陳小武,董紹明,倪德偉,闞艷梅,周海軍,王 震,張翔宇,丁玉生
(1. 中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所 高性能陶瓷和超微結(jié)構(gòu)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,上海 200050)(2. 中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所 結(jié)構(gòu)陶瓷與復(fù)合材料工程研究中心,上海 200050)
20世紀(jì)50年代末至60年代初,美國(guó)國(guó)家航空航天局(NASA)針對(duì)火箭噴嘴、燃燒室等承受高熱流密度(>1130 W/cm2)的熱防護(hù)部件,提出了對(duì)耐超高溫(>1650 ℃)抗氧化燒蝕材料的迫切需求[1]。在此背景下,超高溫陶瓷(UHTCs)逐漸獲得關(guān)注并被確定為高超聲速飛行器熱防護(hù)候選材料[2]。UHTCs主要有兩種使用形式:用作碳纖維增強(qiáng)碳基體復(fù)合材料(Cf/C)的抗氧化燒蝕涂層,以及通過基體改性的方式獲得碳纖維增強(qiáng)超高溫陶瓷基復(fù)合材料(Cf/UHTCs)。近10年來,Cf/UHTCs受到了大量的關(guān)注和報(bào)道,成為繼碳化硅陶瓷基復(fù)合材料后高溫材料的另一個(gè)研究熱點(diǎn)。本文首先簡(jiǎn)要回顧了UHTCs的研究現(xiàn)狀,然后重點(diǎn)闡述Cf/UHTCs的研究進(jìn)展,最后介紹了近年來作者團(tuán)隊(duì)在Cf/UHTCs方面的研究工作,并對(duì)Cf/UHTCs研究現(xiàn)狀與趨勢(shì)進(jìn)行了總結(jié)和展望。
UHTCs具有高的硬度、強(qiáng)度和熱穩(wěn)定性等優(yōu)異性能,在高超聲速飛行器等熱防護(hù)領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。根據(jù)材料的組成,UHTCs可細(xì)分為硼化物、碳化物和氮化物,已公開的研究報(bào)道中主要涉及ZrC、HfC、TaC、ZrB2和HfB2等。一直以來,UHTCs的研究主要關(guān)注3個(gè)基本問題:如何促進(jìn)致密化燒結(jié),如何提升抗氧化性能,以及如何改善斷裂韌性。實(shí)現(xiàn)UHTCs燒結(jié)致密化非常困難,通常需要在高溫(>2000 ℃)和高壓(>30 MPa)的條件下才能完成,這主要是由UHTCs的共價(jià)鍵結(jié)合能高和自擴(kuò)散系數(shù)低等自身因素決定的[3]。燒結(jié)過程中UHTCs顆粒表面的氧化相也是阻礙燒結(jié)過程的重要因素。比如,燒結(jié)過程中ZrB2顆粒表面形成的B2O3和ZrO2使ZrB2晶界擴(kuò)散系數(shù)降低,從而抑制了燒結(jié)動(dòng)力學(xué)過程[4]。因此,UHTCs燒結(jié)助劑的選取,首先要能夠有效去除氧化相。例如B4C和C因具有強(qiáng)還原性,可以有效去除氧化相,因此是UHTCs較常用的燒結(jié)助劑[5]。另外,活性金屬Ni[6],Mo[7],Nb[8]或Zr[9]也能有效去除氧化相,而且燒結(jié)過程中形成的金屬液相能夠顯著促進(jìn)顆粒重排和傳質(zhì),近年來也常用作UHTCs的燒結(jié)助劑。UHTCs的一個(gè)顯著特征是高溫(>2000 ℃)耐燒蝕性能優(yōu)異,但是中低溫(800~1800 ℃)抗氧化性能不足,尤其是碳化物型UHTCs(如ZrC、HfC等)在溫度高于500 ℃時(shí)就會(huì)氧化生成CO或CO2[10]。目前改善其抗氧化性能的主要途徑是添加第二相,如SiC[11, 12]、MoSi2[13, 14]和LaB6[15, 16]等。為了進(jìn)一步拓寬其抗氧化溫度區(qū)間,三元相UHTCs獲得了人們的關(guān)注,美國(guó)NASA研究發(fā)現(xiàn)三元相UHTCs(64%ZrC-20%ZrB2-16%SiC)(體積分?jǐn)?shù))在~2100 ℃依然能夠保持優(yōu)良的抗氧化性能[17]。