高云婕,高 見,周小羽
(1.揚(yáng)州科技學(xué)院電子工程學(xué)院,揚(yáng)州 225009;2.揚(yáng)州大學(xué)物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院,揚(yáng)州 225002)
過渡金屬硫?qū)倩衔?TMDs),由于優(yōu)良的物理化學(xué)性質(zhì)引起了人們的廣泛關(guān)注[1-5].其中,二硫化鉬作為典型代表,其二維體系具有類石墨烯的蜂窩狀點陣結(jié)構(gòu)特點,單層二硫化鉬由SMo-S組成,其中一個Mo層封閉在兩個S層中,原子正六邊形排列,層間通過范德華力連在一起[6,7].體相MoS2是帶隙為1.3 eV的間接帶隙半導(dǎo)體,而單層MoS2是帶隙為1.8 eV的直接帶隙半導(dǎo)體[8,9],能更好地吸收可見光.
低維MoS2受量子束縛效應(yīng)的作用,展現(xiàn)出奇特的光、電、磁及催化性質(zhì),在納米器件、納米新能源、納米催化等領(lǐng)域具有潛在的實際應(yīng)用價值,已經(jīng)成為當(dāng)今納米材料研究的前沿和熱點.對于二維MoS2沿縱向切割時可形成準(zhǔn)一維MoS2納米帶(MoS2NRs),根據(jù)其邊界結(jié)構(gòu)特點,可形成扶手椅型納米帶(AMoS2NRs)和鋸齒型納米帶(ZMoS2NRs),但兩者表現(xiàn)出了完全不同的電、磁性質(zhì),鋸齒狀MoS2納米帶(ZMoS2NRs)是具有鐵磁性(FM)邊緣態(tài)的磁性金屬[10],而扶手椅型MoS2納米帶(AMoS2NRs)表現(xiàn)為非磁性半導(dǎo)體,其帶隙隨納米帶寬度增加而增加,并從間接帶隙轉(zhuǎn)變?yōu)橹苯訋禰11].說明MoS2納米帶電、磁、輸運(yùn)等性質(zhì)依賴于邊緣態(tài)[1,2].然而在樣品的制備過程中,缺陷不可避免,其中S空位最為典型.潘等人發(fā)現(xiàn),對有空位的ZMoS2NRs邊緣進(jìn)行修飾時,能夠使其從金屬性質(zhì)變?yōu)榘虢饘傩再|(zhì)[12].所謂半金屬材料是指在一個自旋通道上表現(xiàn)出金屬特性,在另一個自旋通道中表現(xiàn)出絕緣體性質(zhì).半金屬材料被認(rèn)為是未來納米器件中提供100%自旋極化電流的理想自旋電子材料[13-17].事實上,AMoS2NRs中的原子空位缺陷很容易得到,甚至可以通過實驗實現(xiàn)其濃度來控制[18-20].然而,關(guān)于空位對其電子性質(zhì)的影響的報道極少,這里,我們采用密度泛函理論(DFT)方法,研究S空位(VS)對AMoS2NRs性質(zhì)的影響.電子結(jié)構(gòu)的計算和磁性分析表明,S空位的位置對體系物性影響比較大,當(dāng)S空位在內(nèi)部即a-g處時,AMoS2NRs均是非磁半導(dǎo)體,但當(dāng)S空位在邊緣即h處時,AMoS2NRs表現(xiàn)為磁性半金屬.主要原因是邊緣S空位能極大地改變體系的結(jié)構(gòu),特別是邊緣的結(jié)構(gòu).進(jìn)而打破了原有的平衡,使邊緣電荷分布發(fā)生改變,從而改變了AMoS2NRs的電子結(jié)構(gòu),使其被調(diào)節(jié)成半金屬.但隨著其空位濃度時的增加,AMoS2NRs體系可被調(diào)節(jié)成稀磁半導(dǎo)體.這些有趣的發(fā)現(xiàn)將使得低維MoS2材料在自旋電子學(xué)上存在潛在的實用價值.
本計算,基于VASP軟件(Vienna ab-initio simulation package)[21,22]的密度泛函理論(DFT),用Perde-Burke-Ernzerhof(PBE)的廣義梯度近似(GGA)處理電子交換修正勢[23],S-Mo-S層間的van der Waals相互作用由vdW(van der Waals)修正[24]來描述,用PBE+vdW方法對MoS2納米帶計算的可靠性已經(jīng)被證實[25,26].平面波基組展開的截止能量使用500eV.所有的晶格常數(shù)和原子位置都進(jìn)行了優(yōu)化,達(dá)到其Hellman-Feynman力小于0.01 eV/?,總能量收斂到1.0×10-5eV.在Monkhorst-Pack方案的基礎(chǔ)上,采用特殊的k點,用1×11×1網(wǎng)格幾何優(yōu)化、1×21×1網(wǎng)格進(jìn)行電子結(jié)構(gòu)計算.計算得到的晶格常數(shù)為3.17?,與實驗值(3.16?)[27]一致.
