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        響應(yīng)曲面法優(yōu)化廢電路板浸金工藝參數(shù)試驗(yàn)研究

        2022-12-24 07:23:22
        濕法冶金 2022年6期
        關(guān)鍵詞:優(yōu)化影響質(zhì)量

        高 娜

        (瀘州職業(yè)技術(shù)學(xué)院 人工智能與大數(shù)據(jù)學(xué)院,四川 瀘州 646000)

        廢電路板中含有金、鈀、銀等貴金屬,具有一定回收價(jià)值[1]。目前,從廢電路板中回收貴金屬的方法包括火法、濕法、機(jī)械破碎-物理分離法等[2-4]。與火法和機(jī)械破碎物理分選相比,濕法工藝因優(yōu)勢明顯,得到廣泛研究與應(yīng)用,但存在化學(xué)試劑消耗量高、廢渣量大等缺點(diǎn)[5-7]。控制電位氯化浸出法因具有工藝簡單、低成本等優(yōu)點(diǎn)越來越受到關(guān)注。試驗(yàn)研究了用控制電位氯化浸出法浸出廢電路板中的金,考察了各因素對(duì)金浸出的影響,并通過響應(yīng)曲面法確定了最佳工藝條件,以求為從廢電路板中高效提取貴金屬提供一種可參考的方法。

        1 試驗(yàn)部分

        1.1 試驗(yàn)原料、試劑及儀器

        廢電路板:廢電腦內(nèi)存條,用剪切式破碎機(jī)和沖擊式旋轉(zhuǎn)磨碎機(jī)兩級(jí)破碎篩分,再通過高壓靜電分選法進(jìn)行金屬富集,粒徑0.45 mm,主要成分見表1。

        表1 廢電路板的主要化學(xué)成分 %

        主要試劑:NaClO3,99.0%,阿拉丁試劑有限公司;H2SO4,98.0%,國藥集團(tuán);NaCl,99.8%,國藥集團(tuán);蒸餾水,上海優(yōu)普儀器設(shè)備有限公司。

        主要儀器:電子天平,AL104型,上海精天電子儀器有限公司;磁力攪拌機(jī),HJ-3型,金壇市盛藍(lán)儀器制造公司;氧化還原探頭,LE20型,梅特勒托利多集團(tuán);pH計(jì),S-3C型,上海精密科學(xué)儀器有限公司;真空泵,SHZ-DⅢ型,上海丞明儀器設(shè)備有限公司;電感耦合等離子體光譜儀,ICP-AE型,美國賽默飛世爾科技公司。

        1.2 試驗(yàn)原理

        控制電位氯化浸出法是利用不同元素的氧化還原電位差異達(dá)到浸出和分離金屬的目的。采用此法分離金屬通常需要添加氧化劑(如氯氣或氯酸鈉)來控制電位[8]。在系統(tǒng)控制的電位下,電位較正的元素基本不被氧化而留在渣中,而電位較負(fù)的元素首先被氧化進(jìn)入溶液[9],從而實(shí)現(xiàn)不同金屬元素的選擇性浸出和分離。元素氧化和還原電位差異越大,浸出效果越好。氧化還原電位較低時(shí)賤金屬溶解浸出,氧化還原電位較高時(shí)貴金屬溶解浸出[10]。因此,控制電位氯化浸出法可用于分離貴賤金屬。部分貴賤金屬在Me-Cl-H2O體系中的氧化還原電位及吉布斯自由能見表2。

        表2 部分貴賤金屬在Me-Cl-H2O體系中的氧化還原電位及吉布斯自由能

        1.3 試驗(yàn)方法

        準(zhǔn)確稱取5 g廢電路板樣品置于200 mL燒杯中,加入50 mL硫酸溶液(浸出介質(zhì)),保持恒溫[15]。勻速攪拌加入氯酸鈉和氯化鈉,通過氧化還原探頭監(jiān)測電位,控制在1.1 V左右。試驗(yàn)結(jié)束后用電感耦合等離子體光譜儀測定浸出液和浸出渣中金含量,計(jì)算金浸出率。計(jì)算公式[16]為

