性、金屬-載體間相互作用等方面進(jìn)行了若干研究。如,制備SiO2包裹Ni催化劑5,抑制Ni遷移團(tuán)聚而改善催化劑的抗燒結(jié)能力;采用溶膠-凝膠法合成高分散的Ni/SiO2催化劑6,7,8,使催化劑呈現(xiàn)出良好的抗燒結(jié)、抗積碳能力。

        此外,文獻(xiàn)中也報道了一些添加第二組分提高催化劑的POM反應(yīng)性能的工作。如,Mg前驅(qū)鹽促進(jìn)的Ni/SiO2催化劑用于二氧化碳重整反應(yīng)9,稀土金屬摻雜的Yb-Ni/Al2O310、La-Ni/Al2O311、Ce-Ni/SiO212、Re-Ni13雙金屬催化劑以及貴金屬-Ni雙金屬催化劑14,15用于POM反應(yīng)。這些催化劑從堿性或/和金屬分散性調(diào)變的角度改善了催化劑的抗燒結(jié)、抗積碳的能力。由于Y常被視為輕稀土元素,其摻雜的Ni基催化劑也呈現(xiàn)出了良好的POM反應(yīng)性能。Hong等16采用硬模板法制備的Y修飾Ni納米線催化劑,相比單組份Ni催化劑有較高的比表面積,其POM性能有明顯的提升;而Y修飾的Ni/Al2O317,18、Y-Ni雙金屬19、Y穩(wěn)定的ZrO2負(fù)載Ni(YSZ)催化劑的研究則表明Y對載體(Al2O3、ZrO2)的穩(wěn)定性和金屬Ni的活性均有良好的助益作用。為了進(jìn)一步探討Y的作用,我們采用簡單浸漬法將Y應(yīng)用于Ni/SiO2催化劑,考察不同含量Y修飾的Ni/SiO2催化劑對POM的影響及其構(gòu)效關(guān)系,試圖尋找簡單法制的Ni/SiO2催化劑的POM性能改善的途徑。

        2 實驗部分

        2.1催化劑的制備

        稱取一定量Ni(NO3)2·6H2O和Y(NO3)3·6H2O (分析純,國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司),添加適量蒸餾水充分溶解后,加入一定量的商用SiO2(青島海洋化工廠),室溫下等體積浸漬12 h,90°C下烘箱干燥10 h,置于馬弗爐中按1°C·min-1的升溫速率加熱至700°C下焙燒2 h。催化劑標(biāo)記為aNibY/ SiO2,其中a、b分別代表Ni和Y的負(fù)載量(質(zhì)量分?jǐn)?shù))。

        2.2催化劑的表征

        (1)N2吸脫附表征(BET):在美國Micromeritics公司Tristar 3000物理吸附儀上進(jìn)行。300°C下對樣品抽真空處理2 h,以N2為吸附質(zhì),液氮溫度下吸附,測定樣品比表面、孔徑和孔容。

        (2)X射線衍射(XRD):采用荷蘭PANalytical公司X′pert PRO型X射線衍射儀(Cu Kα射線(λ= 0.15406 nm),X′Celerator超能列陣檢測器,管電壓40 kV,管電流30 mA,2θ掃描范圍為10°-90°)測定催化劑的體相組成和結(jié)構(gòu)。

        (3)透射電鏡(TEM):采用Phillips FEI Tecnai 30高分辨透射電子顯微鏡分析樣品的表面結(jié)構(gòu)(加速電壓為300 kV,分辨率為0.1 nm)。

        (4)X射線光電子能譜(XPS):在美國PHI Quantum 2000 Scanning ESCA Microprob能譜儀上進(jìn)行(Al-Kα為X射線輻射源;束斑為100μ;步長為0.125 eV)。以C1s結(jié)合能284.6 eV為內(nèi)標(biāo)校正其它元素的結(jié)合能,并分析樣品表面各元素的組成。

        (5)程序升溫還原(H2-TPR):反應(yīng)氣5%H2/Ar混合氣,實驗溫度范圍為100-900°C,升溫速率為10°C·min-1,以上海海欣GC-950氣相色譜儀在線分析檢測H2的消耗量。

