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        設(shè)備綜合效率在半導(dǎo)體測試設(shè)備管理中的應(yīng)用研究

        2014-07-02 19:44:07張雷
        中國高新技術(shù)企業(yè) 2014年10期
        關(guān)鍵詞:設(shè)備管理

        摘要:集成電路制造的生產(chǎn)工藝對設(shè)備和環(huán)境要求極高。文章將設(shè)備綜合效率(OEE)理論運(yùn)用到集成電路測試設(shè)備管理中,通過對OEE各項(xiàng)指標(biāo)的分析與改善,實(shí)現(xiàn)設(shè)備產(chǎn)能的提升。

        關(guān)鍵詞:設(shè)備管理;設(shè)備綜合效率;半導(dǎo)體測試;FMEA

        中圖分類號:TN305 文獻(xiàn)標(biāo)識碼:A 文章編號:1009-2374(2014)15-0017-03

        集成電路制造設(shè)備是集成電路工業(yè)生產(chǎn)和技術(shù)發(fā)展的關(guān)鍵。半導(dǎo)體集成電路工業(yè)極大依賴于半導(dǎo)體集成電路制造設(shè)備的投資,而且是同步增長的。集成電路制造的生產(chǎn)工藝對設(shè)備和環(huán)境要求極高,這就決定了產(chǎn)業(yè)高昂的固定成本投資。生產(chǎn)專用設(shè)備的價值每臺幾百萬美元甚至上千萬美元,廠房的成本動輒十億美元以上。隨著設(shè)備投資加大的同時,設(shè)備折舊與維護(hù)的負(fù)擔(dān)也成倍增加。設(shè)備折舊和設(shè)備維護(hù)占據(jù)了硅片生產(chǎn)總成本的最大比重,決定硅片生產(chǎn)成本高低的一個關(guān)鍵性因素就是設(shè)備是否能夠以最高的利用率生產(chǎn)。

        1 OEE理論的提出

        1.1 OEE定義及計(jì)算方法

        設(shè)備綜合效率(Overall Equipment Effectiveness,簡稱OEE)用來度量企業(yè)的管理水平。目前,國際上已經(jīng)把OEE作為評價企業(yè)管理水平的常用指標(biāo)。OEE是用來說明實(shí)際的生產(chǎn)能力與理論產(chǎn)能的比例,OEE能夠準(zhǔn)確地告訴管理者:設(shè)備的效率如何、在生產(chǎn)的每個環(huán)節(jié)有多少損失以及可以采取哪些有針對性的措施改善工作。OEE是一個獨(dú)立的測量工具,它能夠體現(xiàn)出實(shí)際產(chǎn)能與理論產(chǎn)能的比率關(guān)系。

        根據(jù)國際標(biāo)準(zhǔn)化組織的QS9000標(biāo)準(zhǔn)定義,設(shè)備綜合效率(OEE)的計(jì)算方法如下:

        OEE=時間開動率×性能開動率×合格品率

        時間開動率是用來評價停工所帶來的損失,包括引起計(jì)劃生產(chǎn)發(fā)生停工的任何事件,例如設(shè)備故障、原材料短缺以及生產(chǎn)方式的改變等。時間開動率反映了設(shè)備的時間利用情況。

        時間開動率=開動時間/負(fù)荷時間

        負(fù)荷時間=日歷工作時間-計(jì)劃停機(jī)時間

        開動時間=負(fù)荷時間-故障停機(jī)時間-設(shè)備調(diào)整初始化時間(包括更換產(chǎn)品規(guī)格、更換工裝模具、更損壞工具所用時間)

        性能開動率用來評價生產(chǎn)速度上的損失。包含任何阻礙生產(chǎn)不能以最快速度運(yùn)行的因素,比如設(shè)備的磨損、材料的不合格以及操作人員的失誤等。性能開動率反映了設(shè)備的性能發(fā)揮情況。

        性能開動率=凈開動率×速度開動率

        凈開動率=加工數(shù)量×實(shí)際加工周期/開動時間

        速度開動率=理論加工周期/實(shí)際加工周期

        合格品率是用來評價質(zhì)量的損失,它用來反映沒有滿足質(zhì)量要求的產(chǎn)品(包括返工的產(chǎn)品)。合格品率衡量了設(shè)備加工廢品損失。

        1.2 OEE的分析作用

        計(jì)算OEE并不是最終目的,計(jì)算OEE主要是用來分析OEE的6大損失。OEE與6大損失的關(guān)系圖如圖1所示。OEE損失分為:設(shè)備故障損失、安裝調(diào)整損失、速度降低損失、空轉(zhuǎn)短暫停機(jī)損失、加工廢品損失及初期不良損失。多種原因共同造影響降低了設(shè)備的OEE水平,其中每一種原因?qū)EE影響的貢獻(xiàn)又是各不相同的。只有分別計(jì)算OEE的不同“率”,才能分別反映出不同類型的損失。

