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        電流密度對(duì)陽(yáng)極氧化處理的7075鋁合金厚板截面色差的影響

        2021-03-16 09:24:08溫慶紅
        鋁加工 2021年1期
        關(guān)鍵詞:厚板明度色差

        高 文,高 崇,劉 成,汪 磊,溫慶紅

        (1.中鋁材料應(yīng)用研究院有限公司,北京102209;2.西南鋁業(yè)(集團(tuán))有限責(zé)任公司,重慶401326)

        0 前言

        鋁及鋁合金具有密度低、塑性高、導(dǎo)電好、耐腐蝕以及易回收等特點(diǎn),經(jīng)過(guò)陽(yáng)極氧化后可廣泛應(yīng)用于裝飾、腐蝕防護(hù)、電絕緣、建筑等領(lǐng)域[1]。按其作用,陽(yáng)極氧化可分為光亮陽(yáng)極氧化、裝飾性陽(yáng)極氧化、防護(hù)性陽(yáng)極氧化等[2]。完成陽(yáng)極氧化后的鋁或鋁合金可能出現(xiàn)一定的外觀缺陷,造成局部的顏色差異,從而影響合金的正常使用,如氧化泛黃、氧化膜乳白、彩虹、著色不均、色澤灰暗等[3-8]。

        7075 合金即Al-Zn-Mg-Cu 系鋁合金,具有強(qiáng)度高、加工及焊接性能良好等突出優(yōu)點(diǎn),被廣泛應(yīng)用于飛機(jī)、建筑、橋梁、車(chē)輛及火箭等[9]。國(guó)內(nèi)的研究從20 世紀(jì)80年代初開(kāi)始對(duì)這一系列的鋁合金進(jìn)行了系統(tǒng)的研究,目前已被用于制造各種航空器結(jié)構(gòu)件。在客機(jī)座椅用7075 合金厚板生產(chǎn)中,發(fā)現(xiàn)在陽(yáng)極氧化后其截面出現(xiàn)了較為明顯的色差,影響了后期使用。一般影響鋁合金陽(yáng)極氧化后表面顏色差異的因素包括鋁合金材料自身特性以及陽(yáng)極氧化膜狀態(tài)等[2]。目前已知的影響因素包括鋁合金材料因素如區(qū)域偏析、第二相分布、織構(gòu)分布以及陽(yáng)極氧化膜特性如孔隙率、孔尺寸、生長(zhǎng)速度等[10,11]。其中陽(yáng)極氧化膜狀態(tài)與陽(yáng)極氧化工藝密切相關(guān),主要包括陽(yáng)極氧化電解液組成、電流密度、電壓及氧化時(shí)間等。

        7075 鋁合金厚板截面陽(yáng)極氧化后出現(xiàn)明顯色差,具體表現(xiàn)為中心區(qū)域亮線。為此,本文分析了7075 合金厚板截面陽(yáng)極氧化處理后色差產(chǎn)生的原因,在不調(diào)整鋁合金材料狀態(tài)的情況下,著重分析了調(diào)整陽(yáng)極氧化電流密度對(duì)7075 合金厚板截面陽(yáng)極氧化膜結(jié)構(gòu)、生長(zhǎng)速度、外觀以及色差等的影響,為解決該技術(shù)問(wèn)題提供參考。

        1 試驗(yàn)方案

        1.1 材料及陽(yáng)極氧化膜制備

        所用7075 鋁合金化學(xué)成分(質(zhì)量分?jǐn)?shù)/%)為Si≤0.4,F(xiàn)e≤0.5,Cu=1.2~2.0,Mn≤0.3,Mg=2.1~2.9,Cr0.15~0.25,Zn=5.1~6.1,Ti≤0.2,余 量 為Al。試驗(yàn)用7075 鋁合金26 mm 厚板的加工工序?yàn)椋轰X合金鑄錠銑面→鑄錠均熱(470 ℃/20 h)→熱軋(熱軋初始溫度390~430 ℃,熱軋終止溫度360~390 ℃,每道次壓下率20%~25%,經(jīng)共20 道次軋制后板材由400 mm 厚軋至26 mm 厚)→固溶處理(475 ℃保溫80 min后淬水)→預(yù)拉伸→時(shí)效處理(125 ℃保溫15 h)→探傷→樣品鋸切。試驗(yàn)所用樣品為厚板截面鋸切樣品,樣品尺寸為26 mm×20 mm×10 mm,其中26 mm 邊長(zhǎng)側(cè)面為7075合金厚板截面,見(jiàn)圖1。