        (6)積碳量的分析:在德國ELEMENTAR公司生產(chǎn)的VARIO EL III元素分析儀上進(jìn)行。稱取POM反應(yīng)50 h后的催化劑樣品3-5 mg,均勻的將其包在錫舟中,在CHN模式下定量分析碳含量。

        2.3催化劑性能評價

        POM反應(yīng)性能評價是在自制固定床連續(xù)流動微型反應(yīng)裝置上進(jìn)行的。評價條件:甲烷和氧混合氣(CH4/O2摩爾比為2)為反應(yīng)氣;空速(GHSV)為60000 mL·h-1·g-1;催化劑(60-80目,30 mg)置于內(nèi)徑為4 mm的石英反應(yīng)管內(nèi);反應(yīng)前,700°C下以H2預(yù)還原催化劑1 h。

        經(jīng)冷阱除水后反應(yīng)產(chǎn)物由TDX-02型碳分子篩色譜柱和上海海欣公司GC-950氣相色譜儀熱導(dǎo)檢測器(TCD)在線分析。甲烷轉(zhuǎn)化率(XCH4)、CO選擇性(SCO)和H2選擇性(SH2)計算公式如下:

        其中,n(CH4-in)和n(CH4-out)分別代表初始CH4的摩爾量和未反應(yīng)甲烷的摩爾量;n(CO)、n(CO2)、n(H2)分別代表反應(yīng)產(chǎn)生的CO、CO2和H2的摩爾量。

        3 結(jié)果與討論

        3.1催化劑理化性質(zhì)

        3.1.1 BET表征結(jié)果

        表1為不同催化劑的比表面積與孔結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)。由表中數(shù)據(jù)可知,載體SiO2具有最大的比表面積(388.0 m2·g-1),經(jīng)過浸漬、干燥和高溫焙燒后所得催化劑的比表面積都有了不同程度的減小。單組分9Ni/SiO2催化劑與載體相比,比表面積和孔容略有減小,可歸結(jié)于部分Ni粒子對載體SiO2孔道的填充;而對雙組份aNibY/SiO2催化劑,隨著Y含量增大,比表面積和孔容明顯降低,但孔徑則逐漸增加,這可能是活性組分Ni和原子半徑較大的Y(Ni、Y的原子半徑分別為0.135、0.227 nm)同時進(jìn)入載體SiO2內(nèi)部孔道的結(jié)果。

        表1 催化劑的BET比表面積和孔性質(zhì)Table 1 BET specific surface areas and porous properties of the catalysts

        3.1.2 XRD表征結(jié)果

        圖1為不同Y含量的aNibY/SiO2催化劑的XRD譜圖。由圖可知,不同aNibY/SiO2催化劑的XRD譜圖中除了檢測到位于22.5°歸屬于SiO2的特征峰20以外,其它位于37°、43°和62°的特征衍射峰均歸屬于立方NiO21,不同催化劑上相應(yīng)的衍射峰位置沒有發(fā)生明顯的偏移,還原后催化劑的XRD表征結(jié)果(見后面的3.3.1節(jié))也發(fā)現(xiàn)Ni的衍射峰位置沒有發(fā)生偏移,由此說明,Ni、Y間未發(fā)生明顯作用,Y(Y2O3)起隔離活性組分Ni的作用,從而促進(jìn)了Ni的粒徑減小;對比純Y2O3的XRD譜圖可以看到,aNibY/SiO2和單組份10Y/SiO2催化劑上并未出現(xiàn)任何歸屬于Y2O3的特征衍射峰,表明Y2O3高度分散于載體SiO2的表面。

        圖1 aNibY/SiO2催化劑的XRD譜圖Fig.1 X-ray diffraction(XRD)patterns of the aNibY/SiO2catalysts

        單組份9Ni/SiO2催化劑上歸屬于NiO的特征衍射峰強度明顯較其它Y2O3修飾催化劑樣品的要強,而半峰寬則較窄,說明該催化劑上NiO的平均粒徑相對較大,根據(jù)謝樂公式D=Kλ/βcosθ可知,該催化劑上NiO的平均粒徑約為25.9 nm,相應(yīng)的還原后粒徑為29.9 nm(表2)。對于Y2O3修飾Ni基催化劑,隨著Y含量的增加,歸屬于NiO的特征衍射峰強度逐漸減弱,半峰寬逐漸變寬,表明NiO的平均粒徑隨Y含量的增加逐漸減小。當(dāng)Y含量為15%時,NiO的平均粒徑為11.0 nm,相應(yīng)的還原后金屬Ni的粒徑減小到8.5 nm。

