余 強(qiáng)，陳 陣，范瑩瑩，魏 昶，梁美艷，文大楷

（1昆明理工大學(xué) 理學(xué)院，昆明650500；2昆明理工大學(xué) 冶金與能源工程學(xué)院，昆明650500）

鉻鍍層由于具有很高的硬度、優(yōu)良的耐磨性、化學(xué)穩(wěn)定性等優(yōu)點(diǎn)［1］而被廣泛用于裝飾性和功能性材料中。傳統(tǒng)六價(jià)鉻鍍鉻工藝存在嚴(yán)重不足［2－4］已被限制并最終停止使用。三價(jià)鉻鍍鉻［5］已逐漸成為新一代鍍鉻技術(shù)和研究熱點(diǎn)［6－13］，但三價(jià)鉻電鍍的研究進(jìn)展一直比較緩慢［14，15］，其中鍍液穩(wěn)定性是重要的影響因素之一。其主要原因是施鍍過程中Cr3＋在陽極氧化為Cr6＋，使鍍液穩(wěn)定性難以控制［16，17］，陽極材料的選用是抑制六價(jià)鉻生成的重要手段。

目前新型三價(jià)鉻鍍鉻陽極的研究和使用主要有石墨陽極、Pb及Pb基合金陽極、鉑 （鍍鉑）陽極和涂層鈦陽極。其中石墨陽極［18，19］無法抑制六價(jià)鉻的生成，不易加工，陽極溶解物污染鍍液；鉛及鉛合金陽極［20－22］表面易生成導(dǎo)電性差的鉻酸鉛，使槽電壓升高，同時(shí)產(chǎn)生的鉛化合物渣會(huì)降低陰極產(chǎn)品質(zhì)量；鉑（鍍鉑）陽極［23］析氧電位高，易導(dǎo)致Cr3＋氧化成Cr6＋，成 本 較 高；鈦 基 涂 層 陽 極［24，25］主 要 有 Ti－Ir O2，Ti－Ru O2／TiO2，Ti－Pb O2等，此類電極制作工藝復(fù)雜，成本較高，只能限于實(shí)驗(yàn)室水平的研究與應(yīng)用［26－34］，規(guī)?；瘧?yīng)用至今鮮有報(bào)道。

復(fù)合材料是由兩種或兩種以上異質(zhì)、異形、異性的原材料通過某工藝組合而成的新材料，通過設(shè)計(jì)使各組分的性能互相補(bǔ)充并彼此關(guān)聯(lián)，從而獲得新的優(yōu)越性能。利用電沉積的方法，引入多種具有電催化活性、穩(wěn)定性以及良好導(dǎo)電性的顆粒物質(zhì)制備多元復(fù)合電極材料應(yīng)用于三價(jià)鉻鍍鉻工藝中，將對(duì)電極的析氧過電位、耐腐蝕性等產(chǎn)生影響，使電極材料綜合性能得到大幅度提升。本工作通過在二氧化鉛鍍液中添加二氧化鈰和二氧化鋯納米顆粒電沉積制備出PbO2－CeO2－Zr O2復(fù)合陽極材料，采用電化學(xué)測(cè)試方法考察添加顆粒物對(duì)鍍層的影響，對(duì)三價(jià)鉻鍍鉻陽極的研究具有一定的理論和實(shí)際價(jià)值。

1 實(shí)驗(yàn)

1.1 鍍層制備工藝

鍍層采用復(fù)合電沉積的方法制備，陽極為不銹鋼板（經(jīng)過打磨—除油—浸蝕活化處理），陰極為銅板。鍍液組成：硝酸鉛（Pb（NO3）2）210g／L；氟化鈉（NaF）0.5g／L；添加劑0.9g／L；二氧化鈰（CeO2粒度為20～30nm）12g／L；二氧化鋯（ZrO2粒度為50～60nm）10，20，30，40，50g／L；分散劑1%；p H＝2.8；施鍍電流密度為20mA·cm－2；施鍍時(shí)間為1h；溫度為60℃，機(jī)械攪拌350r／min。制備的復(fù)合鍍層經(jīng)過水洗，冷風(fēng)吹干。

1.2 鍍層性能測(cè)試

鍍層沉積過程采用循環(huán)伏安曲線研究，使用CHI660D電化學(xué)工作站，采用三電極體系，工作電極為經(jīng)過前處理過的不銹鋼板，輔助電極為鉑電極，參比電極為甘汞電極，溶液為添加20g／L二氧化鋯的電鍍液，溫度60℃，掃描速率為50m V·s－1。

鍍層耐腐蝕性能采用塔菲爾曲線測(cè)量表征，鍍層催化活性采用析氧極化曲線測(cè)量表征：電化學(xué)測(cè)量使用CHI660D電化學(xué)工作站，采用三電極體系，工作電極為Zr O2不同添加量條件下制備的Pb O2－CeO2－Zr O2復(fù)合鍍層（10mm×10mm），輔助電極為鉑電極，參比電極為甘汞電極，電解液為硫酸鹽體系三價(jià)鉻鍍鉻溶液，室溫。

