2020年7月8日，中國(guó)感光學(xué)會(huì)召開(kāi)了2020十大工程技術(shù)難題——“如何突破光刻技術(shù)難題”專(zhuān)家座談會(huì)。座談會(huì)采用現(xiàn)場(chǎng)和視頻同步方式召開(kāi)。

中國(guó)科學(xué)院院士楊萬(wàn)泰、佟振合、彭孝軍、吳驪珠，中國(guó)工程院院士許祖彥、羅先剛、劉文清，中國(guó)感光學(xué)會(huì)理事長(zhǎng)張麗萍，名譽(yù)理事長(zhǎng)蒲嘉陵，副理事長(zhǎng)楊建文、鄒應(yīng)全，榮譽(yù)理事洪嘯吟，秘書(shū)長(zhǎng)汪鵬飛、常務(wù)副秘書(shū)長(zhǎng)任俊，難題撰寫(xiě)作者梁紅波，工業(yè)和信息化部、國(guó)家自然科學(xué)基金委員會(huì)、科技部高新技術(shù)司有關(guān)領(lǐng)導(dǎo)，高校、科研院所和行業(yè)企業(yè)專(zhuān)家代表共60余人參加了座談會(huì)。張麗萍理事長(zhǎng)主持會(huì)議。

張麗萍理事長(zhǎng)首先介紹了中國(guó)感光學(xué)會(huì)提出的難題提案—“如何突破光刻技術(shù)難題”入選2020年十大重大工程技術(shù)難題的相關(guān)情況和中國(guó)科協(xié)對(duì)入選問(wèn)題難題的后續(xù)工作要求。

而后，難題撰寫(xiě)作者南昌航空大學(xué)梁紅波教授匯報(bào)了工作進(jìn)展，詳細(xì)介紹了“如何突破光刻技術(shù)難題”的問(wèn)題背景、重要意義、最新進(jìn)展、主要難點(diǎn)及其相關(guān)政策建議等。楊建文副理事長(zhǎng)對(duì)工作進(jìn)展進(jìn)行了補(bǔ)充。

在研討環(huán)節(jié)，與會(huì)專(zhuān)家圍繞突破光刻技術(shù)難題的進(jìn)展情況、光刻技術(shù)面臨的主要問(wèn)題、光刻技術(shù)應(yīng)用情況以及突破難題的技術(shù)與政策建議等進(jìn)行了熱烈討論，為進(jìn)一步完善專(zhuān)題建議報(bào)告—《科技工作者建議》提出了很多寶貴的意見(jiàn)和建議。會(huì)后，學(xué)會(huì)將及時(shí)總結(jié)材料，形成《科技工作者建議》，呈報(bào)相關(guān)部門(mén)決策參考使用。

本次座談會(huì)旨在跟蹤了解難題研究進(jìn)展，分析難點(diǎn)與挑戰(zhàn)，提出技術(shù)與政策建議，形成難題研究專(zhuān)項(xiàng)報(bào)告—《科技工作者建議》，使入選問(wèn)題難題服務(wù)國(guó)家科技決策、納入國(guó)家規(guī)劃、與國(guó)家重大工程項(xiàng)目結(jié)合，推動(dòng)關(guān)鍵技術(shù)聯(lián)合攻堅(jiān)、促進(jìn)應(yīng)用推廣，為我國(guó)光刻技術(shù)跨越發(fā)展，解決微電子制造的“卡脖子”技術(shù)難題做出貢獻(xiàn)。