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        高分子材料的金屬化

        2014-07-09 19:10:24陳國慶
        山東工業(yè)技術(shù) 2014年22期
        關(guān)鍵詞:高分子材料金屬化工藝

        摘 要:隨著我國社會經(jīng)濟的快速發(fā)展,人們對高分子材料的用途越來越廣泛,很多領(lǐng)域都應(yīng)用到了高分子材料。將高分子材料金屬化會使高分子具有金屬的一些特性,從而使其功能變得更加強大,這也是本論文的重點研究方向。

        關(guān)鍵詞:高分子材料;金屬化;工藝

        1 高分子材料金屬化的簡述

        通過化學方法或者是物理方法將一些金屬鍍在高分子材料的表面,從而使高分子材料具有了鍍金屬的一些特性,這就是我們所說的高分子材料的金屬化,金屬化后高分子材料一方面就會具有相應(yīng)傳導性、導熱性等性能,另一方面還能夠使其具有相應(yīng)的金屬光澤,進行相應(yīng)的焊接,從而使高分子材料替代了一些金屬品,在最大程度上降低了企業(yè)的成本。除此之外,高分子材料本身還具有耐腐蝕、耐高溫、耐酸堿等特性,從而使得被金屬化后的高分子材料比常用的金屬具備更好的性能,用途也更加廣泛,已經(jīng)在我國航天、輪船、機械、化工、制藥、運輸?shù)刃袠I(yè)得到了廣泛應(yīng)用。

        2 高分子材料金屬化的工藝

        就當前技術(shù)來說高分子材料金屬化主要有以下兩種方法:一是,以物理氣相沉積和化學氣相沉積這兩種方法為代表的干法;二是,以化學還原、電鍍等為代表的濕法。下面我們就將物理氣相沉積、化學氣相沉積法和化學還原法這三種常用的方法進行詳細的研究。

        2.1 物理氣相沉積

        物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)技術(shù)主要是在在真空條件下,采用物理方法,將材料源——固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成離子,并通過低壓氣體(或等離子體)的一種過程,從而能夠在基體表面沉積具有某種特殊功能的一種薄膜技術(shù)。由此可以看出物理氣相沉積法的前提基礎(chǔ)是真空技術(shù)。

        真空蒸發(fā)法(又稱為熱蒸發(fā)法)是指在真空條件下,通過高溫加熱鍍料使其在非常短的時間內(nèi)發(fā)生蒸發(fā)現(xiàn)象,進而會有大量的原子、分子發(fā)生氣化現(xiàn)象,從而離開了鍍料或者說是鍍料的表面,然后這些氣化的原子、分子由于是處于真空環(huán)境下,所以在經(jīng)過少量幾次的碰撞后遷移到基體,最終沉積在基體的表面形成一層非常薄的膜。該方法的主要特點是對設(shè)備的要求難度不高、非常容易操作;薄膜具有非常高的純度、質(zhì)量;同時能夠快速成膜,具有非常單純的薄膜生長機理,但是該方法成的薄膜沒有結(jié)晶結(jié)果,致使其跟基板的附著力非常小。為了解決這一問題,專家們使用等離子刻蝕跟該技術(shù)有效結(jié)合起來,來提高其附著力。例如有專家將聚丙烯用氨等離子體處理后,再使用真空蒸發(fā)法在聚丙烯表面鍍一層鋁薄膜,然后再將其經(jīng)過XPS和EXES分析發(fā)現(xiàn),聚丙烯和鋁薄膜之間的附著力變得非常大。

        2.2 化學氣相沉積

        化學氣相沉積(Chemical vapor deposition,簡稱CVD)主要是指在氣態(tài)條件下,反應(yīng)物質(zhì)發(fā)生化學反應(yīng),最終固態(tài)物質(zhì),并且該固態(tài)物質(zhì)附著在加熱的固態(tài)基體表面上,最終生成固體材料的一種技術(shù)方法。

        人們在PTFE鍍銅就使用了化學氣相沉積方法,主要分為以下幾個步驟:首先PTFE表面先經(jīng)過相應(yīng)的化學粗化處理,然后再使用激光束在其表面進行圖案刻畫,最后再經(jīng)過化學氣相沉積法將銅沉積在其表面。將經(jīng)過以上步驟處理后的鍍銅PTFE經(jīng)過XPS和EXES分析顯示,激光輻射的部分沒有銅沉積,而沒有經(jīng)過激光輻射的部分有大量的銅沉積,這就說明PTFE表面粗化部分被激光已經(jīng)撫平到跟其原始表面一樣,所以沒有銅沉積。

        化學氣相沉積法的特點是沉積不需要很高的溫度,非常容易控制薄膜的成份,膜厚與淀積時間成正比,均勻性,重復性好,臺階覆蓋性優(yōu)良,具有很強的附著力。但是該方法會受到氣體運動速率、壓力分布、溫度等各方面因素的影響,而是膜形成過程受到破壞,同時還會影響薄膜的構(gòu)造,所以要想得到理想的薄膜必須嚴格控制各項條件。

        2.3 化學還原法

        化學還原法主要是指通過化學反應(yīng)將高分子材料跟金屬鹽之間形成鰲合物,從而能夠使一些金屬離子摻入到高分子材料中,這些金屬離子在經(jīng)過化學還原處理后,在高分子材料表面可以均勻地沉積層可導電的金屬層。

        有人將金屬鉆通過該方法成功的鍍在了聚亞胺脂(PU)的表面上,具體步驟為,稱取適量的CoCl2,MDI,PEE15和PEE3,將這些試劑加入到DMF溶液中,用攪拌充分攪勻,最后在室溫條件下會在聚丙烯板上形成一層薄膜,然后再將聚丙烯放在烘箱中100℃加熱五十小時,加熱結(jié)束后將其放在NaBH4水溶液中,在21~62℃下還原10-13分鐘,最終得到鍍鉆的聚丙烯。通過XPS分析得出,該方法形成的薄膜表面是非常純凈的。

        3 結(jié)論

        綜上所述,高分子材料具有耐高溫、耐腐蝕、耐酸堿等特點,而高分子材料金屬化還使其具備了金屬的某些特性,從而使其性能變得更加廣泛,所以高分子材料金屬化在工業(yè)上的大力應(yīng)用將會大大降低企業(yè)的成本,對推動我國經(jīng)濟的快速發(fā)展起著非常重要促進作用。

        參考文獻:

        [1]馮輝霞.化學還原法制備Fe3O4納米顆粒及其性能研究[J].功能材料,2013(10).

        [2]葛雯.石墨烯及其復合物的化學氣相沉積法制備與性能研究[D].浙江大學學位論文,2013.

        作者簡介:陳國慶(1993—),男,安徽無為人,本科,研究方向:高分子材料與工程。

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