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        二維渦流的反饋與操控

        2021-09-16 12:22:28劉皓天馮杰成康現偉
        大學物理 2021年9期
        關鍵詞:磁導率介電常數渦流

        劉皓天,馮杰成,康現偉

        (1. 北京師范大學 物理學系,北京 100875;2. 北京師范大學 核科學與技術學院,北京 100875)

        電磁渦流是最常見的電磁感應現象之一,在電子電氣工程領域有著重要的地位和廣泛的應用,但在精度和適用范圍方面都存在著許多局限.通過對其物理本質的探索和近些年來材料領域的飛速進步,人們認為渦流在不同領域還具備更大的潛力.

        1 渦流探測的唯一性證明

        渦流探傷可以說是渦流最重要的應用之一,其正確性由這一類“逆問題”的唯一性所保證.其中,最受人關注的是“對于一個反饋信號,被探測物體是否只存在一種電磁結構?”倘若答案是否定的,那么這樣的探測方法必定會受到很大的局限.

        想要回答這個問題,首先要回答“是否存在一種電流,其外部產生的磁場為0?”這樣的情況的確存在.1910年,Ehrenfest[1]首先提出了該想法,并做出了初步數學驗證.1989年,Gamliel, Kim, Nachman和Wolf[2]給出了一個十分有用的結論:有界源在區(qū)域A分布,形成的電磁場滿足

        (1)

        其中,q(r)表示隨r衰減的源函數.

        式(1)的解為[3]

        (2)

        積分區(qū)域為A.

        當源q(r)在外界區(qū)域B不產生電磁波輻射時,一定滿足邊界條件

        u(r)|r∈S=0

        (3)

        (4)

        其中,S表示A和B的邊界,如圖1所示.即在邊界處,若源產生的場平滑地趨于0,這個源是不會在區(qū)域B發(fā)出輻射的.設總磁場H(r,t)為

        H(r,t)=Hi(r,t)+Hr(r,t)

        (5)

        其中,Hi(r,t)表示激勵磁場,由檢測探頭上的交流電產生,可令被探物體產生渦流,該渦流對應上文提及的有界源.Hr(r,t)表示反饋磁場,由被探物體的渦流產生,作為探測信號由檢測探頭接收.

        圖1 邊界S示意圖

        渦流擴散方程

        (6)

        其中,μ(r)表示為磁化率,σ(r)表示電導率.初始條件為

        H(r,0)=Hi(r,0)

        (7)

        令H(r,t)=H(r)eiωt,方程(6)可化簡為

        (8)

        令k2=-iω

        (9)

        (10)

        將式(5)代入式(10)得

        (11)

        (12)

        式(12)與(1)類似,其解可寫為

        (13)

        積分區(qū)域為A.當μ(r)、σ(r)為常數,即F(r′)為常數時,Hr(r)|r∈S≠0.因此,渦流在區(qū)域B中會產生反饋磁場.而當μ(r)、σ(r)不為常數時,渦流產生的反饋磁場在邊界S處有平滑地趨于0的可能.

        由于渦流探測最主要的用途是對大型金屬原件探傷,通常面對的材料都是各向同性的,因此不存在上文提及的在外部產生磁場為0的電流.現在,假設在外部產生磁場為0的電流I′r存在.當被探物體的電磁結構改變,激勵磁場Hi引起的渦流由Ir變?yōu)镮r+I′r時,而在外部產生的反饋磁場Hr不變.即導致一種反饋磁場對應兩種電磁結構,唯一性被破壞.然而,當在外部產生磁場為0的電流不存在時,唯一性得到保障.

        2 渦流探測在工業(yè)應用

        在工業(yè)應用中,通過監(jiān)測渦流在樣品中的變化可以來探測樣品的各種性質:電導率、硬度,是否有裂痕,區(qū)分純材料和合金等.

        2.1 渦流探測原理

        工作原理為檢測探頭通入交流電,由于電磁感應在樣品中形成渦流,渦流再次形成反饋磁場,對探頭的阻抗產生影響.監(jiān)測探頭阻抗的變化即可實現對樣品的檢測[4].設未受影響時的探頭阻抗為

        Z0=R0+i2πfL0

        (14)

        其中,R0表示電阻,i表示虛數單位,f表示測試頻率,L0表示探頭電感.受反饋磁場影響后的探頭新阻抗為

        Zc=Rc+i2πfLc

        (15)

        Rcn>Rcn+crack,Lcn

        這是因為當樣品中有裂痕時,會阻礙渦流,導致生成的反饋磁場減小,使得阻抗實部減??;激勵磁場和反饋磁場的疊加之和增大,使得阻抗的虛部增大.

        2.2 趨膚效應對渦流探測的影響

        在工業(yè)運用中,考慮到趨膚效應,通常會通過改變測試頻率來適應不同的檢測材料.

        (16)

        其中,J(z)表示樣品深度為z的電流面密度,Jmax表示樣品表面最大電流密度,δ表示標準滲透深度,α0表示為初始相位,ex表示電流方向.