        2 測試設(shè)備OEE應(yīng)用

        2.1 測試設(shè)備OEE計(jì)算

        根據(jù)OEE的計(jì)算公式,結(jié)合集成電路生產(chǎn)的特點(diǎn)以及芯片測試廠的實(shí)際運(yùn)行流程定義出測試廠OEE的計(jì)算公式進(jìn)行改良,以便更有效地對OEE進(jìn)行控制和改進(jìn)。具體測試廠OEE計(jì)算公式如下:

        OEE=時間開動率×性能開動率×合格品率

        這里的損失就包括計(jì)劃內(nèi)的停機(jī)和不可預(yù)見的故障,前者如周期性機(jī)臺維護(hù),后者路工程調(diào)試、機(jī)臺

        異常。

        性能開動率:指在設(shè)備正常運(yùn)行時間內(nèi),設(shè)備處理芯片的理論效率,等于利用率×WPH。

        WPH:標(biāo)準(zhǔn)狀況下,某機(jī)臺在既定工序下上單位小時內(nèi)可以產(chǎn)出的片數(shù)(Wafer Per Hour)

        根據(jù)測試廠OEE計(jì)算公式,計(jì)算出2012年A型測試機(jī)的平均OEE為69.28%,見表1。

        2.2 測試設(shè)備OEE損失分析

        結(jié)合測試廠生產(chǎn)運(yùn)行的情況,將OEE損失與生產(chǎn)實(shí)際問題對應(yīng)見表2。

        在分析OEE損失過程中,采用了因果分析法和失效模式與影響分析(FMEA)結(jié)合的方法。首先運(yùn)用頭腦風(fēng)暴的方法將各項(xiàng)損失的因素繪制成因果關(guān)系圖,接著運(yùn)用失效模式與影響分析的方法對各種損失進(jìn)行量化,根據(jù)RPN值大小順序?qū)τ绊懘蟮囊蛩貎?yōu)先采取改善措施。這樣既能做到重點(diǎn)突出了又能做到了全面兼顧,確保改善速度比較快,效果比較顯著。

        經(jīng)過對A型測試機(jī)OEE損失分析,可以得出:(1)計(jì)劃維護(hù)時間長;設(shè)備故障后等待備件時間長;產(chǎn)品轉(zhuǎn)換時從原先的高溫狀況轉(zhuǎn)換到常溫狀況所需時間長是三個造成時間開動率降低的最主要原因。(2)當(dāng)設(shè)備發(fā)生異常停機(jī)時報警信息不清晰導(dǎo)致現(xiàn)場操作人員不能及時發(fā)現(xiàn);經(jīng)驗(yàn)不足導(dǎo)致現(xiàn)場工程師處理停機(jī)不當(dāng);在測試中發(fā)生overkill未被及時發(fā)現(xiàn)是性能開動率下降的三個主要原因。(3)合格品率損失針痕打出pad而人工檢查不能有效發(fā)現(xiàn)及晶片中部分die需要重測而將整片晶片重測是造成合格品率降低的主要原因。

        2.3 測試設(shè)備OEE提升實(shí)踐

        針對影響設(shè)備OEE的主要原因,測試廠設(shè)備管理人員及其他相關(guān)人員采取了相應(yīng)的改進(jìn)措施:(1)優(yōu)化計(jì)劃維護(hù)流程修改計(jì)劃維護(hù)手冊,減少了計(jì)劃維護(hù)時間;自行研發(fā)輔助降溫設(shè)備,縮減了設(shè)備降溫過程;創(chuàng)建備件數(shù)據(jù)庫,完善備件管理方法提升時間開動率。(2)開發(fā)設(shè)備故障信息采集系統(tǒng)及時準(zhǔn)確地掌握設(shè)備狀況;建立設(shè)備異常及處理信息系統(tǒng)方便現(xiàn)場維修人員做出正確判斷并采取有效措施;升級設(shè)備版本增加設(shè)備功能等方法提升性能開動率。(3)通過優(yōu)化生產(chǎn)流程等方法提升合格品率。

        通過一系列的改進(jìn)措施,A型測試機(jī)的OEE提升了6.15%。A型測試機(jī)產(chǎn)能增加產(chǎn)生的直接效益為每年27.5萬美金。OEE改善效果對比圖見圖2。同時,此次測試機(jī)OEE提升的實(shí)踐為今后測試廠設(shè)備管理提供了理論依據(jù)和實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)。

        3 結(jié)語

        對于基于設(shè)備綜合效率的研究,前人已經(jīng)作了許多工作,本文以此為基礎(chǔ)作了一些實(shí)踐性方面的探索,通過對芯片測試機(jī)設(shè)備綜合效率的研究,運(yùn)用因果分析、FMEA等方法,分析了影響OEE的各項(xiàng)因素并制定了改善方案,最終達(dá)到了提升OEE,增加了有效產(chǎn)能,降低制造成本的目的。同時在OEE提高之后,在生產(chǎn)中的執(zhí)行和控制也是非常重要的。

        參考文獻(xiàn)

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        [3] 李葆文.TPM推進(jìn)中設(shè)備綜合效率的計(jì)算問題

        [J].設(shè)備管理與維修,2002.

        作者簡介:張雷(1976—),男,江蘇常州人,中芯國際集成電路制造(上海)有限公司助理工程師,工程碩士,研究方向:設(shè)備管理。

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