盛翠寶,吳玲娟,金飛飛

(浙江省人民醫(yī)院,浙江杭州 310014)

現(xiàn)代化消毒供應(yīng)中心和普通供應(yīng)室均存在需手工清洗消毒的器具,且離不開(kāi)消毒劑的應(yīng)用。如何選擇理想的消毒劑,即消毒效果好、對(duì)器械無(wú)損害、對(duì)環(huán)境污染小,是消毒感染控制專家十分關(guān)注的問(wèn)題[1]。酸性氧化電位水(electrolyzed oxidizing w ater,EOW)已基本取代了其他化學(xué)消毒劑的使用,具有高效廣譜、快速方便、成本低廉、無(wú)異味、對(duì)機(jī)體刺激性小、對(duì)器具無(wú)損害、對(duì)環(huán)境無(wú)污染的優(yōu)點(diǎn)[1],已廣泛應(yīng)用于手工清洗的器具、器材、物品及物表兼空氣的消毒。2006年3月,本院消毒供應(yīng)中心引進(jìn)EOW生成系統(tǒng),應(yīng)用于器材、物品等的消毒,取得較好效果,現(xiàn)將EOW的制備和應(yīng)用體會(huì)報(bào)告如下。

1 EOW的制備

1.1 EOW生成系統(tǒng)結(jié)構(gòu) 由生成器(主機(jī))、水處理器、2 L裝鹽水筒(內(nèi)含20%氯化鈉溶液)、穩(wěn)壓電器、儲(chǔ)存箱(備用)、管道、塑料水龍頭等組成。

1.2 FOW生成原理 EOW的理論來(lái)源于氯堿工業(yè)[2],其生成原理是將普通的自來(lái)水經(jīng)過(guò)軟化處理后,添加一定量的氯化鈉,在主機(jī)內(nèi)的離子膜電解槽中,通過(guò)特殊的鉑金鈦合金電極進(jìn)行電離分解,陽(yáng)極以析氯反應(yīng)和析氧反應(yīng)為主,流出的水含有H+,為EOW,陰極以析氫反應(yīng)為主,流出的水含有OH-,為堿性離子水,排入下水道。

1.3 制備流程 檢查2 L裝鹽水筒內(nèi)的溶液量—打開(kāi)進(jìn)水開(kāi)關(guān)及電源開(kāi)關(guān)—調(diào)節(jié)pH值設(shè)定在高鹽檔—調(diào)節(jié)生成量設(shè)定在持續(xù)檔—按下生成檔鍵—25 s后生成EOW—測(cè)試pH值2.7以下及有效氯含量50m g/L—使用。

2 應(yīng) 用

2.1 應(yīng)用范圍及方法 不能在消毒清洗機(jī)內(nèi)消毒清洗的物品;不耐93°C高溫的塑料、橡膠類物品,如濕化瓶、呼吸器螺紋管和附件、霧化器、霧化管、吸痰管、壓脈帶、大件的容器整理箱及桶罐;不銹鋼儲(chǔ)槽、管腔及精密細(xì)小、結(jié)構(gòu)復(fù)雜的器械;不銹鋼下收下送車;消毒供應(yīng)中心使用的擦手巾、拖把等,物品表面的消毒。每天上午8∶00按制備流程開(kāi)啟系統(tǒng),生成EOW,不需稀釋,將 EOW 放入專用水池或其他容器內(nèi),將需要消毒的物品浸泡于EOW中10～20min,或根據(jù)消毒物品需要進(jìn)行流水浸泡消毒。

2.2 EOW性能測(cè)試及消毒物品滅菌效果監(jiān)測(cè)

2.2.1 系統(tǒng)安裝后測(cè)試 在系統(tǒng)安裝調(diào)試后取新鮮配制的EOW 50 m l,送醫(yī)院微生物室作細(xì)菌檢測(cè),結(jié)果陰性。

2.2.2 EOW理化性能測(cè)試及細(xì)菌培養(yǎng) 每天由固定班次的崗位護(hù)士,在使用前用pHS-2A型pH探頭測(cè)定EOW的pH值,合格范圍為2.5～2.7;用有效氯試紙測(cè)定有效氯濃度,合格范圍為30～50 mg/L;用氧化還原電位(ORP)計(jì)測(cè)定ORP,合格范圍在1 110～1 240m V。用無(wú)菌注射器吸取使用中的EOW 1 m l,加入有中和劑(硫代硫酸鈉)采樣管內(nèi)混勻,送細(xì)菌培養(yǎng)室做細(xì)菌學(xué)監(jiān)測(cè),每月1次。將每天的檢測(cè)結(jié)果及每月的細(xì)菌培養(yǎng)結(jié)果登記在冊(cè),以便對(duì)照檢查。本院2006年4月至2009年3月,每天EOW理化性能測(cè)試均在合格范圍,每月EOW細(xì)菌培養(yǎng)結(jié)果均為陰性。

2.2.3 消毒物品滅菌效果監(jiān)測(cè) 每月中、下旬,隨機(jī)抽樣消毒干燥后的物品,用洗脫法取樣,加入相應(yīng)中和劑(硫代硫酸鈉)的采樣管內(nèi)混勻,送細(xì)菌培養(yǎng)室做細(xì)菌學(xué)監(jiān)測(cè)。2006年4月至2009年3月,本中心用EOW消毒儲(chǔ)槽類35 860只、呼吸器螺紋管管道及相關(guān)附件65 200件、濕化瓶64 457只、壓脈帶19 962包(30根 1包),隨機(jī)抽樣88件行滅菌效果監(jiān)測(cè),結(jié)果均無(wú)細(xì)菌生長(zhǎng)。