        3.1.3 TEM表征結(jié)果

        圖2為經(jīng)預(yù)還原處理后的不同Y含量的9NibY/ SiO2催化劑的TEM照片及粒徑統(tǒng)計結(jié)果??梢钥闯觯?Ni/SiO2催化劑上金屬Ni的顆粒較大,粒徑約為28.1 nm(表2),分散性較差;對Y2O3修飾Ni基催化劑,載體SiO2表面出現(xiàn)的黑灰色覆蓋物(Y2O3)高度分散,且將Ni顆粒隔離開來。隨著Y含量的增加,金屬Ni的粒徑逐漸減小。當(dāng)Y的含量由1%增加至10%時,相應(yīng)金屬Ni的粒徑則由24.7 nm減小至10.8 nm(見表2,與XRD結(jié)果相符),且粒徑分布變得均勻。

        表2 9NibY/SiO2催化劑上Ni(NiO)顆粒粒徑(DAV,XRD,DAV,TEM)及POM后催化劑上積碳量Table 2 Sizes of Ni(NiO)particles(DAV,XRD,DAV,TEM)for the 9NibY/SiO2catalysts and the amounts of carbon deposited on them after POM

        圖2 9NibY/SiO2催化劑的TEM照片(a-e)及粒徑統(tǒng)計結(jié)果(a′-e′)Fig.2 Transmission electron microscope(TEM)images(a-e)and particle size distributions(a′-e′)of the 9NibY/SiO2catalysts

        因此,Y2O3不僅可高度分散于載體表面,且可有效提高Ni在載體表面上的分散性,促進(jìn)Ni粒徑的減小。已有文獻(xiàn)報道10,22,負(fù)載型Ni基催化劑上金屬Ni的分散度越高,越有利于促進(jìn)該催化劑上POM反應(yīng)穩(wěn)定性的提高。

        3.1.4 XPS表征結(jié)果

        圖3為新鮮(A,B)和還原后(C,D)催化劑aNibY/ SiO2的XPS譜圖。由圖可知,雖幾個催化劑樣品的XPS譜形貌上有些微差異(可能與Ni、Y的分布有關(guān),Ni和Y的電子云受到些許擾動),但不同aNibY/ SiO2催化劑上Ni 2p3/2和Y 3d5/2峰位16,22,23(電子結(jié)合能)均未發(fā)生明顯偏移,說明Ni、Y間未發(fā)生電子轉(zhuǎn)移,即Ni、Y價態(tài)無變化。這與前述XRD表征結(jié)果相符,進(jìn)一步說明Ni、Y之間不存明顯的相互作用。

        圖3 新鮮(A,B)和還原后(C,D)催化劑aNibY/SiO2的XPS譜圖Fig.3 X-ray photoelectron spectroscopy(XPS)profiles of the fresh(A,B)and reduced(C,D)catalysts aNibY/SiO2

        通過XPS表征結(jié)果對催化劑表面原子組成的分析可知(表3),單組份Ni/SiO2催化劑表面Ni原子所占比例相對最大,為0.98%,而對不同Y含量的Ni基催化劑,Y的存在使得Ni、O原子在表面總原子中所占比例減小。其中,隨著Y含量的增加,Y原子在表面原子中所占的比例逐漸增加,Ni在表面原子中所占比例呈先增后減的變化趨勢,當(dāng)Y含量達(dá)到10%時,催化劑表面Ni量達(dá)到最大,所占比例為0.88%。當(dāng)Y含量進(jìn)一步增至15%時,Ni所占比例則下降至0.51%,表明過量Y的添加會覆蓋催化劑表面上的活性組分Ni。

        表3 催化劑表面原子分?jǐn)?shù)(A)Table 3 Surface atomic fraction(A)of the catalysts

        因此,Y(Y2O3)的添加雖可促進(jìn)活性組分Ni在載體表面的分散,但過多的Y(Y2O3)會屏蔽表面Ni,使催化劑表面活性位數(shù)目減少,從而使催化劑的POM反應(yīng)性能有可能降低。

