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        空位

        • FeCuMnNi合金體系中溶質(zhì)-空位團(tuán)簇的原子尺度研究
          移級聯(lián)損傷,產(chǎn)生空位和自間隙原子等點(diǎn)缺陷及其團(tuán)簇;形成的點(diǎn)缺陷及其團(tuán)簇具有很高的移動性,加速了溶質(zhì)原子的擴(kuò)散,在溫度場、應(yīng)力場的作用下,經(jīng)過長時間的演化,在RPV鋼中形成析出物、位錯環(huán)等微觀缺陷以及元素的晶界偏聚[1-3]。這會使RPV鋼出現(xiàn)輻照硬化和輻照脆化,導(dǎo)致材料韌脆轉(zhuǎn)變溫度升高,增加壓力容器發(fā)生脆性斷裂的風(fēng)險,直接威脅核設(shè)施的安全運(yùn)行[4-5]。研究表明,中子輻照誘發(fā)RPV鋼脆化的機(jī)制可分為兩類:主導(dǎo)機(jī)制為硬化脆化,即輻照導(dǎo)致材料形成高密度納米級的

          原子能科學(xué)技術(shù) 2023年10期2023-10-27

        • 不同過冷度條件下HCP-Mg 凝固過程中的空位捕獲
          200444)空位是材料中最至關(guān)重要的缺陷, 會嚴(yán)重影響諸如金屬蠕變、屈服極限、半導(dǎo)體摻雜、光學(xué)器件吸收譜等重要材料屬性[1-3]. 空位的形成通常是在材料加工的早期——凝固過程中被捕獲進(jìn)晶體. 這種捕獲通常會造成其濃度超過平衡濃度, 稱為“捕獲效應(yīng)”. Hillert 等[4]基于固液界面的漸變模型, 構(gòu)建了一個用于描述純金屬快速凝固過程中空位捕獲的經(jīng)驗(yàn)?zāi)P? 并認(rèn)為空位捕獲必須在凝固速度超過1 m/s 的條件下才會發(fā)生.空位捕獲現(xiàn)象是公認(rèn)的事實(shí)[5]

          上海大學(xué)學(xué)報(自然科學(xué)版) 2023年2期2023-06-11

        • 用插空位法求解不相鄰問題的步驟
          題的主要方法是插空位法.運(yùn)用插空位法解答不相鄰問題的步驟為:題目中要求5名兒童不相鄰,則需采用插空位法解題,先將無限制條件的元素(5位母親)進(jìn)行全排列;再將不相鄰的元素(5名兒童)插入已排好的元素(5位母親)之間的空位及兩端的位置上.例2.將A,B,C,D,E, 5名同學(xué)按下列要求進(jìn)行排列,求所有滿足條件的排列方法數(shù).(1)5名同學(xué)排成一排,且A,B不相鄰;(2)5名同學(xué)排成一排,且A,B都不與C相鄰;(3)若一排有6個座位,將5名同學(xué)安排到其中的5個座位

          語數(shù)外學(xué)習(xí)·高中版下旬 2023年1期2023-03-23

        • 半導(dǎo)體材料中空位的引入、表征及其對光催化的影響
          ,13-14]、空位工程[15-16]、異質(zhì)結(jié)[17-18]和壓電光催化[19-20]等。眾所周知,缺陷能夠明顯改變材料的物化性質(zhì)[21]。空位作為最常見的點(diǎn)缺陷之一,因其能在不引入雜質(zhì)元素的條件下優(yōu)化光催化性能而被廣泛研究。Fujiwara等在20世紀(jì)90年代研究了硫空位對CdS吸附CO2能力的促進(jìn)[22],是第一個直接討論空位缺陷影響光催化性能的研究。此后,各種元素空位的開發(fā),例如常見的陰離子空位氧[16]、硫[23]、氮[24]和陽離子空位鋅[25]

          功能材料 2022年11期2022-12-19

        • 富鋰錳基三元材料Li1.167Ni0.167Co0.167Mn0.5O2中的氧空位形成*
          .5O2 中的氧空位形成,討論了環(huán)境溫度、壓強(qiáng)以及點(diǎn)缺陷的存在對氧空位形成能的影響,還討論了氧空位對材料容量的影響.結(jié)果表明,氧空位的形成能隨溫度的升高而下降,隨氧分壓的降低而降低.對于帶電氧空位(,空位形成能隨著費(fèi)米能級的升高而增加.研究還表明,氧空位的形成對Li1.167Ni0.167Co0.167 Mn0.5O2 材料中電荷密度分布的影響是相當(dāng)局域的, 氧空位形成后僅在氧空位附近的Mn 離子周圍出現(xiàn)明顯的電荷密度的重新分布.此外,計算了氧空位附近存在

          物理學(xué)報 2022年17期2022-09-14

        • Fe-C 合金在輻照條件下基體缺陷演化的OKMC 模擬*
          驗(yàn)證了碳(C)-空位(Vac)復(fù)合體在理想條件下的演化,在較低溫度下,復(fù)合體主要為C-Vac2.基于復(fù)合體陷阱的假設(shè),對Fe-C 系統(tǒng)中基體缺陷在輻照條件下的演化進(jìn)行了模擬.驗(yàn)證了碳空位復(fù)合體對基體缺陷有明顯的捕獲作用.模擬Fe-C 系統(tǒng)中基體缺陷在輻照條件下的演化能夠得到與實(shí)驗(yàn)一致的結(jié)果,對比討論了模擬中使用的有效近似參數(shù)對模擬結(jié)果的影響,為鐵基合金輻照缺陷演化的研究提供了基礎(chǔ)支撐.1 引言反應(yīng)堆中的中子輻照、高溫、高壓環(huán)境使鐵基合金產(chǎn)生微觀結(jié)構(gòu)改變,韌