近些年,三元相UHTCs的研究仍然備受關(guān)注[18-20]。UHTCs的另一個(gè)亟需解決的關(guān)鍵問題是如何改善其斷裂韌性(通常低于5 MPa·m1/2),斷裂韌性低就意味著可靠性差,因此改善其斷裂韌性至關(guān)重要。目前,改善斷裂韌性的方法主要有原位棒狀ZrB2增韌[21],添加碳納米管(CNTs)[22]、SiC晶須[23]、短切纖維或連續(xù)碳纖維[24, 25]等。納米管、晶須等作為增韌體普遍存在分散性差、可調(diào)控性難等缺點(diǎn),因此仍處于基礎(chǔ)研究階段。從增韌效果和應(yīng)用價(jià)值來說,連續(xù)碳纖維是比較理想的選擇,也是目前UHTCs增韌研究的主流,極大推動(dòng)了UHTCs的應(yīng)用進(jìn)程(圖1)[26]。本文將重點(diǎn)闡述碳纖維增強(qiáng)超高溫陶瓷基復(fù)合材料(Cf/UHTCs)的研究進(jìn)展。
20世紀(jì)80年代,碳纖維增強(qiáng)碳化硅陶瓷基復(fù)合材料(Cf/SiC)因在航空航天熱防護(hù)領(lǐng)域獲得成功應(yīng)用而備受矚目。然而,SiC在高于1650 ℃時(shí)會(huì)發(fā)生主動(dòng)氧化,限制了Cf/SiC在更高溫度熱防護(hù)領(lǐng)域的應(yīng)用(如火箭燃燒室、噴嘴等)。借助UHTCs優(yōu)異的高溫耐燒蝕特性,將UHTCs相引入碳纖維預(yù)制體制成Cf/UHTCs有望填補(bǔ)這一應(yīng)用空白。從高溫氧化的角度看,碳纖維似乎不適合用作UHTCs增強(qiáng)體,然而碳纖維具有3個(gè)非常顯著的優(yōu)勢(shì):首先,高溫力學(xué)性能突出,幾乎是目前在高于2000 ℃的高溫下仍保持優(yōu)異力學(xué)性能的唯一纖維;其次,質(zhì)地柔軟,可編織成任意形狀,一定程度上緩解了UHTCs廣受詬病的成型難題;最后,就技術(shù)條件來說,碳纖維是商業(yè)化最早也是技術(shù)最成熟的高性能纖維,且相比于其它纖維,其價(jià)格更便宜。因此,無論從技術(shù)條件還是經(jīng)濟(jì)層面上來講,碳纖維無疑是最合適的UHTCs的增強(qiáng)材料。以下將分別從基體改性、氧化燒蝕機(jī)理和高溫力學(xué)性能3個(gè)方面來闡述Cf/UHTCs的研究進(jìn)展。
單一組元的UHTCs抗氧化溫度區(qū)間不足,因此有必要引入其它相進(jìn)行改性。Cf/UHTCs的基體改性,涉及到兩個(gè)基本問題:首先,通過什么方法引入U(xiǎn)HTCs相;其次,引入什么組元的UHTCs相。目前絕大多數(shù)關(guān)于Cf/UHTCs研究的文獻(xiàn)都是圍繞這兩個(gè)問題展開報(bào)道。目前常用的UHTCs相引入方法有化學(xué)氣相滲透/沉積(CVI/CVD)[27, 28]、有機(jī)前驅(qū)體浸漬與裂解(PIP)[29, 30]、反應(yīng)熔體滲透(RMI)[31, 32]、漿料浸漬(SI)[18, 33]、熱壓燒結(jié)(HP)[34, 35]等。關(guān)于這些制備方法的基本原理,已有大量文獻(xiàn)詳細(xì)描述[36-38],每種制備方法都有各自的優(yōu)勢(shì)和劣勢(shì)。例如,CVI/CVD法雖然能夠獲得高純度的UHTCs相,但制備的Cf/UHTCs氣孔率高(~15%);RMI法能夠獲得高致密的Cf/UHTCs,但是高溫熔體易導(dǎo)致纖維損傷嚴(yán)重。為了克服單一方法的不足,通常是多種方法聯(lián)用,如CVI-PIP[39]、SI-MI[40]等。聯(lián)用制備技術(shù)既能夠充分發(fā)揮各方法的優(yōu)勢(shì),又可以靈活設(shè)計(jì)和制備多組元Cf/UHTCs,如Cf/ZrC-ZrB2[41]、Cf/HfC-SiC[42]、Cf/TaC-SiC[43]、Cf/ZrC-ZrB2-SiC[18]等。