        (17)

        其中,ω=2πf.由式(17)得,測試頻率越低,電磁探傷可以達到的深度就越大.

        2.3 電導率、磁導率對渦流探測的影響

        在工業(yè)應用中,對于電導率高的樣品,產生的渦流強度更高,導致探頭接收到的信號電平更高.有助于分辨究竟是由于材料自身厚度不均導致的信號變化,還是材料自身存在裂痕導致的信號變化.但是由式(17)可知,高導電率樣品的標準滲透深度δ較小,能夠檢測的深度有限.

        鐵磁材料由于磁導率變化大,對渦流會產生較大影響,導致檢測難度增大.可以通過平均化磁導率來降低不均衡磁導率的影響.將樣品足夠靠近通入大電流的磁化盤,使樣品磁化即可.

        3 渦流操控

        渦流在工程上的重要性不言而喻,利用相關原理的設計也是應用廣泛.因此,如果能夠實現對渦流的操控,例如在某一特定激勵磁場下,通過設計負載的屬性,令其產生符合人們預期的渦流,會對相關領域很有幫助.

        渦流操控,很早就被應用于產品中.例如為了減小渦流帶來的損耗,變壓器的鐵芯經常由鋼片壓制而成,中間的空氣間隙有效地減弱了渦流.為了更加精細地操控,改變材料的磁導率和介電常數是最直接的方法[5].

        首先,推導最基本的渦流方程.本構方程:

        J=σE

        (18)

        B=μH

        (19)

        麥克斯韋方程組:

        (20)

        其中,ε表示介電常數.

        (21)

        (22)

        (23)

        (24)

        (25)

        稱式(25)為渦流的擴散方程.同理,還可以得到關于電場的擴散方程

        (26)

        實際上這一方程只適用于電導率σ和磁導率μ為常數情況.完整描述導體中磁場的方程應該修改為[6]

        (27)

        做以下簡化:

        2) 電導率σ和磁導率μ變化相對平緩,在高頻情況下,其梯度的變化相對于磁場強度隨時間的變化很小,忽略式(27)后面兩項;

        3) 激勵磁場的邊界條件:固定頻率為ω的正弦場;

        4) 考慮無窮大二維平面.

        則得到了更加簡單的渦流方程:

        (28)

        令z=x+iy,方程寫成

        (29)

        設γ=μσ,做一次保角變換,令ζ=ζ(z)

        (30)

        通過在不同區(qū)域設計不同大小的γ,可以從z坐標系中的磁場變換到ζ坐標系中的目標磁場,實現對渦流的操控.以上只是簡略的數學近似,該方法只適用于借助對稱可以化為二維的系統(tǒng).

        另一種由Pendry[7]提出的方法可以適用于三維空間.本文將其應用在簡化的二維渦流上.假設新的坐標為q1(x,y)、q2(x,y),定義

        (31)

        作為簡寫形式.

        由于麥克斯韋方程組的協(xié)變性,滿足方程組的解在新坐標下形式保持不變,只需將介電常數ε和磁導率μ改為張量形式(對應各向異性材料的情況).此時渦流擴散方程的形式會變得更加復雜,所以在這里做一個限定

        J=σE

        (32)

        始終成立,即二者始終保持線性關系.在新的正交坐標系下,磁導率μ′qi,介電常數ε′qi為

        (33)

        (34)

        磁場強度H′qi,電場強度E′qi變?yōu)?/p>

        E′qi=QqiEi

        (35)

        H′qi=QqiHi

        (36)

        計算得到Qqi,帶入變換后的渦流方程中,便可理論上求得各個位置的磁導率和介電常數.這里嘗試計算幾個簡單的例子.

        未進行任何操作時,在均勻介電常數、磁導率、電導率的材料上,渦流是對稱的圓形,如圖2所示.

        圖2 未進行操作的渦流示意圖

        如果希望渦流效應只產生在R1~R2的范圍,內部不會受到渦流的影響,如圖3所示.

        圖3 范圍為R1~R2的渦流示意圖

        (37)

        (38)

        (39)

        (40)

        在新的正交坐標r′、θ′中,按照式(37)—(40)求得的磁導率和介電常數設計樣品.得到的樣品在激勵磁場中產生的渦流將只分布在R1~R2的范圍.相似方法可以得到渦流效應只產生在0~R1的范圍,外部不會受到渦流的影響, 如圖4所示.

        圖4 范圍為0~R1的渦流示意圖

        這種操縱渦流的方法在理論上可以生成復雜的圖案.但圖案越復雜,材料的性質也越復雜.所以操控渦流的精度很大程度上取決于材料加工技術.

        4 結論

        本文論證了渦流探測逆問題的唯一性.研究了渦流探測在工業(yè)中的各種影響因素.理論證明了通過改變磁導率、介電常數,可以達到改變渦流形狀的目的.

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