          物理學(xué)報 2022年16期2022-08-28

        • 鋼液環(huán)境對Ti-O團(tuán)簇形貌影響的分子動力學(xué)模擬
          由于體系內(nèi)出現(xiàn)了空位群,導(dǎo)致此處能量較低,從而吸引了Ga+與N-,誘導(dǎo)了GaN的形核。上述研究均表明溶液中溶劑原子和空位對溶質(zhì)團(tuán)簇的形貌結(jié)構(gòu)及長大過程有顯著影響。本文采用分子動力學(xué)模擬探究鋼液中液態(tài)Fe原子、空位對Ti-O團(tuán)簇的形貌及長大過程的影響。1 模擬過程和參數(shù)設(shè)置利用Lammps軟件進(jìn)行分子動力學(xué)模擬計算,選用楊立昆等開發(fā)的Fe-Ti-O三元體系勢函數(shù)進(jìn)行相關(guān)計算,根據(jù)該勢函數(shù)計算得出Fe的熔點(diǎn)為2 051.99 K,模擬冶煉溫度為2 122 K,

          上海金屬 2022年3期2022-06-01

        • 空位對Cu/Sn 焊點(diǎn)中Cu3 Sn層元素擴(kuò)散的影響
          Cu 界面上存在空位時各元素的擴(kuò)散行為,研究發(fā)現(xiàn)Cu 晶體中Cu 空位形成能大于Cu3Sn 晶體中Cu 的空位形成能,在任何溫度下最有可能的遷移路徑是Cu 晶體中的Cu 向Cu3Sn 晶體中的Cu空位遷移,同時相比于無空位模型,界面存在空位時擴(kuò)散現(xiàn)象更加明顯。郭麗婷等[11]研究了電場作用下電場方向和電場強(qiáng)度對Cu3Sn/Cu 界面原子擴(kuò)散行為的影響,發(fā)現(xiàn)在正向電場方向下,提高電場強(qiáng)度,會使得界面處原子的擴(kuò)散速率差異更加顯著,產(chǎn)生的Kirkendall 效

          電子元件與材料 2022年4期2022-04-30

        • 空位對Hf-Ta-C體系的結(jié)構(gòu)、力學(xué)性質(zhì)及電子性質(zhì)影響的第一性原理研究
          Evgenii空位對Hf-Ta-C體系的結(jié)構(gòu)、力學(xué)性質(zhì)及電子性質(zhì)影響的第一性原理研究彭軍輝1,2, TIKHONOV Evgenii1(1. 西北工業(yè)大學(xué) 材料學(xué)院, 材料發(fā)現(xiàn)國際中心, 西安 710072; 2. 太原工業(yè)學(xué)院 材料工程系, 太原 030008)本研究理論預(yù)測了三元Hf-Ta-C空位有序結(jié)構(gòu)以及空位對力學(xué)性質(zhì)的影響。采用第一性原理進(jìn)化晶體結(jié)構(gòu)預(yù)測軟件USPEX, 預(yù)測得到了5種熱力學(xué)穩(wěn)定和3種亞穩(wěn)的(Hf, Ta)C1–x空位有序結(jié)構(gòu),

          無機(jī)材料學(xué)報 2022年1期2022-04-12

        • 空位缺陷對單層2H-MoTe2光電效應(yīng)的第一性原理研究
          方法研究了1Te空位、2Te空位和Mo空位對單層2H-MoTe2光響應(yīng)電流的影響,可以指導(dǎo)2H-MoTe2在電子領(lǐng)域和光電器件領(lǐng)域的應(yīng)用。1 理論模型與計算方法選擇穩(wěn)定性2H相MoTe2作為結(jié)構(gòu)模型的原胞,晶格常數(shù)為a=b=0.348 nm,按輸運(yùn)和周期方向擴(kuò)胞4×3×1并轉(zhuǎn)化為器件。該器件由3部分組成:左電極、右電極和中心區(qū)域,如圖1所示。其中左、右電極分別為沿Y軸負(fù)方向和正方向延伸的半無限長,整個器件在X-Y平面周期性排列。2H-MoTe2的本征(Pu

          人工晶體學(xué)報 2022年12期2022-02-01

        • 空位濃度對纖鋅礦CdS電子結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)影響的第一性原理研究
          贗勢方法,研究了空位缺陷對閃鋅礦結(jié)構(gòu)CdS體系電子結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)的影響,發(fā)現(xiàn)S空位使得能帶變窄,而Cd空位使帶隙變寬,空位的介入使其鄰近原子電子結(jié)構(gòu)發(fā)生變化,使得空位缺陷體系光學(xué)性質(zhì)變化主要集中在低能量區(qū)。就目前而言,關(guān)于空位濃度對纖鋅礦CdS電子結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì)影響的文獻(xiàn)較少?;谝陨系难芯勘尘昂退悸?,本文采用基于密度泛函理論的第一性原理平面波贗勢方法,借助于Materials Studio軟件包中的CSATEP程序模塊,用第一性原理對纖鋅礦CdS的本征體

          人工晶體學(xué)報 2022年12期2022-02-01

        • 三元Hf-C-N 體系的空位有序結(jié)構(gòu)及其力學(xué)性質(zhì)和電子性質(zhì)的第一性原理研究*
          -C-N 體系的空位有序結(jié)構(gòu)及其力學(xué)性質(zhì)和電子性質(zhì).首先采用第一性原理和進(jìn)化算法,預(yù)測得到8 種可能存在的熱力學(xué)穩(wěn)定的Hf-C-N 空位有序結(jié)構(gòu);這些結(jié)構(gòu)都具有巖鹽結(jié)構(gòu),與實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn)的無序固溶體的結(jié)構(gòu)類型一致.本文的預(yù)測結(jié)果證明了Hf-C-N 空位化合物能夠以有序結(jié)構(gòu)形式存在,空位與C,N 原子都位于[Hf6]八面體間隙,這一結(jié)構(gòu)特點(diǎn)與HfCx 的相同.然后采用第一性原理方法,計算了Hf-C-N 空位有序結(jié)構(gòu)的力學(xué)性質(zhì),發(fā)現(xiàn)除C∶N=1∶4 外,相同C/N