        3.1.5 H2-TPR表征結(jié)果分析

        圖4為不同Y量的9NibY/SiO2催化劑的H2-TPR譜圖。由圖可知,催化劑上NiO在700°C以下基本還原完全。根據(jù)文獻(xiàn)24,對Ni/SiO2催化劑,H2-TPR圖中位于350-400°C、400-500°C和600°C附近的還原峰,分別對應(yīng)于大塊晶體NiO (游離態(tài)),與載體SiO2間存在弱相互作用,以及與載體間存在較強相互作用的NiO還原峰。圖4中9Ni/SiO2催化劑上NiO的還原峰基本位于400°C左右,說明該催化劑上大部分NiO與載體SiO2接觸,但無相互作用,Ni顆粒在高溫反應(yīng)條件下極易發(fā)生遷移而團(tuán)聚使其粒徑變大,進(jìn)而導(dǎo)致其POM反應(yīng)穩(wěn)定性下降;對9NibY/SiO2催化劑,當(dāng)Y量為1%時,催化劑上NiO的還原峰與9Ni/SiO2相似,峰位略向低溫方向移動,說明少量Y的引入增強了NiO的可還原性;當(dāng)Y量為5%時,催化劑上出現(xiàn)了位于450和600°C左右的兩處還原峰;當(dāng)Y量增至10%時,還原峰進(jìn)一步向高溫方向移動且高溫區(qū)峰面積大幅增加,而當(dāng)Y量達(dá)到15%時,還原峰位和峰面積已無多大變化,即Y的添加未再引起峰位和峰面積變化,結(jié)合XRD、XPS表征所得的Ni、Y間幾無相互作用的結(jié)果,該還原峰(600-700°C)可歸屬為與載體SiO2間存在較強相互作用的NiO的還原。

        圖4 9NibY/SiO2催化劑H2-TPR譜圖Fig.4 H2-temperature programmed reduction(H2-TPR) profiles of the 9NibY/SiO2catalysts

        同時,我們注意到,NiO和Ni的粒徑(表2、圖2)隨著Y量增加而逐漸減小,即粒徑減小促使金屬與載體間的相互作用的增強,這與我們先前報道10的結(jié)果相符。TEM(圖2)結(jié)果表明,Y量為10%和15時,金屬Ni的粒徑大小及其分布已相差不大。

        因此,我們認(rèn)為適量Y(Y2O3)的引入有助于增強活性組分Ni與載體SiO2間的相互作用。已有文獻(xiàn)報道25,NiO與載體SiO2間相互作用的加強對于提高POM反應(yīng)中9Ni/SiO2催化劑的反應(yīng)穩(wěn)定性有良好的促進(jìn)作用。

        3.29NibY/SiO2催化劑上POM反應(yīng)性能及穩(wěn)定性

        3.2.1 Y含量對POM反應(yīng)性能的影響

        圖5為不同Y含量的9NibY/SiO2催化劑在不同溫度下的POM反應(yīng)性能。由圖可知,不同催化劑上CH4轉(zhuǎn)化率和產(chǎn)物選擇性(CO和H2)均隨溫度升高呈逐漸增加的趨勢。其中,單組份9Ni/SiO2催化劑相較于其它催化劑在不同溫度下的反應(yīng)性能相對較低(650°C,CH4轉(zhuǎn)化率為59.2%,CO、H2選擇性分別為65.9%、73.4%);添加了不同Y量后,催化劑在不同溫度下的反應(yīng)性能有不同程度的增加。Y量為1%時,CH4轉(zhuǎn)化率和產(chǎn)物選擇性均有小幅增加(650°C,CH4轉(zhuǎn)化率為63.9%,CO、H2選擇性分別為73.3%、77.1%);當(dāng)Y量進(jìn)一步增加至5%、10%時,催化劑上POM反應(yīng)性能亦進(jìn)一步依次增加;但當(dāng)Y量增至15%時,催化劑的反應(yīng)性能則略有下降(650°C,CH4轉(zhuǎn)化率69.1%,CO、H2選擇性分別為78.7%、78.3%)。Y量為10%時,催化劑POM性能達(dá)到最優(yōu)(650°C,CH4轉(zhuǎn)化率為70.3%,CO、H2選擇性分別為79.8%、77.8%)。

        圖5 Y含量對9NibY/SiO2催化劑上POM反應(yīng)性能的影響Fig.5 Influences of Y loading on catalytic performances over 9NibY/SiO2for POM