多組元Cf/UHTCs可以充分利用各組元的獨(dú)特性質(zhì),通過調(diào)控組元配比與結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)材料性能的提升。比如,提高SiC與ZrC比例能夠顯著提升Cf/ZrC-SiC的力學(xué)性能,當(dāng)SiC與ZrC體積比由16.0∶16.1增大至24.1∶11.9時(shí),Cf/ZrC-SiC抗彎強(qiáng)度由228.1提升至431.6 MPa[44]。雖然引入SiC能夠提升材料的力學(xué)性能和抗氧化性能,但SiC含量過高也會(huì)惡化高溫耐燒蝕性能。因此,控制合適的組元配比是設(shè)計(jì)多組元Cf/UHTCs的關(guān)鍵[45, 46]。近年來,作者團(tuán)隊(duì)通過溶膠凝膠(sol-gel)法設(shè)計(jì)與調(diào)控預(yù)制體孔隙結(jié)構(gòu),結(jié)合RMI法制備了組元結(jié)構(gòu)可調(diào)的Cf/ZrC-ZrB2-SiC,并系統(tǒng)研究了ZrC、ZrB2、SiC組元在高溫?zé)g過程中物相和結(jié)構(gòu)演化行為,為Cf/UHTCs的組元調(diào)控和性能提升提供了指導(dǎo)[47]。Cf/UHTCs的燒蝕性能與制備方法有關(guān),一般而言,RMI法制備的Cf/UHTCs致密度較高,因此燒蝕性能也會(huì)較優(yōu)異(表1)[48]。
圖1 意大利航空航天研究中心UHTCs試驗(yàn)歷程(2005~2013)[26]Fig.1 Test progress on UHTCs of Italian Aerospace Research Centre (2005~2013)[26]
氧化燒蝕是Cf/UHTCs在服役過程中發(fā)生的最主要的物化行為,確保Cf/UHTCs具有優(yōu)異抗氧化燒蝕性能的關(guān)鍵在于材料表面能夠形成粘度適中、飽和蒸氣壓較低的氧化膜[49]。粘度適中是指氧化膜能夠保證填堵材料表面氣孔、裂紋,同時(shí)又具有一定的耐沖刷性。而飽和蒸氣壓較低則能夠減緩氧化膜的揮發(fā)損耗,從而有效遏制氧化燒蝕向材料內(nèi)部蔓延。如ZrB2-SiC在氧化過程中能夠形成粘度適中、蒸氣壓低的硼硅酸鹽氧化膜,使得材料能夠承受~1600 ℃的高溫氧化[50]。Voitovich等[51]研究了ZrC和HfC在500~1200 ℃的氧化機(jī)理,主要氧化反應(yīng)如下:
Zr(Hf)C+O2→Zr(Hf)O2+C
(1)
Zr(Hf)C+O2→Zr(Hf)CxOy+CO+CO2
(2)
Voitovich等發(fā)現(xiàn)反應(yīng)(1)與(2)主要受氧分壓控制,在氧化初期,由于氧分壓充足,材料表面首先發(fā)生反應(yīng)(1),隨著氧擴(kuò)散進(jìn)入材料內(nèi)部,由于內(nèi)部氧分壓較低,故主要發(fā)生反應(yīng)(2)。表面氧化層結(jié)構(gòu)表現(xiàn)為外部多孔ZrO2(或HfO2)層,內(nèi)部致密ZrCxOy(或HfCxOy)層[52]。外部多孔層結(jié)合力較弱,在高速氣流沖刷作用下,很容易從材料表面剝離。當(dāng)溫度高于1500 ℃及以上時(shí),ZrO2(或HfO2)發(fā)生燒結(jié)作用形成致密氧化膜,從而為材料提供保護(hù)。因此,單一基體組元的Cf/UHTCs,如Cf/ZrC,往往高溫抗氧化燒蝕性能優(yōu)異而低溫抗氧化性能不足,改善途徑就是添加中低溫抗氧化性能優(yōu)異的含B相(如B4C[53]、BN[54])、含Si相(如SiC[55]、TaSi2[56])等,利用產(chǎn)生的B2O3和SiO2等中低溫氧化膜對(duì)材料提供保護(hù)。研究表明,引入Ta同樣能夠顯著提升ZrC的低溫抗氧化性能,其原因在于ZrO2的部分Zr原子被Ta取代后,使得氧空位降低,進(jìn)而降低了氧擴(kuò)散速率[57]。與ZrC相比,ZrB2具有較優(yōu)異的低溫抗氧化性能。ZrB2經(jīng)500~1100 ℃氧化后表面生成了B2O3氧化膜,能夠有效隔絕外界氧氣進(jìn)入材料內(nèi)部[58]。