          物理學(xué)報 2021年21期2021-11-19

        • 氧化鋁中氧空位形成能的摻雜調(diào)制
          生定向移動,使氧空位在局部發(fā)生聚集并形成可供電子快速遷移的通道,實(shí)現(xiàn)電阻的退化.所以,氧空位的形成能大小直接影響電阻轉(zhuǎn)變的難易程度.目前,相關(guān)研究主要集中在二元金屬氧化物半導(dǎo)體中,如氧化鋅、氧化鎳、氧化銅等.眾所周知,氧化鋁是當(dāng)前硅基半導(dǎo)體制造工藝中最常見的金屬氧化物,且與工藝路線完全兼容.但是氧化鋁是一種絕緣材料,氧空位的形成能非常高,無法在電場作用下實(shí)現(xiàn)可逆的電阻轉(zhuǎn)變.因此,如何使氧化鋁也具備阻變功能層的特性,是一個值得研究的課題.本文借助第一性原理,

          湖南工程學(xué)院學(xué)報(自然科學(xué)版) 2021年3期2021-09-25

        • 關(guān)于“○”的爭論及辭書收錄建議
          ○ 漢字 圖符 空位 編號一、 問題的提出據(jù)舒寶璋(1991)回憶,二十世紀(jì)六十年代,基于實(shí)際使用情況,他建議將“○”作為漢字收入《現(xiàn)代漢語詞典》。這一觀點(diǎn)引起了學(xué)者們的爭論, 本文對“○”是否應(yīng)被辭書收錄引起的相關(guān)討論進(jìn)行梳理,并考察不同辭書在不同時代的處理方式,結(jié)合國家出版標(biāo)準(zhǔn)的相關(guān)規(guī)定和語料庫中的使用情況,對不同目的編寫的辭書應(yīng)如何處理“○”提出建議。二、 關(guān)于“○”收錄辭書的主要爭議關(guān)于辭書收錄“○”的討論主要圍繞著兩個問題進(jìn)行:一是“○”是否為漢

          辭書研究 2021年5期2021-09-24

        • S空位調(diào)節(jié)扶手型二硫化鉬納米帶的電子性質(zhì)
          不可避免,其中S空位最為典型.潘等人發(fā)現(xiàn),對有空位的ZMoS2NRs邊緣進(jìn)行修飾時,能夠使其從金屬性質(zhì)變?yōu)榘虢饘傩再|(zhì)[12].所謂半金屬材料是指在一個自旋通道上表現(xiàn)出金屬特性,在另一個自旋通道中表現(xiàn)出絕緣體性質(zhì).半金屬材料被認(rèn)為是未來納米器件中提供100%自旋極化電流的理想自旋電子材料[13-17].事實(shí)上,AMoS2NRs中的原子空位缺陷很容易得到,甚至可以通過實(shí)驗(yàn)實(shí)現(xiàn)其濃度來控制[18-20].然而,關(guān)于空位對其電子性質(zhì)的影響的報道極少,這里,我們采用

          原子與分子物理學(xué)報 2021年3期2021-08-16

        • 金屬摻雜改善HfO2阻變存儲器(RRAM)氧空位導(dǎo)電細(xì)絲性能
          電細(xì)絲(成分為氧空位或金屬離子)的形成與斷裂,實(shí)現(xiàn)RRAM高、低阻態(tài)轉(zhuǎn)變[7-10]。KALANTARIAN等[11]認(rèn)為導(dǎo)電細(xì)絲形狀、半徑都會影響RRAM的Set-Reset電壓、數(shù)據(jù)保持特性和耐擦寫性。因此,理解阻變過程中可逆轉(zhuǎn)變的物理機(jī)理是優(yōu)化器件性能、促進(jìn)技術(shù)發(fā)展的有效途徑。KWON等[12]通過高分辨率透射電子顯微鏡發(fā)現(xiàn)在 Pt/TiO2/Pt器件中存在氧空位納米導(dǎo)電細(xì)絲;沉淀工藝制作ZnO薄膜層時在(0001)面上產(chǎn)生氧空位,在高電場的作用下,

          材料科學(xué)與工程學(xué)報 2021年3期2021-07-28

        • 鎢中空位及其團(tuán)簇的能量學(xué)和動力學(xué)性質(zhì)參數(shù)
          中引入大量缺陷。空位及其團(tuán)簇便是其中1種主要缺陷,它們影響并決定著W中微觀組織結(jié)構(gòu)和氫同位素滯留性質(zhì),最終影響和改變材料的力、熱性能[3]。空位及其團(tuán)簇的能量學(xué)和動力學(xué)行為已被廣泛研究[4-54]。盡管如此,空位及其團(tuán)簇的能量學(xué)和動力學(xué)基本性質(zhì)參數(shù)仍不完整且存在一些爭議[4-54]。本文將對文獻(xiàn)中現(xiàn)有的空位及其團(tuán)簇的能量學(xué)和動力學(xué)性質(zhì)參數(shù)進(jìn)行總結(jié),并采用第一性原理(FP)方法計算獲得更加完整和精確的基本性質(zhì)參數(shù),并探討文獻(xiàn)中相關(guān)爭議的可能原因。1 計算方法

          原子能科學(xué)技術(shù) 2021年1期2021-01-21

        • 鎢/銅界面處氫原子與空位相互作用的第一性原理計算
          2.2 界面處的空位在強(qiáng)中子輻照下,材料內(nèi)部將產(chǎn)生大量的缺陷,缺陷的演化會影響材料的力學(xué)性能,最終導(dǎo)致部件材料失效。因此,研究鎢/銅界面中缺陷的存在有助于在原子尺度上理解材料的力學(xué)性能變化。通過在鎢/銅界面中引入不同位置的空位和間隙發(fā)現(xiàn),由于鎢原子和銅原子的原子半徑較大,兩者的間隙均很難穩(wěn)定地存在于界面中。因此,以下的研究中僅考慮空位,而不考慮間隙。根據(jù)圖1中鎢/銅界面模型,本文將界面模型中不同層數(shù)中的單個晶格原子移去,以獲得不同層數(shù)下的單空位模型。1)