        以上結(jié)果表明,適量Y(Y2O3)的添加有利于提高催化劑的POM反應(yīng)性能,但當(dāng)Y(Y2O3)含量超過一定范圍后,催化劑表面的活性位將被覆蓋,導(dǎo)致催化劑的反應(yīng)性能下降,這與前面的表征結(jié)果分析一致。

        3.2.2 Y含量對POM反應(yīng)穩(wěn)定性的影響

        圖6所示為不同Y含量的9NibY/SiO2催化劑POM反應(yīng)性能隨反應(yīng)時間變化的趨勢圖。由圖可知,單組份9Ni/SiO2催化劑和不同Y含量的9NibY/ SiO2催化劑有較為接近的初始反應(yīng)性能(CH4轉(zhuǎn)化率和CO(H2)選擇性分別為~81%和~88%(~80%),雙組份9NibY/SiO2催化劑初始反應(yīng)性能略高于單組份9Ni/SiO2催化劑)。但隨著反應(yīng)時間的延長,不同催化劑上POM反應(yīng)穩(wěn)定性表現(xiàn)出較大的差異。其中,9Ni/SiO2催化劑上POM反應(yīng)性能呈明顯震蕩下降趨勢,連續(xù)反應(yīng)10 h后(圖6),CH4轉(zhuǎn)化率由初始的~80%降至~55%,CO和H2選擇性分別由初始的~88%和~80%降至~62%和~75%;而9NibY/ SiO2催化劑上POM反應(yīng)穩(wěn)定性則有一定的提升。其中,當(dāng)Y含量為1%時,反應(yīng)10 h后,CH4轉(zhuǎn)化率降至~72%,CO和H2選擇性則分別降至~81%和~77%;當(dāng)Y含量進(jìn)一步增加,催化劑上POM反應(yīng)性能隨時間下降趨勢會明顯變緩,Y含量為10%時,700°C下,連續(xù)反應(yīng)10 h后,CH4轉(zhuǎn)化率和產(chǎn)物選擇性與反應(yīng)初始相當(dāng),呈現(xiàn)出良好的POM反應(yīng)穩(wěn)定性。當(dāng)Y含量為15%時,催化劑的POM反應(yīng)穩(wěn)定性略有下降。即,適量Y2O3的引入改善了催化劑在POM反應(yīng)中的穩(wěn)定性。

        圖6 9NibY/SiO2催化劑上POM反應(yīng)性能隨時間的變化Fig.6 Catalytic performances for POM over 9NibY/SiO2as a function of time on stream

        積碳含量測定數(shù)據(jù)(表2)表明,9Ni/SiO2催化劑反應(yīng)后有明顯的積碳生成,9Ni10Y/SiO2反應(yīng)50 h后幾乎沒有檢測到積碳,即Y2O3的添加明顯提高了催化劑的抗積碳能力。

        3.3反應(yīng)后催化劑表征

        3.3.1 XRD表征結(jié)果

        圖7 不同9NibY/SiO2催化劑在POM連續(xù)反應(yīng)10 h前后的XRD譜圖Fig.7 XRD patterns of the 9NibY/SiO2catalysts before(a) and after(b)POM for 10 h

        圖7為經(jīng)還原處理的不同催化劑POM反應(yīng)前后的XRD譜圖。從中可以看出,POM反應(yīng)前后44°、51°和76°三處均有金屬Ni的衍射峰出現(xiàn)18。POM反應(yīng)10 h后催化劑金屬Ni的特征衍射峰強度較反應(yīng)前有所增強,且半峰寬變窄,對應(yīng)于載體表面上金屬Ni顆粒的團(tuán)聚。其中,9Ni/SiO2催化劑反應(yīng)后金屬Ni的衍射峰強度增加幅度相對最大,表明該催化劑上金屬Ni顆粒反應(yīng)后呈現(xiàn)了明顯的增長,其平均粒徑由反應(yīng)前的29.9 nm長大至44.9 nm(表2)。而隨著Y含量的增加,衍射峰強度變化幅度明顯減小,表明載體表面上Ni顆粒的粒徑變化幅度逐漸減小,載體表面Ni顆粒團(tuán)聚程度降低,其中9Ni10Y/SiO2催化劑上金屬Ni的粒徑僅由反應(yīng)前的9.6 nm增加至16.2 nm,說明Y2O3的存在有助于抑制載體表面金屬Ni的團(tuán)聚,增強催化劑的抗燒結(jié)能力。已有文獻(xiàn)報道26,在負(fù)載型金屬催化劑上添加第二組分可以有效抑制載體表面金屬的團(tuán)聚。