采用XL30ESEM－TMP掃描電子顯微鏡測(cè)試鍍層的微觀形貌，利用EDAX－PHOENIX能譜分析儀測(cè)定鍍層中元素含量。

2 結(jié)果與討論

2.1 循環(huán)伏安曲線分析

采用循環(huán)伏安法考察Pb2＋在含有20g／L Zr O2溶液中的沉積過程，探究Zr O2對(duì)二氧化鉛沉積過程的影響。圖1為添加20g／L Zr O2的1次循環(huán)伏安曲線，圖2為添加20g／L Zr O2的5次循環(huán)伏安曲線。

圖1 添加20g／L Zr O2的循環(huán)伏安曲線Fig.1 Cyclic voltammetry（CV）curve with 20g／L concentration of Zr O2

圖2 添加20g／L Zr O2的5次循環(huán)伏安曲線Fig.2 CV curves with 20g／L concentration of Zr O2（five cycles）

圖1表明，隨著掃描電位的正移，循環(huán)伏安曲線上出現(xiàn)了兩個(gè)氧化峰，根據(jù)Johnson提出的Pb O2沉積機(jī)理［35－37］，首先，當(dāng)電位較低時(shí)，H2O在電極表面形成吸附態(tài)的羥基自由基OHads：

然后Pb2＋與羥基自由基（OHads）結(jié)合生成可溶性的中間產(chǎn)物Pb（OH：

最后中間產(chǎn)物轉(zhuǎn)化為PbO2，該反應(yīng)發(fā)生的氧化峰形較寬，說明該反應(yīng)過程為決速過程：

圖2顯示，在5次循環(huán)掃描下，伏安曲線的峰形基本相同，說明Pb O2在基體上的沉積過程是一致的；經(jīng)過多次掃描后，氧化峰電流非常穩(wěn)定，幾乎沒有改變，說明Pb（Ⅱ）的氧化過程非常穩(wěn)定，不會(huì)隨著掃描次數(shù)的增加而有所改變；圖2中循環(huán)伏安曲線的還原峰也較小，電極上形成的Pb O2比較難還原，說明Pb（Ⅱ）的沉積是一個(gè)穩(wěn)定的過程。

2.2 耐腐蝕性能分析

不同Zr O2濃度所得電極的塔菲爾曲線和對(duì)應(yīng)的動(dòng)力學(xué)參數(shù)如圖3和表1所示。自腐蝕電流密度可以反映電極腐蝕速率的快慢，而自腐蝕電位Ecorr是一個(gè)特定的腐蝕體系在沒有外加電流的情況下測(cè)得的金屬電位，它主要反映金屬或合金的表面狀況和熱力學(xué)穩(wěn)定性，Ecorr值愈低，腐蝕傾向愈大，Ecorr愈高，腐蝕傾向愈小［38］。圖3表明，除50g／L外，其余濃度下獲得的鍍層的自腐蝕電位相當(dāng)，說明它們的腐蝕傾向一樣。表1顯示，隨著Zr O2濃度的增加，電極的極化電阻先增大后降低，自腐蝕電流先減小后增加。50g／L Zr O2濃度下所獲鍍層的極化電阻很小，自腐蝕電流最大，說明在該工藝條件下所獲鍍層的耐腐蝕性不好；30g／L鍍層的極化電阻最大，20g／L鍍層次之，而10～40g／L條件下所獲鍍層的自腐蝕電流大小相差不大，說明鍍層的耐腐蝕性能相近。

表1 不同ZrO2濃度下獲得鍍層的塔菲爾曲線對(duì)應(yīng)的動(dòng)力學(xué)參數(shù)Table 1 Tafel parameters of coatings with different Zr O2 concentration

2.3 電催化活性分析

圖4為不同Zr O2濃度所得陽極材料在三價(jià)鉻鍍液中的析氧極化曲線，結(jié)果表明，Zr O2含量為20g／L和40g／L時(shí)析氧電位最低，析氧電位低，說明電極可以有效地降低耗電量。

根據(jù)Tafel關(guān)系式η＝a＋b log i，將析氧極化曲線經(jīng)Tafel擬合后的參數(shù)值列于表2。表2顯示，20g／L Zr O2含量條件下所獲鍍層的交換電流密度最大，與30g／L Zr O2含量的交換電流密度相差6個(gè)數(shù)量級(jí)，說明該電沉積條件下制備的電極作為陽極材料時(shí)電催化活性最高。

圖4 不同Zr O2濃度下獲得的電極的析氧極化曲線Fig.4 Anode polarization curves of composite coatings with different Zr O2 concentration

表2 不同ZrO2濃度下獲得鍍層的析氧曲線動(dòng)力學(xué)參數(shù)Table 2 Anode polarization curves parameters of coatings with different Zr O2 concentration