          原子能科學(xué)技術(shù) 2021年1期2021-01-21

        • 鉍基氧空位光催化劑應(yīng)用研究進(jìn)展
          能帶結(jié)構(gòu)、晶面和空位易于調(diào)控等特點(diǎn),廣泛受到光催化領(lǐng)域的關(guān)注。Bi基光催化劑其Bi6s和O2p軌道部分重疊,使得帶隙減小,吸光帶邊紅移;Bi基光催化劑獨(dú)特的層狀結(jié)構(gòu)能夠加速載流子到達(dá)表面,以上優(yōu)勢使Bi基光催化劑在光催化中成為研究的熱點(diǎn)[1]。然而,受吸光范圍、光量子效率(包括載流子的分離與傳輸問題)以及到達(dá)催化劑表面的電子(e-)與空穴(h+)參與反應(yīng)等因素限制,Bi基光催化劑催化效果還不理想[2]。為解決這些問題進(jìn)行了多種改性研究,如形成氧空位(OVs

          河北環(huán)境工程學(xué)院學(xué)報 2020年6期2020-12-19

        • 稀土鈰基催化材料氧空位的表征方法綜述
          000)引 言氧空位(Ov)是金屬氧化物缺陷的一種,它們是金屬氧化物在特定外界環(huán)境下(如高溫、還原處理等)造成的晶格中氧的脫離,導(dǎo)致氧缺失形成氧空位。氧空位的概念最早是在1960年被提出來的,當(dāng)時也稱為“Wadsley defect”,研究者們發(fā)現(xiàn)金屬氧化物并非大家所認(rèn)為的理想完整晶體結(jié)構(gòu),而是存在一定的氧離子缺陷位點(diǎn)[1]。這種缺陷的存在使得金屬氧化物在催化一些反應(yīng)中有至關(guān)重要的作用[2-3]。直到2000 年,人們才通過掃描隧道顯微鏡(STM)的表征手

          化工學(xué)報 2020年8期2020-08-19

        • 大直徑直拉單晶硅片退火前后工藝的研究
          缺陷;殘余應(yīng)力;空位;空穴;缺陷引言大直徑的直拉單晶硅高溫退火,在國外,一般采取的方式是在拉直單晶硅后不出單晶爐,直接進(jìn)行高溫退火,這就是所謂的爐內(nèi)高溫退火的直拉大直徑單晶硅;而在國內(nèi),對待大直徑的直拉單晶硅采取的方式均以單晶硅片的形式來進(jìn)行高溫退火。一般直徑超過300mm,厚度超過50mm的直拉單晶硅片對高溫退火要求是相當(dāng)嚴(yán)格的,在高溫退火過程中極容易出現(xiàn)炸裂的現(xiàn)象,同時也會有顯示不出來真實(shí)的電阻率值的現(xiàn)象。本文只針對大直徑直拉單晶硅片,在高溫退火過程中

          科學(xué)導(dǎo)報·學(xué)術(shù) 2020年70期2020-06-21

        • 空位缺陷摻雜單層MoTe2的研究
          2樣品中存在多種空位缺陷,這些空位對MoTe2材料的穩(wěn)定性起著重要作用[16-18].空位的出現(xiàn)也有可能對材料電子和光學(xué)性質(zhì)產(chǎn)生顯著影響[19-20].然而,對空位摻雜的單層MoTe2,特別是1T′MoTe2還缺乏系統(tǒng)的研究.因此,本文擬對空位缺陷摻雜單層1H和1T′MoTe2進(jìn)行研究.1 計算方法本文采用基于密度泛函理論的計算軟件包Atomistix Tool Kit(ATK)完成結(jié)構(gòu)優(yōu)化以及電子結(jié)構(gòu)計算.采用的贗勢為Hartwigsen、Goedeck

          湖南工程學(xué)院學(xué)報(自然科學(xué)版) 2020年1期2020-03-26

        • 空位對ZnO基(110)二維膜材料電子結(jié)構(gòu)的影響研究
          陷,如Zn和O的空位缺陷,Zn和O的位置互換,以及Zn和O的間隙缺陷等,然而在低維氧化鋅材料尤其是二維膜材料方面的報道相對較少,對其高原子密度晶面的電子學(xué)性質(zhì)方面未見報道,在氧空位缺陷對低維材料電子結(jié)構(gòu)影響方面也未見報道. 本文在密度泛函理論計算分析方法的基礎(chǔ)上,系統(tǒng)研究了本征氧化鋅(110)二維膜材料的電子結(jié)構(gòu)性質(zhì),并研究了氧空位對氧化鋅(110)二維膜材料電子結(jié)構(gòu)性質(zhì)的影響.2 計算模型與過程纖鋅礦ZnO塊體材料呈六角對稱,空間群為P63mc,晶格參數(shù)

          原子與分子物理學(xué)報 2019年6期2019-12-06

        • Ce摻雜與O空位對銳鈦礦相TiO2磁學(xué)和光學(xué)性能影響的第一性原理研究
          的體系中產(chǎn)生了O空位,然而由于實(shí)驗(yàn)上較難對O空位的位置和濃度進(jìn)行準(zhǔn)確把控,因此O空位對該結(jié)構(gòu)性質(zhì)的影響是實(shí)驗(yàn)研究無法論述的;此外,根據(jù)作者先前的一系列研究可知,雖然單純的Ce摻雜銳鈦礦TiO2體系沒有磁性[11],但O空位的形成卻能夠引起電子自旋極化[14]。而當(dāng)體系具有磁性時,其自旋能級的分裂必然改變帶隙寬度[11],進(jìn)而對光學(xué)性質(zhì)產(chǎn)生影響。因此研究含有O空位的Ce摻雜TiO2的磁學(xué)性質(zhì)對提高其光催化活性是十分必要的?;谝陨显颍疚脑谂c文獻(xiàn)[10]相

          人工晶體學(xué)報 2019年8期2019-09-18

        • δ-Pu空位缺陷的密度泛函理論計算
          存在自間隙原子和空位兩種本征缺陷,其中空位易與材料輻照老化產(chǎn)生的He結(jié)合形成團(tuán)簇,進(jìn)而發(fā)展成為氦泡,對材料的結(jié)構(gòu)和性能造成顯著影響[2,3]. 當(dāng)前對于Pu中缺陷的研究主要集中于氦點(diǎn)缺陷和氦泡的形成機(jī)理以及對基體物性的影響[4-6],對空位的影響及其機(jī)理研究還比較少見.自1941年發(fā)現(xiàn)以來,钚及其化合物的性質(zhì)研究就受到廣泛重視. 然而,由于Pu的放射性、毒性以及復(fù)雜的物理性質(zhì)和化學(xué)性質(zhì),精密的實(shí)驗(yàn)研究面臨很大困難. 盡管目前在Pu的宏觀性質(zhì)研究方面已經(jīng)取得