        式中:y—金浸出率,%;m—廢電路板樣品質(zhì)量,g;w—廢電路板樣品中金質(zhì)量分?jǐn)?shù),%;V—浸出液體積,V;ρ—浸出液中金質(zhì)量濃度,g/L。

        2 試驗(yàn)結(jié)果與討論

        2.1 單因素試驗(yàn)

        2.1.1 NaCl質(zhì)量濃度對(duì)金浸出率的影響

        浸出溫度50 ℃,浸出時(shí)間 90 min,硫酸質(zhì)量濃度150 g/L,NaCl質(zhì)量濃度對(duì)金浸出率的影響試驗(yàn)結(jié)果如圖1所示。

        圖1 NaCl質(zhì)量濃度對(duì)金浸出率的影響

        由圖1看出:隨NaCl質(zhì)量濃度升高,金浸出率先升高后降低;NaCl質(zhì)量濃度升至16 g/L時(shí),金浸出率達(dá)最大,為92.50%。這主要是因?yàn)榻鲞^程包括氯酸鈉氧化和氯化鈉配合物形成[17]。在電位1.1 V條件下,金被氯氣氧化,與氯離子形成配合物,在配合物形成過程中,隨氯離子濃度升高,配合反應(yīng)達(dá)到平衡,同時(shí),溶液中更多氯離子的存在會(huì)促進(jìn)配合反應(yīng)正向進(jìn)行。[18]。

        2.1.2 浸出溫度對(duì)金浸出率的影響

        浸出時(shí)間90 min,NaCl質(zhì)量濃度16 g/L,硫酸質(zhì)量濃度150 g/L,浸出溫度對(duì)金浸出率的影響試驗(yàn)結(jié)果如圖2所示。

        圖2 浸出溫度對(duì)金浸出率的影響

        由圖2看出:隨浸出溫度升高,金浸出率先升高后降低;溫度升至50 ℃時(shí),金浸出率達(dá)最大,為94.04%。這是因?yàn)榉磻?yīng)體系沒有密封,浸出溫度過高,氯氣從反應(yīng)系統(tǒng)中逸出的可能性增大,造成氧化劑損失[19]。

        2.1.3 浸出時(shí)間對(duì)金浸出率的影響

        浸出溫度50 ℃,NaCl質(zhì)量濃度16 g/L,硫酸質(zhì)量濃度150 g/L,浸出時(shí)間對(duì)金浸出率的影響試驗(yàn)結(jié)果如圖3所示。

        圖3 浸出時(shí)間對(duì)金浸出率的影響

        由圖3看出:金浸出率隨反應(yīng)進(jìn)行先升高后緩慢降低;反應(yīng)90 min時(shí),金浸出率達(dá)最大,為93.42%。

        2.2 響應(yīng)曲面法優(yōu)化工藝參數(shù)

        響應(yīng)曲面法是一種用于優(yōu)化反應(yīng)過程的統(tǒng)計(jì)設(shè)計(jì)方法。試驗(yàn)采用響應(yīng)曲面法和中心復(fù)合設(shè)計(jì)對(duì)浸出工藝參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化。在分析單因素對(duì)金浸出率影響基礎(chǔ)上,通過中心復(fù)合試驗(yàn)設(shè)計(jì)原則,選擇浸出溫度、浸出時(shí)間和NaCl質(zhì)量濃度為優(yōu)化因素,利用Design-Expert 8.0.6軟件對(duì)3因素2水平的響應(yīng)面進(jìn)行分析。優(yōu)化因素及水平見表3,試驗(yàn)設(shè)計(jì)及結(jié)果見表4,方差分析結(jié)果見表5。