        圖1 7075厚板合金取樣示意圖

        陽(yáng)極氧化采用直流硫酸陽(yáng)極氧化,電解液采用150 g/L H2SO4溶液,陽(yáng)極氧化過(guò)程中將電解液溫度控制在28~30 ℃范圍內(nèi)。采用HY3020B型直流穩(wěn)壓電源,電流密度依次控制為1.4、2.8、4.2 A/dm2,氧化時(shí)間依次為15 min、7 min、4 min,并記錄反應(yīng)過(guò)程中的穩(wěn)定電壓。

        1.2 性能測(cè)試及組織觀察

        采用Fisher FMP30渦流測(cè)厚儀測(cè)試樣品表面氧化層厚度,采用SPECTROLAB LAVM11 火花直讀光譜儀測(cè)試7075 合金截面的化學(xué)元素分布,采用YS3060 高精度分光測(cè)色儀測(cè)試陽(yáng)極氧化后7075鋁合金厚板截面不同位置的色空間坐標(biāo),包括明度L*以及彩度a*、b*值,共測(cè)試5 個(gè)位置,具體位置選擇如圖1 所示。色空間坐標(biāo)Lab 值采用CIE 標(biāo)準(zhǔn)照明體D65 和10°標(biāo)準(zhǔn)色度觀察者計(jì)算條件進(jìn)行計(jì)算。光柵直徑大小為8 mm,計(jì)算任意兩個(gè)位置之間的色差,色差計(jì)算公式為各點(diǎn)之間色差最大值用于表示整個(gè)樣品的最大色差。

        采用SU8010 型冷場(chǎng)發(fā)射電鏡對(duì)陽(yáng)極氧化形貌進(jìn)行觀察,放大倍數(shù)為20000~200000 倍。采用Image Pro-Plus 軟件對(duì)氧化膜微觀形貌圖片進(jìn)行處理分析,測(cè)試氧化膜表面20 個(gè)微孔直徑,然后計(jì)算其平均值。

        2 結(jié)果及分析

        2.1 電流密度對(duì)氧化膜生長(zhǎng)的影響

        不同電流密度下7075 合金陽(yáng)極氧化試驗(yàn)參數(shù)及膜厚數(shù)值如表1所示。隨著電流密度的提高,陽(yáng)極氧化過(guò)程中的電壓值也逐漸增大,但并未與電流密度的增加呈比例關(guān)系。陽(yáng)極氧化膜的生長(zhǎng)速度也隨著電流密度的提高而逐漸增大,電流密度變?yōu)? 倍時(shí),氧化膜平均生長(zhǎng)速度變?yōu)?.5 倍,電流密度變?yōu)?倍時(shí),氧化膜平均生長(zhǎng)速度變?yōu)?.7倍。

        表1 不同電流密度下7075合金陽(yáng)極氧化試驗(yàn)參數(shù)及膜厚

        2.2 電流密度對(duì)截面外觀的影響

        采用不同電流密度進(jìn)行陽(yáng)極氧化后的7075 合金26 mm厚板截面宏觀外觀形貌如圖2所示。電流密度為1.4 A/dm2時(shí),截面中心區(qū)域出現(xiàn)明顯的亮線,而遠(yuǎn)離截面中心區(qū)域的邊緣區(qū)域整體呈偏白的顏色。隨著電流密度的提高,截面中心區(qū)域的亮線變得逐漸不明顯,在電流密度為2.8 A/dm2時(shí)已經(jīng)基本不可見(jiàn),而當(dāng)電流密度為4.2 A/dm2時(shí)已無(wú)法用肉眼分辨,此時(shí)經(jīng)過(guò)陽(yáng)極氧化的截面整體呈現(xiàn)金屬光澤。

        圖2 不同電流密度進(jìn)行陽(yáng)極氧化的7075鋁合金26 mm厚板截面宏觀形貌

        對(duì)未進(jìn)行陽(yáng)極氧化的樣品邊部至中心區(qū)域的位置(如圖1中標(biāo)注的①、②、③位置)進(jìn)行化學(xué)元素分析,結(jié)果如表2 所示。從表2 結(jié)果可知,靠近邊部的①、②位置元素較為接近,位于截面中心的③位置的Zn、Cu、Mg、Fe、Si 等元素的含量均低于①、②位置。由此可見(jiàn),低電流密度下(1.4 A/dm2)7075 合金表面出現(xiàn)的中間心部區(qū)域亮線與7075 厚板的合金元素分布有關(guān),這種元素的不均勻分布與7075 合金自身的元素組成配比以及制造工藝有關(guān)。7075合金含有較高的Zn、Cu、Mg含量,其厚板在軋制、固溶處理過(guò)程中各位置冷速不一致,元素的析出速度不同,最終導(dǎo)致了元素沿截面的不均勻分布。