          原子與分子物理學(xué)報 2019年5期2019-04-28

        • 一個空位
          然我并不可能找到空位的。站在人群中真的挺累的,我看著那些一手抓著扶手,一手刷著手機(jī)的人身體隨著車搖晃,小腿的肌肉也明顯地看出在微微地發(fā)顫以保持平衡,站著那該是有多累啊!一個站點(diǎn)到了,原來人擠人的公交車,仿佛突然被放空了,一大批人潮擠著下了車,原本擁擠的車上變得空曠了許多,瞬間多了幾個空位,我正踏步準(zhǔn)備搶占一個座位,視線瞄了一眼周圍——身旁并沒有任何人有絲毫的動靜,沒有人像我一樣準(zhǔn)備找個空位坐下。站著人,依舊站著。為了不變得那么突兀,我也不好意思坐那個空位

          浙江國土資源 2019年9期2019-01-28

        • 空位依賴的氯氧化鉍光催化反應(yīng)
          )在BiOCl氧空位上的吸附、活化和光催化反應(yīng)隨著現(xiàn)代材料表征技術(shù)與理論模擬計算的協(xié)同發(fā)展,人們逐漸認(rèn)識到對于實(shí)際的催化劑,其表面少量缺陷相比于其體相結(jié)構(gòu)和化學(xué)組成起著更重要的作用1。鑒于此,深刻地理解表面氧空位與光催化中動力學(xué)、熱力學(xué)以及反應(yīng)路徑之間的關(guān)系非常重要。其中氧空位是最常見并且研究最多的一種陰離子缺陷2。最近,華中師范大學(xué)化學(xué)學(xué)院張禮知教授研究團(tuán)隊結(jié)合氧空位依賴的光催化表面化學(xué)的研究現(xiàn)狀及其團(tuán)隊在該領(lǐng)域的最新研究進(jìn)展,在Angewandte C

          物理化學(xué)學(xué)報 2018年12期2018-12-20

        • 原子模擬金屬鋯中點(diǎn)缺陷行為
          量的點(diǎn)缺陷,包括空位和自間隙。這些點(diǎn)缺陷隨后擴(kuò)散,并可被系統(tǒng)的不同阱捕獲,或者聚集形成更大的缺陷,例如位錯環(huán)和空位團(tuán)[1]。空位團(tuán)也可以出現(xiàn)在淬火鋯合金中。過去已經(jīng)進(jìn)行了大量的實(shí)驗(yàn)研究來確定HCP-Zr及其合金中這些缺陷團(tuán)簇的結(jié)構(gòu)。第一個輻射生長模型是在1962年提出的,之后相繼又提出了很多模型。然而,能夠預(yù)測純Zr的單晶變形的機(jī)械模型尚不清楚,因此還是依賴唯象的方法[2]。對諸如鋯合金等各向異性材料的基本蠕變機(jī)制的理解還不夠強(qiáng),不能真正預(yù)測。實(shí)驗(yàn)[3-8

          沈陽師范大學(xué)學(xué)報(自然科學(xué)版) 2018年4期2018-12-19

        • 空位缺陷對PbTiO3鐵電薄膜漏電流的調(diào)控?
          最顯著的就是以氧空位缺陷為代表的薄膜晶格缺陷.而在鐵電薄膜中氧空位缺陷將直接影響鐵電材料的局域極化強(qiáng)度和方向,進(jìn)而改善漏電流.Jia和Urban[13]利用透射電子顯微鏡觀察到鈦酸鋇(BaTiO3)薄膜中存在32%的氧空位缺陷.通過摻雜改變薄膜晶粒大小和形貌來有效地抑制氧空位,進(jìn)而提高漏電流特性,為不顯著增大薄膜厚度而改善漏電流性能提供了思路.基于此,本文重點(diǎn)探究雜質(zhì)元素和氧缺陷空位對漏電流的耦合調(diào)控,即研究Cu,Fe,Al和V四種金屬陽離子摻雜對PbTi

          物理學(xué)報 2018年18期2018-10-26

        • 空位缺陷對光催化活性的影響及其機(jī)制
          對 TiO2中氧空位對其可見光催化降解去除 NO氣體的影響進(jìn)行了研究,但該研究并沒有引起足夠的重視.直到2011年,陳曉波等[2]利用在氫氣氣氛中高溫煅燒納米TiO2粉末,在其表面引入氧空位及大量無序結(jié)構(gòu)等,使其強(qiáng)烈地吸收可見光,進(jìn)而極大地提高了可見光催化產(chǎn)氫效率.由此,引入并調(diào)控氧空位成為改善光催化材料活性的重要手段且備受矚目,因而成為研究的熱點(diǎn)之一.氧空位不僅存在于氧化物中,而且存在于所有含氧化合物中.盡管其具有眾多優(yōu)點(diǎn),如:化學(xué)穩(wěn)定性高、儲量豐富、價

          天津科技大學(xué)學(xué)報 2018年5期2018-10-23

        • 缺陷對單壁碳納米管電子結(jié)構(gòu)調(diào)制的第一性原理計算
          拓?fù)淙毕? 如單空位(碳管中失去一個碳原子)、雙空位(碳管中失去兩個相鄰的原子)和Stone-Wales缺陷等[6-9]. 碳管中的拓?fù)淙毕菀部赏ㄟ^實(shí)驗(yàn)引入, 用化學(xué)處理或離子碰撞可在碳管中引入空位. Krasheninnikov等[10]的分子動力學(xué)模擬結(jié)果表明, 使用Ar離子轟擊碳納米管, 主要產(chǎn)生單空位和雙空位, 當(dāng)用120 eV的Ar離子垂直管軸轟擊時, 其中30%~40%的碰撞產(chǎn)生雙空位. 這種碳原子缺失會導(dǎo)致碳納米管的電子結(jié)構(gòu)發(fā)生特定改變, 從