鍍液中的納米Zr O2顆粒在共沉積過程中具有細(xì)化晶粒的作用，提高了復(fù)合鍍層表面的化學(xué)穩(wěn)定性；同時(shí)，Zr O2粒子產(chǎn)生的氧空穴能形成保護(hù)性氧化膜，該氧化膜晶粒細(xì)小，組織均勻致密，能有效阻止腐蝕介質(zhì)的進(jìn)入，使鍍層有較好的耐腐蝕性；鍍層中適量的納米ZrO2粒子使電極的有效表面增大，表面活性大幅度提高，電極的析氧電位降低，交換電流密度增大，在有效提高電極催化活性的同時(shí)，也降低了槽電壓，減小了能耗。綜合考慮鍍層的耐腐蝕性、析氧電位及其電催化性能，選擇鍍液中的Zr O2濃度為20g／L。

2.4 復(fù)合鍍層表面形貌分析

Zr O2濃度分別為10，20，30，40，50g／L時(shí)所得復(fù)合陽極材料的微觀形貌見圖5。結(jié)果顯示，鍍液中Zr O2濃度增大，促進(jìn)電極表面形成結(jié)晶細(xì)小的鍍層，且Zr O2顆粒彌散分布在鍍層中，各鍍層的沉積形態(tài)和結(jié)構(gòu)略有不同。鍍層表面出現(xiàn)的圓球形白色顆粒物，是未被完全包覆的納米顆粒，當(dāng)Zr O2為10g／L和50g／L時(shí)，白色顆粒物最多，這是因?yàn)閆r O2的含量少時(shí)，對(duì)沉積過程的促進(jìn)作用較弱，氧化沉積層對(duì)微粒的包覆能力較差，微粒多以吸附滯留于鍍層表面所致；當(dāng)Zr O2的含量為50g／L時(shí)，溶液中的Zr O2會(huì)大量吸附在復(fù)合鍍層表面，并且溶液中顆粒濃度過高會(huì)阻礙鉛離子的遷移，無法完全包覆吸附的Zr O2顆粒。

圖5 不同Zr O2 濃度下獲得復(fù)合鍍層的微觀形貌（a）10g／L；（b）20g／L；（c）30g／L；（d）40g／L；（e）50g／LFig.5 Micro－morphologies of composite coatings with different ZrO2 concentration（a）10g／L；（b）20g／L；（c）30g／L；（d）40g／L；（e）50g／L

2.5 元素含量分析

不同Zr O2濃度所得鍍層的能譜分析如圖6所示。結(jié)果顯示，隨著Zr O2濃度的增大，鍍層中CeO2的含量總體相對(duì)穩(wěn)定，鍍層中Zr O2的含量先增大后減??；當(dāng)其溶液中濃度為30g／L時(shí)，鍍層中Zr O2的含量達(dá)到最大值。這是由于Zr O2和CeO2這兩種固體微粒的導(dǎo)電能力不同，導(dǎo)電能力較好的Zr O2比較容易共沉積，而鍍液中的CeO2有促進(jìn)沉積的作用，使Zr O2微粒被鍍層俘獲的幾率增大，故隨著Zr O2濃度的增大，鍍層中Zr元素的含量增加；隨著Zr O2濃度的不斷增大，一方面由于鍍液中Zr O2濃度增大會(huì)使鍍液黏稠，阻礙鉛離子的遷移，大量吸附在鍍層表面的納米顆粒無法被有效包覆；另一方面是在其他工藝條件不變時(shí)，顆粒在陽極表面吸附量變化不大，過多的Zr O2也不利于CeO2的吸附，故鍍層中Zr O2和CeO2的含量均有所降低。

圖6 不同Zr O2 濃度下所得鍍層的能譜圖 （a）10g／L；（b）20g／L；（c）30g／L；（d）40g／L；（e）50g／LFig.6 EDS spectra of composite coatings with different Zr O2 concentration （a）10g／L；（b）20g／L；（c）30g／L；（d）40g／L；（e）50g／L

3 結(jié)論

（1）添加20g／L Zr O2的多次循環(huán)伏安掃描后曲線形狀基本沒有改變，Pb（Ⅱ）的氧化還原過程非常穩(wěn)定；循環(huán)伏安曲線的還原峰較小，PbO2的沉積是一個(gè)穩(wěn)定的過程，該沉積過程與Johnson機(jī)理一致。

（2）當(dāng) Zr O2濃度為20g／L時(shí)，所制備的 PbO2－CeO2－Zr O2惰性復(fù)合陽極材料具有良好的耐蝕性和電催化活性，并能有效降低槽電壓，減小能耗，表現(xiàn)出較好的綜合應(yīng)用性能。

（3）鍍液中的Zr O2有利于細(xì)化晶粒，獲得均勻致密的復(fù)合鍍層；隨著鍍液中Zr O2濃度的不斷增大，鍍層中CeO2的含量基本穩(wěn)定，Zr O2的含量呈現(xiàn)先增大后減小的趨勢(shì)，當(dāng)其濃度為30g／L時(shí)，鍍層中Zr O2的含量達(dá)到最大值。

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