        圖8 不同9NibY/SiO2催化劑在POM連續(xù)反應(yīng)10 h后的TEM照片(a-e)及粒徑統(tǒng)計結(jié)果(a′-e′)Fig.8 TEM images(a-e)and particle sizes distribution(a′-e′)of the 9NibY/SiO2catalysts after POM for 10 h

        3.3.2 TEM表征結(jié)果

        圖8為不同催化劑的反應(yīng)后TEM照片及粒徑統(tǒng)計結(jié)果。與反應(yīng)前相比(圖2),9Ni/SiO2上反應(yīng)后金屬Ni粒徑變大,團(tuán)聚程度增大;而對9NibY/ SiO2催化劑,隨著Y含量增加,反應(yīng)后催化劑上金屬Ni的粒徑變化幅度逐漸減小,9Ni10Y/SiO2催化劑上金屬Ni的粒徑僅由反應(yīng)前的10.8 nm增加到12.6 nm(表2),并表現(xiàn)出最優(yōu)的POM反應(yīng)穩(wěn)定性,結(jié)合催化劑的XRD譜圖,進(jìn)一步說明Y2O3的添加對提高載體表面金屬Ni的抗燒結(jié)能力有促進(jìn)作用。提高催化劑的抗燒結(jié)能力對于催化劑的反應(yīng)穩(wěn)定性有至關(guān)重要的作用。

        4 結(jié)論

        Y2O3修飾的SiO2負(fù)載Ni催化劑的表征結(jié)果及其POM反應(yīng)性能結(jié)果表明,Y2O3的添加可以有效地提高Ni在載體表面的分散性,使金屬Ni粒徑減小,增強金屬Ni與載體SiO2間的相互作用,進(jìn)而提高催化劑的抗燒結(jié)、抗積碳能力;適量Y2O3的添加可以提高催化劑的POM反應(yīng)性能,9Ni10Y/ SiO2表現(xiàn)出最好的POM反應(yīng)性能及穩(wěn)定性,但9Ni15Y/SiO2因過量的Y2O3覆蓋了部分活性位,使POM反應(yīng)性能出現(xiàn)明顯的下降。

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        Catalytic Behaviors and Stability of Y2O3-Modified Ni/SiO2for Partial Oxidation of Methane into Synthesis Gas

        WANG Ya-Li LIQi WENG Wei-Zheng XIAWen-Sheng*WAN Hui-Lin*
        (Fujian Province Key Laboratory of Theoretical and Computational Chemistry,National Engineering Laboratory for Green Chemical Productions of Alcohols-Ethers-Esters,State Key Laboratory of Physical Chemistry of Solid State Surfaces, College of Chemistry and Chemical Engineering,Xiamen University,Xiamen 361005,Fujian Province,P.R.China)

        Aseries of Y2O3-modified Ni/SiO2catalysts were synthesized by a conventional impregnation method. Catalytic performances for the partial oxidation of methane(POM)to synthesis gas were investigated.The addition of Y2O3promotes a decrease in size of Ni particles supported on silica,increased the dispersion of Ni particles,and enhanced the interaction between Ni and silica.These properties gave the catalysts increased anti-sintering and resistance to carbon deposits.The catalytic behaviors of the Ni-based catalysts for POM were significantly improved when Y2O3was introduced.

        Partial oxidation of methane;Ni;SiO2;Y2O3;Stability

        O643

        10.3866/PKU.WHXB201608302

        Received:June 13,2016;Revised:August 29,2016;Published online:August 30,2016.

        *Corresponding authors.XIAWen-Sheng,Email:wsxia@xmu.edu.cn;Tel:+86-592-3658107.WAN Hui-Lin,Email:hlwan@xmu.edu.cn.

        The project was supported by the National Natural Science Foundation of China(21373169),and PCSIRT(IRT1036).

        國家自然科學(xué)基金(21373169)及教育部創(chuàng)新團(tuán)隊項目(IRT1036)資助

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