          吉林大學(xué)學(xué)報(理學(xué)版) 2018年4期2018-07-19

        • 淺談數(shù)字口譯技巧
          ,簡而言之就是“空位”和“落位”?!娟P(guān)鍵詞】數(shù)字口譯;口譯質(zhì)量;空位;落位【作者簡介】尹子津,福州大學(xué)外國語學(xué)院。眾所周知,數(shù)字口譯是評估口譯質(zhì)量的一個重點(diǎn),因?yàn)槠潢P(guān)系著口譯的準(zhǔn)確性,也關(guān)系著對譯員口譯能力及其口譯可信度的評估。而數(shù)字口譯也一直是口譯的難點(diǎn)。北大的方生平先生認(rèn)為,數(shù)字信息所攜帶的信息量要比一般語義信息所攜帶的信息量大出約20倍。而且,數(shù)字口譯的高信息量和低預(yù)測性都將對譯員造成心理過載,最終影響口譯的流暢度和準(zhǔn)確性。為提高數(shù)字口譯的效率,筆者

          校園英語·下旬 2018年1期2018-05-15

        • Sm3+,Sr2+共摻雜對CeO2基電解質(zhì)性能影響的密度泛函理論+U計算?
          激發(fā)產(chǎn)生的少量氧空位以及低氧分壓下Ce4+到Ce3+的轉(zhuǎn)變,是一種擁有極低的氧離子電導(dǎo)率和電子電導(dǎo)率的混合導(dǎo)體材料.而高性能的IT-SOFC電解質(zhì)材料則要求材料具有較高的氧離子電導(dǎo)率以提高氧離子的傳輸性能以及越低越好的電子電導(dǎo)率以降低電解質(zhì)的內(nèi)短路電流.為了提高CeO2基材料的氧離子電導(dǎo)率,人們通常會在CeO2中摻入某種二價或者三價元素,通過電荷平衡來產(chǎn)生氧空位.近年來,關(guān)于CeO2的實(shí)驗(yàn)和理論研究有很多[9?19],人們發(fā)現(xiàn)在單摻雜體系中,摻雜離子的價態(tài)

          物理學(xué)報 2018年8期2018-05-08

        • 租 船
          知道怎樣租船沒有空位嗎?我是這樣解的。全租小船,就是求36里面有幾個4,算式為36÷4,“四九三十六”,36÷4=9(條),也就是租9條小船沒有空位。我是這樣解的。全租大船,就是求36里面有幾個6,算式為36÷6,“六六三十六”,36÷6=6(條),因此租 6條大船沒有空位。我是這樣解的。先租6條小船,6條小船可以坐4×6=24(人),這樣還有36-24=12(人)需要租大船,需要租大船12÷6=2(條),因此要想沒有空位,可以租6條小船和2條大船。我是這

          數(shù)學(xué)小靈通(1-2年級) 2018年4期2018-05-07

        • 原子模擬鈦中微孔洞的結(jié)構(gòu)及其失效行為?
          ?18],可能使空位型點(diǎn)缺陷在裂紋萌生擴(kuò)展中扮演比其他材料更重要的角色.因此有必要對空位及其團(tuán)簇的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性以及對裂紋形核的影響進(jìn)行細(xì)致研究.本文采用激發(fā)弛豫算法結(jié)合第一原理及原子間作用勢,考察鈦中不同尺寸空位團(tuán)簇的穩(wěn)定和亞穩(wěn)構(gòu)型;采用分子動力學(xué)模擬,系統(tǒng)研究拉應(yīng)力作用下不同尺寸的穩(wěn)定空位團(tuán)簇對微裂紋形核的影響,以期為理解鈦合金復(fù)雜的疲勞斷裂機(jī)理提供參考.2 方 法原子模擬采用嵌入原子法作用勢(EAM),該勢可較好地描述六角金屬鈦的點(diǎn)缺陷能、面缺陷能和彈性

          物理學(xué)報 2018年5期2018-03-27

        • SrFe0.5Nb0.5O3雙鈣鈦礦Sr空位最大值研究*
          有待研究,比如,空位在材料中不可避免,在鈣鈦礦材料中也不例外,空位是否存在最大值的問題.1 空位在SrFe0.5Nb0.5O3鈣鈦礦材料中潛在作用用來描述熱力學(xué)點(diǎn)缺陷含量如下(1)其中,n表示空位數(shù)量,N表示格點(diǎn)總數(shù),ΔSV表示空位形成熵,ΔEV表示空位形成能,k表示玻爾茲曼常數(shù),T表示溫度.根據(jù)熱力學(xué)定律,溫度不可能達(dá)到0 K,只能無限接近,所以熱力學(xué)缺陷C一定是大于等于零的數(shù)值.空位的存在在很大程度上對電荷分布、磁性能、電性能等有較大的影響,主要體現(xiàn)在

          物理通報 2018年9期2018-03-05

        • 空位遷移造成的氧化物介質(zhì)層時變擊穿的蒙特卡羅模擬
          100081)氧空位遷移造成的氧化物介質(zhì)層時變擊穿的蒙特卡羅模擬栗蘋 許玉堂?(北京理工大學(xué)機(jī)電學(xué)院,北京 100081)(2017年5月19日收到;2017年7月3日收到修改稿)氧空位,蒙特卡羅,氧化物介質(zhì),模擬1 引 言半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是近幾十年信息技術(shù)革命的基礎(chǔ),其核心技術(shù)是互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體晶體管組成的集成電路.根據(jù)摩爾定律,金屬氧化物半導(dǎo)體(MOS)晶體管尺寸不斷縮小,將在10年內(nèi)逼近其物理極限.其中柵介質(zhì)厚度的按比例縮小是其中最先達(dá)到物理極限的部分