        表2 7075合金截面不同位置元素的化學(xué)成分(質(zhì)量分?jǐn)?shù)/%)

        表3 7050鋁合金厚板截面各位置色空間坐標(biāo)

        2.3 電流密度對(duì)厚板截面色差的影響

        不同電流密度進(jìn)行陽(yáng)極氧化的7075 鋁合金26 mm 厚板截面各位置色空間坐標(biāo)如表3 所示,其中每個(gè)樣品測(cè)量的5 組數(shù)據(jù)分別對(duì)應(yīng)樣品中①~⑤位置。隨著電流密度的逐漸增大,色空間坐標(biāo)中明度值L*整體略有下降。各樣品明度值均表現(xiàn)為中心區(qū)域(位置③)偏小,邊緣位置偏大(位置①、⑤)。色空間坐標(biāo)中彩度值b*隨陽(yáng)極氧化電流密度的增大而逐漸增大,電流密度為1.4 A/dm2時(shí),明度值b*為3左右,電流密度為4.2 A/dm2時(shí),彩度值b*增大至5左右。色空間坐標(biāo)中彩度值a*隨電流密度的變化不明顯。

        各樣品截面的最大色差(△Emax)、明度差(△lmax)隨陽(yáng)極氧化電流密度的變化趨勢(shì)如圖3 所示。隨著電流密度的提高,整個(gè)樣品上的明度變化(以各位置明度差值的最大值表示)逐漸減小,從電流密度為1.4 A/dm2時(shí)的最大1.52,減小至4.2 A/dm2時(shí)的0.87。整個(gè)樣品的最大色差值隨著電流密度的增加逐漸減小,電流密度為1.4 A/dm2時(shí)為1.28,電流密度為4.2 A/dm2時(shí)為0.70。

        圖3 不同電流密度進(jìn)行陽(yáng)極氧化的7075截面表面最大色差(△Emax)及明度差(△lmax)

        2.4 電流密度對(duì)厚板截面微觀形貌的影響

        不同電流密度下進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理后的7075鋁合金26 mm 厚板不同位置的微觀形貌如圖4 所示。在放大20000倍(左側(cè))的照片中,可見(jiàn)各電流密度下處理的陽(yáng)極氧化膜表面均存在一定數(shù)量的微坑,電流密度對(duì)陽(yáng)極氧化膜中的微坑影響較小。在放大至200000倍(右側(cè))圖片中可見(jiàn),在電流密度為1.4 A/dm2及2.8 A/dm2時(shí),陽(yáng)極氧化膜多孔層部分相鄰的孔相連,形成較大坑洞;電流密度為4.2 A/dm2時(shí),陽(yáng)極氧化膜表面的多孔均較為獨(dú)立有序,未出現(xiàn)較大的坑洞,氧化膜成膜質(zhì)量明顯提高。

        對(duì)不同電流密度下制備的氧化膜微觀形貌圖片進(jìn)行處理分析,分別計(jì)算邊部和心部的陽(yáng)極氧化膜多孔層的孔徑尺寸,其結(jié)果如表4 所示。由表4 可見(jiàn)電流密度對(duì)7075 合金厚板不同位置陽(yáng)極氧化后孔徑尺寸的影響不大,不同電流密度下截面心部及邊部的孔徑均在18~20 nm這個(gè)范圍內(nèi)波動(dòng)。

        3 結(jié)論

        (1)7075 合金厚板截面按照常規(guī)陽(yáng)極氧化工藝處理(電流密度1.4 A/dm2)后中心區(qū)域存在亮線,這與其截面元素不均勻分布有關(guān),厚板截面中心區(qū)域中的Zn、Cu、Mg 等合金元素均低于靠近邊部區(qū)域。

        (2)隨著陽(yáng)極氧化電流密度的增大(1.4~4.2 A/dm2),7075 合金陽(yáng)極氧化膜平均生長(zhǎng)速度逐漸加快,氧化膜平均生長(zhǎng)速度由0.67 μm/min 增大至2.50 μm/min,7075 合金厚板截面中心亮線逐漸消失,樣品表面最大色差△E逐漸減小,由1.28降至0.70。

        (3)隨著陽(yáng)極氧化電流密度的增大(1.4~4.2 A/dm2),氧化膜質(zhì)量提高,坑洞缺陷明顯減少。陽(yáng)極氧化電流密度對(duì)7075 合金陽(yáng)極氧化膜孔徑尺寸影響不大,各電流密度下陽(yáng)極氧化膜孔徑尺寸均在18~20 nm之間。

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