實驗中,不同結(jié)構(gòu)的MoS2納米帶可通過切割單層MoS2獲得,如圖1(a)給出了帶寬N=8的AMoS2NRs,在計算中,沿納米帶的方向施加一維周期邊界條件,另兩個方向則施加大于10?的真空層,以去除相鄰模型之間的耦合作用.圖1(b)給出了純AMoS2NRs的能帶和原子分波態(tài)密度圖,很明顯,自旋向上通道和自旋向下通道完全對稱,AMoS2NRs是一個非磁性的半導(dǎo)體.為了考察S空位的位置對AMoS2NRs物性的影響,我們研究了S空位在不同位置處(如位點a、b、c、d、e、f、g和h)的情況,如圖1(a)所示.
圖1 (a):純AMoS2 NRs的側(cè)視圖,N代表納米帶的帶寬,紫色、黃色球分別代表MO、S原子,a~h字母代表位點;(b):帶寬N=8的純AMoS2 NRs的能帶結(jié)構(gòu)和原子分波態(tài)密度圖;Fig.1 (a):Side view of pure AMoS2 NRs,N represents the bandwidth of the nanoribbons,The purple and yellow spheres represent Mo and S atoms respectively,letters a~h represent the site(b):Energy band structure and atomic partial state density of pure AMoS2 NRs with bandwidth N=8;
首先研究S空位對AMoS2NRs結(jié)構(gòu)的影響.對于純AMoS2NRs,邊緣的Mo-S平均鍵長為2.410?,S空位在不同位置時,AMoS2NRs邊緣Mo-S的平均鍵長為2.389?,其中空位在邊緣,即a和h位點時,Mo-S鍵長變化較大,分別是2.263?和2.261?.此外,S空位對Mo-Mo鍵也產(chǎn)生了一定影響,邊緣的平均鍵角與純AMoS2NRs的平均鍵角存在一定的差異,也就是說S空位對晶體結(jié)構(gòu)產(chǎn)生了影響,尤其當(dāng)空位出現(xiàn)在邊緣時,AMoS2NRs結(jié)構(gòu)變化最明顯.由于AMoS2NRs的電磁性質(zhì)強(qiáng)烈依賴于邊緣的結(jié)構(gòu),空位使其邊緣晶格發(fā)生了結(jié)構(gòu)畸變,進(jìn)而誘導(dǎo)AMoS2NRs的晶體場的變化,必將對其電子結(jié)構(gòu)產(chǎn)生重大影響.
在研究其電子性質(zhì)之前,我們首先需要考慮空位的出現(xiàn)對AMoS2NRs穩(wěn)定性的影響,形成能是研究其穩(wěn)定性的重要指標(biāo).形成能定義為=(Edefect+nμs)-Eperfact[10],這里Edefect和Eperfact分別是有S空位缺陷和沒有S空位缺陷AMoS2NRs的總能量.n是完備的AMoS2NRs中移除的S原子數(shù)目,μS是S原子的化學(xué)勢,這在很大程度上取決于其實驗生長條件,因此需要分別考慮富Mo和富S條件.表1顯示了AMoS2NRs的S空位在不同位置的形成能.在富Mo條件下,形成能在-3.31~-0.69 eV范圍內(nèi),為負(fù)值,但在富S條件下,形成能為0.93~3.54 eV,為正值,說明在富Mo條件下,S空位較易形成.此外,S空位在邊緣位置(a位和h位)的形成能低于內(nèi)部位點(b、c、d、e、f和g),表明邊緣位置很容易形成S空位,這是由于懸掛鍵的存在,邊緣位置不穩(wěn)定且活躍而導(dǎo)致的.
表1 S空位的位置、富S和富Mo條件下的形成能單位eV)、邊緣位置Mo-S的鍵長,中間位置SS鍵長和帶隙E g(eV).Table 1 position of S vacancy,formation energiesin eV)under rich S and rich Mo conditions,bond lengths(in A)of edge position Mo-S,bond lengths(in A)of middle position S-S and band gaps E g(in eV).
表1 S空位的位置、富S和富Mo條件下的形成能單位eV)、邊緣位置Mo-S的鍵長,中間位置SS鍵長和帶隙E g(eV).Table 1 position of S vacancy,formation energiesin eV)under rich S and rich Mo conditions,bond lengths(in A)of edge position Mo-S,bond lengths(in A)of middle position S-S and band gaps E g(in eV).
圖2 給出了S空位不同位置時,扶手型二硫化鉬納米能帶結(jié)構(gòu)和分波態(tài)密度圖(PDOS),我們發(fā)現(xiàn),其電子結(jié)構(gòu)圖各不相同,其主要原因是S空位在一定程度上改變了二硫化鉬納米帶的晶體結(jié)構(gòu),進(jìn)而引起其能帶結(jié)構(gòu)的變化.當(dāng)空位出現(xiàn)在中間位置時,能帶圖中顯示,其自旋向上和自旋向下通道對稱,AMoS2NRs都表現(xiàn)出非磁性半導(dǎo)體的性質(zhì).PDOS分析表明,費(fèi)米面附近分波態(tài)密度主要來源于邊緣的Mo-4d和S-3p軌道貢獻(xiàn).由于S空位對AMoS2NRs結(jié)構(gòu)的影響,費(fèi)米能級附近的電子態(tài)有所不同,因此,S空位在不同位置時,AMoS2NRs體系具有不同的帶隙,即S空位在a,b,c,d,e,f,g位點時,帶隙分別為0.469,0.548,0.514,0.459,0.458,0.523和0.541eV.