          物理學(xué)報 2017年21期2017-11-10

        • A l摻雜和空位對ZnO磁性影響的第一性原理研究?
          稿)A l摻雜和空位對ZnO磁性影響的第一性原理研究?侯清玉1)3)?李勇1) 趙春旺1)2)1)(內(nèi)蒙古工業(yè)大學(xué)理學(xué)院,呼和浩特 010051)2)(上海海事大學(xué)文理學(xué)院,上海 201306)3)(內(nèi)蒙古自治區(qū)薄膜與涂層重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,呼和浩特 010051)(2016年11月11日收到;2016年12月6日收到修改稿)A l摻雜和Zn空位在ZnO中或A l摻雜和O空位在ZnO中的磁性來源和機(jī)理的認(rèn)識頻有爭議.為了解決本問題,本文采用基于自旋密度泛函理論框架

          物理學(xué)報 2017年6期2017-08-03

        • 空位缺陷對β-AgVO3電子結(jié)構(gòu)和光吸收性能的影響?
          晶體中存在的Ag空位和O空位引起的.Zhao等[5]通過在室溫條件下用NaBH4還原β-AgVO3,發(fā)現(xiàn)可以把β-AgVO3中的Ag離子還原成Ag納米顆粒并吸附在β-AgVO3表面,形成Ag/AgVO3納米帶,與β-AgVO3相比具有更強(qiáng)的光催化活性.解釋其原因一是Ag納米顆粒的存在引起等離子體表面共振,有效抑制了晶體中光生電子-空穴對的復(fù)合,提升光生電子-空穴對的遷移率,從而使Ag/AgVO3光催化活性提高;原因二是Ag/AgVO3的帶隙值(1.51 e

          物理學(xué)報 2017年15期2017-04-26

        • Cr2AlC中空位相關(guān)屬性及電子結(jié)構(gòu)的第一性原理研究
          ?Cr2AlC中空位相關(guān)屬性及電子結(jié)構(gòu)的第一性原理研究彭飛(上海電子信息職業(yè)技術(shù)學(xué)院電子工程系,上海201411)通過第一性原理研究了Cr2AlC中空位對其結(jié)構(gòu)和電子性質(zhì)的影響.在Cr2AlC中,Cr,Al和C空位形成能分別為1.15eV(Cr-poor)、-1.93eV(Cr-rich),2.02eV(Al-poor)、-4.38eV(Al-rich)和 1.14eV(C-rich)、-3.05eV(C-poor). 計算結(jié)果表明,Al空位的形成能相對較

          西北師范大學(xué)學(xué)報(自然科學(xué)版) 2016年4期2016-09-01

        • 空位缺陷對CrSi2光電性能的影響
          561000)?空位缺陷對CrSi2光電性能的影響于立軍1,張春紅2,張忠政2,鄧永榮2,閆萬珺2(1.長春師范大學(xué) 物理學(xué)院,長春 130032;2.安順學(xué)院 航空電子電氣與信息網(wǎng)絡(luò)工程中心,貴州 安順 561000)采用第一性原理方法,計算含空位缺陷CrSi2的電子結(jié)構(gòu)和光學(xué)性質(zhì),并分析含Cr和Si空位缺陷的CrSi2光電性能.結(jié)果表明:Cr和Si空位均使CrSi2的晶格常數(shù)和體積變小;能帶結(jié)構(gòu)密集而平緩,且整體向上移動,Si空位缺陷形成帶隙寬度為0.

          吉林大學(xué)學(xué)報(理學(xué)版) 2015年3期2015-08-16

        • LiF中空位形成能的第一性原理計算
          039)LiF中空位形成能的第一性原理計算何 旭1, 杜 泉2(1.成都紡織高等專科學(xué)?;A(chǔ)教學(xué)部, 成都 611731; 2.西華大學(xué)物理與化學(xué)學(xué)院, 成都 610039)采用平面波展開和基于密度泛函理論框架下的第一性原理贗勢法, 計算了102 GPa下LiF化合物中Li空位和F空位的形成能及空間周圍的原子弛豫, 討論了空位形成時電荷密度的重新分布, 相應(yīng)的電子態(tài)密度以及能帶結(jié)構(gòu)等性質(zhì). 結(jié)果表明: LiF晶體中F空位的形成能比大于Li空位的形成能; F

          原子與分子物理學(xué)報 2015年5期2015-03-23

        • 面向等離子體鎢材料中氫氦氣泡形成研究獲進(jìn)展
          ,科研人員計算了空位-氫復(fù)合體濃度隨溫度的變化關(guān)系,該結(jié)果表明在iter的服役溫度(1 000 K)附近,空位-氫的復(fù)合體大量存在,相比之下空位-氦則更加穩(wěn)定。研究還表明,氫和氦在空位中的聚集促進(jìn)了空位空位之間的結(jié)合。因此,氫和氦氣泡可以通過以下兩種方式成核和生長:(1)空位捕獲氦原子,當(dāng)氦原子濃度達(dá)到閾值時,空位周圍發(fā)射一個自間隙原子,長大的空位再捕獲氦原子再發(fā)射自間隙原子直到氦氣泡的形成。(2)氫和氦原子在空位中的占據(jù),促進(jìn)了空位的聚集從而形成空位團(tuán)

          中國有色冶金 2015年1期2015-01-27

        • 空位
          圖/文/黛西空位圖/文/黛西Eternal Mind Vacancy假如,今天再見,估計我們已認(rèn)不出彼此。或許,那段童年的記憶,只有我還刻骨銘心,而她早都忘了;或許,這個人從來都沒存在過,只有我童年的幻想。但,悲傷是真真切切地存在過的。在我心里,有一個位置,一直空著……某天下午,在公交車上。我看見你正和一個男孩拉著手,此時你也看見了我,但我們連笑都沒來得及,就把目光移到了窗外。送給美好的過去送給美好的過去在我旁邊就有一個空位,你卻始終沒坐,就這樣一站接著一