3 體 會(huì)

3.1 認(rèn)知EOW的殺菌機(jī)制及加強(qiáng)參數(shù)監(jiān)測(cè) 細(xì)菌、病毒等微生物生存所依賴的ORP為-400～900m V、pH為4.0～9.0[3]。EOW的理化性能是高ORP(1100 mV以上)、強(qiáng)酸(pH 3.0以下)、有效氯含量50mg/L,足以破壞微生物的電環(huán)境和酸堿環(huán)境,使微生物細(xì)胞膜電位發(fā)生改變,導(dǎo)致細(xì)胞膜通透性增加,細(xì)胞腫脹、裂變,細(xì)胞內(nèi)容物溢出以及超微結(jié)構(gòu)改變;次氯酸與微生物的胞壁發(fā)生作用,因分子小、不帶電荷,易侵入細(xì)胞內(nèi)與蛋白發(fā)生氧化作用或破壞其磷酸脫氫酶,使糖代謝失調(diào),導(dǎo)致菌體蛋白氧化。因此,EOW應(yīng)用中要重視pH、ORP和有效氯濃度等參數(shù)監(jiān)測(cè),是確保其消毒有效性的關(guān)鍵,檢測(cè)指標(biāo)應(yīng)達(dá)到中華人民共和國(guó)衛(wèi)生行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)WS 310-2009版供應(yīng)中心清洗消毒和滅菌技術(shù)操作規(guī)范要求;注意定期驗(yàn)證或校正測(cè)試儀表的準(zhǔn)確性,以提高監(jiān)測(cè)可信度。

3.2 確保氯化鈉濃度準(zhǔn)確和持續(xù)供應(yīng) 氯化鈉溶液是制備EOW的必需介質(zhì),準(zhǔn)確配置濃度和持續(xù)供應(yīng)是制備合格EOW的要素之一。EOW系統(tǒng)主機(jī)內(nèi)置專用鹽水筒,容量為2 L,一般選擇高鹽檔狀態(tài)可持續(xù)使用4 h。按要求準(zhǔn)確配置鹽水,濃度為20%氯化鈉溶液;鹽水筒放入主機(jī)前,擰緊專用蓋子,倒提鹽水筒確認(rèn)不漏水。為確保氯化鈉溶液濃度的正確性和持續(xù)供應(yīng),本院準(zhǔn)備了1只5 L容量塑料桶,裝入氯化鈉1 000 g,即可正確無(wú)誤配制出20%氯化鈉,再分次倒入專用鹽水筒,操作簡(jiǎn)單,又能保證濃度的正確性和不間斷供應(yīng)。

3.3 重視水處理器的應(yīng)用 水處理器應(yīng)用目的是通過(guò)樹(shù)脂吸附作用,降低自來(lái)水的鈣、鎂、鐵等金屬離子,達(dá)到軟化水的效果,以減少電解槽內(nèi)結(jié)垢。水處理器設(shè)計(jì)是微電腦操作,只需根據(jù)制備EOW的量,定期在水處理器鹽箱內(nèi)加入專用鹽以更新樹(shù)脂,方法是打開(kāi)鹽箱蓋目測(cè)鹽位,一般不低于鹽箱1/3高度,鹽的不溶性雜質(zhì)要＜1%,禁止使用含有各種添加劑鹽類,可使用醫(yī)用氯化鈉。鹽箱中有時(shí)會(huì)形成鹽橋,即在鹽層下部形成一個(gè)空間,再生過(guò)程中鹽不能溶解在水中制成鹽溶液,失效樹(shù)脂便得不到再生,水處理器將不能產(chǎn)生出合格的軟水,因此,定期檢查鹽位,避免鹽橋產(chǎn)生。

3.4 關(guān)于EOW的儲(chǔ)存 陳為民等[2]報(bào)道,EOW在保存過(guò)程中,pH略有降低,在保存前7 d內(nèi),EOW的滅菌率為100%,保存7 d后,滅菌率明顯下降。提示使用儲(chǔ)存箱尤其是全封閉的儲(chǔ)存箱內(nèi)的EOW時(shí)需注意制備的時(shí)間,儲(chǔ)存箱內(nèi)殘留液應(yīng)指定日期徹底清除。2009年3月至7月,本院由于工作量增加,改良了工作程序,將EOW 制備改為每天下午2∶00開(kāi)啟系統(tǒng)生成EOW,然后儲(chǔ)存在儲(chǔ)存箱內(nèi),供第2天使用,定于每周六對(duì)儲(chǔ)存箱進(jìn)行清潔,徹底清除殘留液,觀察3項(xiàng)參數(shù)的監(jiān)測(cè)結(jié)果均符合要求。

[1]李新武,趙斌秀,班海群,等.酸性氧化電位水用于滅菌前手術(shù)器械消毒效果研究[J].中國(guó)護(hù)理管理,2009,8(4):5-8.

[2]陳為民,徐顯干,肖賢明.酸性氧化電位水保存后的特性及消毒效果[J].環(huán)境與健康雜志,2007,24(5):308-309.

[3]周正任.醫(yī)學(xué)微生物學(xué)[M].第6版.北京:人民衛(wèi)生出版社,2003:19-29.