圖2 S空位分別在a、b、c、d、e、f、g和h位點時AMoS2 NRs的能帶結(jié)構(gòu)和分波態(tài)密度圖(PDOS).Fig.2 Energy band structures and partial state density(PDOS)diagrams of AMoS2 NRs with S vacancies at a,b,c,d,e,f,g and h sites,respectively.
有趣的是,當(dāng)空位出現(xiàn)在邊緣h位置時,AMoS2NRs的能帶結(jié)構(gòu)發(fā)生很大的變化,其性質(zhì)從非磁半導(dǎo)體變成了磁性半金屬態(tài).如圖2(h),從能帶圖和原子部分PDOS可以發(fā)現(xiàn),自旋向上通道費(fèi)米能附近有明顯的能帶穿過費(fèi)米能,而在其自旋向下的費(fèi)米能附近卻沒有能帶穿過,這是半金屬性質(zhì)的重要特征.由圖3(b)自旋密度圖發(fā)現(xiàn),空位出現(xiàn)在h位置時,AMoS2NRs右側(cè)有明顯的磁性,磁性主要來源是邊緣的Mo,這也進(jìn)一步表明AMoS2NRs的電、磁性質(zhì)主要依賴于邊緣,當(dāng)空位出現(xiàn)在邊緣時,邊緣位置的晶體結(jié)構(gòu)發(fā)生明顯的畸變,這是磁性產(chǎn)生的主要原因.
圖3 (a):空位在h位點的AMoS2 NRs的能帶結(jié)構(gòu)和原子分波態(tài)密度圖;(b):空位在h位置的自旋密度圖,等值線為0.02 eV/?3.Fig.3 (a):Energy band structure and atomic partial state density diagram of AMoS2 NRs with vacancy in h site;(b):spin density diagram of vacancy in h,contour line is 0.02 eV/?3.
此外,我們進(jìn)一步研究了空位濃度對電磁性質(zhì)的影響,如圖4(a),我們?nèi)匀徊捎脦扤=8的AMoS2NRs的結(jié)構(gòu),但將晶胞擴(kuò)大兩倍,并且在邊緣只保留一個S空位在h位點,即S空位的濃度降低.圖4(b)的能帶圖表明AMoS2NRs顯示出半導(dǎo)體的性質(zhì),但其自旋向上通道和自旋向下通道并不對稱,說明體系具有一定的磁性,從圖4(c)自旋密度圖發(fā)現(xiàn)磁性主要來源于S空位附近的Mo原子.
圖4 (a):邊緣制造了一個S缺陷的帶寬N=8的雙倍晶胞,(b):晶胞的能帶結(jié)構(gòu)和分波態(tài)密度圖(PDOS),(c):晶胞的自旋密度圖,等值線為0.02 eV/?3.Fig.4 (a)Double cell with S defeat bandwidth N=8 created at the edge,(b)energy band structure and partial state density diagram(PDOS)of the cell,and(c)spin density diagram of the cell,contour line is 0.02 eV/?3.
通過以上討論,我們發(fā)現(xiàn)S空位的位置和濃度均會對AMoS2NRs電子結(jié)構(gòu)和電、磁性質(zhì)產(chǎn)生較大的影響.當(dāng)S空位出現(xiàn)在邊緣時,通過調(diào)節(jié)S空位的濃度,AMoS2NRs可以從磁性半金屬調(diào)節(jié)成稀磁半導(dǎo)體,S空位特別是邊緣的S空位改變了體系的晶體結(jié)構(gòu),從而使得邊緣電荷重新分布,進(jìn)而改變了其電子結(jié)構(gòu),使得體系的電、磁性質(zhì)發(fā)生變化.
總之,第一性原理計算表明,AMoS2NRs的電子結(jié)構(gòu)及自旋性質(zhì)受S空位的調(diào)控.當(dāng)出現(xiàn)S空位出現(xiàn)在帶內(nèi)部時,AMoS2NRs的物性不變,但當(dāng)S空位出現(xiàn)在帶邊緣位置時,AMoS2NRs從非磁性半導(dǎo)體被調(diào)節(jié)成半金屬;且隨著S空位濃度的增加,AMoS2NRs被調(diào)節(jié)成稀磁半導(dǎo)體,并揭示了其物性受S空位調(diào)制的微觀機(jī)理.AMoS2NRs的電子態(tài)及其自旋態(tài)受S空位調(diào)制的性質(zhì)為基于MoS2納米帶的新型低維納米電子學(xué)和自旋電子學(xué)的工程應(yīng)用開發(fā)提供了更豐富的可能.