          讀者欣賞 2014年6期2014-07-03

        • 稀土元素對Ni-Cr-Al合金高溫氧化影響機(jī)理的研究
          b) 稀土La與空位共存的鎳合金超原胞圖2(a)Al2O3晶胞圖2(b)O2分子原胞Ni-Cr-Al合金在高溫氧化的條件下,加入稀土元素對其降低氧化速率、增強(qiáng)氧化薄膜的結(jié)合力、提高氧化薄膜的粘附性等方面起到積極的促進(jìn)作用.氧化膜生長的快慢取決于氧化膜中離子的擴(kuò)散速度,而離子擴(kuò)散速度與離子空位濃度有直接的關(guān)系.對于稀土改善氧化膜的粘附性機(jī)理,幾種具有代表性的機(jī)理解釋的模型為:(1)稀土氧化物的“釘扎”作用.(2)稀土阻止氧化膜與基體間形成孔洞.(3)減緩氧化

          吉林化工學(xué)院學(xué)報 2014年11期2014-03-01

        • D-D中子輻照單晶TiO2的損傷特性
          通過彈性碰撞誘發(fā)空位缺陷損失能量,再用對原子尺度缺陷極其敏感的正電子湮沒技術(shù)(PAT)研究D-D中子在單晶TiO2內(nèi)部引發(fā)的缺陷類型和缺陷濃度,給出中子在樣品中的作用機(jī)制。1 材料和方法TiO2(001)單晶購于德國 MaTecK-Material-Technologie & Kristalle GmbH,生長方法為水熱法,晶體尺寸10 mm×10 mm×0.5 mm,單面拋光。輻照在蘭州大學(xué)ZF-300-II型強(qiáng)流中子發(fā)生器上完成,中子源為 D-D反應(yīng),

          核技術(shù) 2012年2期2012-10-16

        • 鐵鋁金屬間化合物中的原子缺陷
          金有序無序性能、空位硬化性能和阻尼性能的影響.鐵鋁金屬間化合物;原子缺陷;影響Abstract:The formation and characteristics of atomic defects in Fe-Al intermetallic compounds and their influences on order-disorder,vacancy-hardening and damping behaviors are discussed in t

          蘇州市職業(yè)大學(xué)學(xué)報 2012年2期2012-09-14

        • 含單空位的(10,10)碳納米管的振動性質(zhì)和拉曼譜
          SW)[7]、單空位(monovacancy,MV)[8]、 雙空位(divacancy, DV)[9]以及這些缺陷的衍生結(jié)構(gòu)[10].當(dāng)這些缺陷存在時,即使其濃度很小,也會極大地影響碳管的物理和化學(xué)性質(zhì)[11].因此,深入了解缺陷存在時對碳管性質(zhì)的影響,具有十分重要的意義.到目前為止,人們對于包含缺陷的碳管的研究,主要集中在缺陷對碳管的結(jié)構(gòu)和電學(xué)性質(zhì)的影響上,著重討論缺陷對碳管中電子輸運(yùn)性質(zhì)的改變,這些研究為碳管在量子線和場效應(yīng)管等方面的潛在應(yīng)用提供了理

          鄭州大學(xué)學(xué)報(理學(xué)版) 2012年2期2012-05-15

        • ·經(jīng)典詩歌欣賞·
          我的身邊總有 空位當(dāng)某天聞到一縷芳馨垂下眼簾 喃喃低語突然一種預(yù)感使我驚恐不安睜開 軀體原來依然 空位于是我也走了留下一個 空位——朱凌波 《空 位》現(xiàn)代人有著本質(zhì)的孤獨(dú),灰色的生活狀態(tài)又加重了這種孤獨(dú),所以即便朋輩滿座,他們?nèi)詴械絻?nèi)在的不可抗拒的凄涼?!?span id="0oke0s0" class="hl">空位》傳遞的正是第三代詩人們過分重視主體內(nèi)心世界所產(chǎn)生的普泛痛苦體驗(yàn)。詩人感到“身邊總有《空位》”渴望會有人來,當(dāng)“聞到一縷芳馨”時,他暗垂眼簾希望它會被填補(bǔ)滿;可睜開“軀體”一看,空位依然,原來只是一

          名作欣賞 2010年3期2010-08-15

        • 空位和雜質(zhì)缺陷的閃鋅礦電子結(jié)構(gòu)的第一性原理計算
          ∶1,這主要是由空位缺陷造成的;二是鐵和鎘雜質(zhì),即閃鋅礦晶格中含鐵或者鎘雜質(zhì)。天然閃鋅礦常含有鐵雜質(zhì),其含量(質(zhì)量分?jǐn)?shù))從0.4%到22%不等,含鐵超過6.0%的閃鋅礦稱為鐵閃鋅礦[13]。鐵雜質(zhì)對閃鋅礦的半導(dǎo)體性質(zhì)影響較大,含鐵閃鋅礦是n型半導(dǎo)體,鐵含量越高,其導(dǎo)電性越強(qiáng)[14?15],鐵雜質(zhì)使閃鋅礦不利于或者難于浮選。閃鋅礦中也常含有鎘雜質(zhì),當(dāng)含鎘量達(dá)到 5%時,稱為鎘閃鋅礦,鎘雜質(zhì)能夠提高閃鋅礦的可浮性。本研究根據(jù)礦物晶體學(xué)和半導(dǎo)體缺陷理論構(gòu)建含有硫

          中國有色金屬學(xué)報 2010年4期2010-01-04

        • 住宅小區(qū)智能化總體設(shè)計質(zhì)量的研究
          。關(guān)鍵詞:越位;空位;價值工程;限額同綠色住宅、生態(tài)住宅、節(jié)能住宅一樣,住宅智能化正逐步得到市場的廣泛認(rèn)同。但是,當(dāng)前智能住宅往往出現(xiàn)這樣的情況:一方面業(yè)主投入不少,住戶使用率卻不高;另一方面物管努力不少,住房投訴率卻不低。究其原因,筆者認(rèn)為往往與智能化系統(tǒng)設(shè)計相對簿弱有直接關(guān)系。資料顯示:由于設(shè)計造成的工程質(zhì)量問題大約占40%,對投資的影響程度為70%。因此,筆者認(rèn)為總體設(shè)計單位應(yīng)首先從以下三個方面著手加強(qiáng)設(shè)計質(zhì)量控制。1 擺正位置,明確職責(zé),正確處理與

          中國新技術(shù)新產(chǎn)品 2009年18期2009-09-03

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