        表3 響應(yīng)曲面法優(yōu)化因素及水平

        表4 響應(yīng)曲面法試驗(yàn)設(shè)計(jì)及結(jié)果

        表5 方差分析結(jié)果

        利用Design-Expert 8.0.6軟件對(duì)表4數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合,得到二階非線性回歸方程:

        y=92.52+0.83A-0.37B+1.52C-

        0.22AB-0.29AC+0.14BC-

        2.65A2-0.70B2-1.69C2。

        由回歸方程可知,一次項(xiàng)的偏回歸系數(shù)絕對(duì)值順序?yàn)镹aCl質(zhì)量濃度>浸出溫度>浸出時(shí)間,表明對(duì)金浸出率影響最大的因素是NaCl質(zhì)量濃度。

        由表5看出:F=6.51,P<0.01,表明模型達(dá)到極顯著水平;失擬項(xiàng)P<0.000 1,失擬項(xiàng)不顯著。根據(jù)計(jì)算得出:模型標(biāo)準(zhǔn)方差為2.11,表明擬合的回歸方程較為準(zhǔn)確;該模型的決策系數(shù)為0.914 2,說明該模型具有良好的預(yù)測能力;信噪比大于4,說明模型具有良好的擬合和預(yù)測效果。

        3個(gè)因素兩兩相互作用對(duì)金浸出率的影響試驗(yàn)結(jié)果如圖4~6所示。由圖4看出:在浸出時(shí)間90 min、NaCl質(zhì)量濃度16 g/L條件下,浸出溫度從40 ℃升至50 ℃,金浸出率從90.15%升至94.16%。由圖5看出:在浸出溫度50 ℃、浸出時(shí)間90 min條件下,NaCl質(zhì)量濃度從14 g/L升至16 g/L,金浸出率從87.64%升至92.80%。由圖6看出:浸出溫度和NaCl質(zhì)量濃度分別為50 ℃ 和16 g/L時(shí),浸出時(shí)間從60 min延長至90 min,金浸出率從90.75%升至93.42%。上述結(jié)果說明,兩兩因素交互作用對(duì)金浸出率的影響結(jié)果與單因素試驗(yàn)結(jié)果相吻合。

        圖4 浸出溫度與時(shí)間相互作用對(duì)金浸出率的影響

        圖5 浸出溫度與NaCl質(zhì)量濃度相互作用對(duì)金浸出率的影響

        圖6 浸出時(shí)間與NaCl質(zhì)量濃度相互作用對(duì)金浸出率的影響

        通過軟件Design-Expert的參數(shù)優(yōu)化,對(duì)回歸模型求解方程,得到最優(yōu)理論試驗(yàn)條件為:浸出時(shí)間82.66 min,溫度51.47 ℃,NaCl質(zhì)量濃度16.86 g/L,計(jì)算得出此條件下的金浸出率理論預(yù)測值為94.60%。

        根據(jù)上述理論參數(shù)優(yōu)化方案,確定實(shí)際優(yōu)化條件方案為:浸出時(shí)間80 min,溫度50 ℃,NaCl質(zhì)量濃度17 g/L,在此條件下進(jìn)行浸出試驗(yàn),得到金浸出率為94.55%,與理論預(yù)測值94.60%僅相差0.05%,表明用響應(yīng)曲面法優(yōu)化工藝參數(shù)可靠實(shí)用。

        3 結(jié)論

        在電位1.1 V條件下,可采用控制電位氯化浸出法從廢電路板中浸出金。采用響應(yīng)曲面法對(duì)單因素試驗(yàn)確定的優(yōu)化試驗(yàn)條件進(jìn)一步優(yōu)化,確定了最佳試驗(yàn)條件為:浸出溫度50 ℃,NaCl質(zhì)量濃度17 g/L,浸出時(shí)間80 min,在該條件下,金浸出率達(dá)94.55%,實(shí)際試驗(yàn)值與理論預(yù)測值僅相差0.05%,表明用響應(yīng)曲面法優(yōu)化從電路板浸出金工藝參數(shù)可靠實(shí)用。但受目前試驗(yàn)設(shè)備和數(shù)據(jù)規(guī)模限制,此優(yōu)化方法仍有待進(jìn)一步完善和優(yōu)化。

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