在1100~1400 ℃時(shí),B2O3蒸氣壓急劇增加,氧化膜揮發(fā)損耗加劇[59]。在1400 ℃以上時(shí),B2O3蒸發(fā)耗散速率與生成速率幾乎相當(dāng),氧化膜因氣相B2O3逸出而出現(xiàn)大量孔洞,從而導(dǎo)致材料迅速氧化失效[60]。將SiC與ZrB2結(jié)合獲得ZrB2-SiC,氧化后能夠形成SiO2、ZrO2/SiO2等多層次的氧化層結(jié)構(gòu)(圖2),尤其是ZrO2骨架結(jié)構(gòu)對(duì)SiO2液相形成有效支撐,能夠顯著改善SiO2相的耐沖刷性,使材料在較寬溫度區(qū)間均表現(xiàn)出非常優(yōu)異的抗氧化性能[61, 62]。正是基于ZrC、ZrB2和SiC等在不同溫度區(qū)間具有不同的氧化特性,可針對(duì)Cf/UHTCs的性能要求和應(yīng)用環(huán)境,設(shè)計(jì)和引入多種抗氧化基體組元,從而顯著提升材料的抗氧化燒蝕性能[63]。
表1 不同方法制備的Cf/UHTCs的抗氧化燒蝕性能對(duì)比[48]
圖2 ZrB2-SiC基復(fù)合材料表面氧化層結(jié)構(gòu)[62]Fig.2 Microstructure of oxidation scale in ZrB2-SiC composite[62]
Cf/UHTCs服役于力/熱/氧極端環(huán)境中,因此除了高溫抗氧化燒蝕性能外,高溫力學(xué)性能也是另一項(xiàng)重要評(píng)價(jià)指標(biāo)。目前大多數(shù)研究報(bào)道主要關(guān)注Cf/UHTCs的常溫力學(xué)性能,而常溫力學(xué)性能更多地是體現(xiàn)不同制備方法對(duì)材料力學(xué)性能的影響,很難反映UHTCs基體相本身的力學(xué)特性。RMI法制備的Cf/UHTCs結(jié)構(gòu)致密,彈性模量通常比其它方法制備的高,但由于纖維損傷嚴(yán)重,其斷裂強(qiáng)度會(huì)比較低。PIP法制備的Cf/UHTCs纖維損傷較小,強(qiáng)度較高,然而孔隙率較高導(dǎo)致材料彈性模量較低。在高溫作用下,UHTCs相會(huì)發(fā)生位錯(cuò)滑移、晶粒偏轉(zhuǎn)等,并表現(xiàn)出塑性變形的特征,因此高溫力學(xué)性能更能體現(xiàn)Cf/UHTCs的力學(xué)特性。Vinci等[43]研究了Cf/ZrC-SiC和Cf/TaC-SiC在Ar氣氛下的高溫力學(xué)行為,相比于常溫,1500 ℃時(shí)兩者的抗彎強(qiáng)度均有大幅度提升(~450 MPa),這主要源于材料的殘余應(yīng)力在高溫下得到完全釋放。1500~2100 ℃時(shí),兩者的抗彎強(qiáng)度開始減小,但依然大于常溫時(shí)的抗彎強(qiáng)度。2100 ℃時(shí),兩者開始發(fā)生顯著的塑性變形,屈服強(qiáng)度分別為211和319 MPa,斷裂強(qiáng)度分別為440和368 MPa。塑性變形雖然使得材料強(qiáng)度降低,但材料的斷裂應(yīng)變顯著提升(圖3)。在更高溫度下,部分氣相產(chǎn)物生成并從材料內(nèi)部逸出,材料的力學(xué)行為更加復(fù)雜?,F(xiàn)有文獻(xiàn)中,關(guān)于UHTCs塑性變形的微觀機(jī)理還很不清晰。比如,位錯(cuò)沿<110>{111}發(fā)生滑移一直以來被認(rèn)為是TaC塑性變形的主要微觀機(jī)制[64]。然而,也有觀點(diǎn)提出,高溫下由碳原子擴(kuò)散主導(dǎo)的塑性流動(dòng)才是TaC塑性變形的主要微觀機(jī)制[65]。總之,Cf/UHTCs高溫力學(xué)行為對(duì)測(cè)試條件(加載速率、溫度、氣氛等)相當(dāng)敏感,關(guān)于Cf/UHTCs高溫力學(xué)機(jī)理,如UHTCs相高溫塑性變形機(jī)制等方面至今沒有取得共識(shí),因此仍需進(jìn)一步研究。
圖3 Cf/ZrC-SiC(a)和Cf/TaC-SiC(b)的常溫(RT)和高溫(1500,1800,2100 ℃)彎曲力-位移曲線(P和U分別代表屈服強(qiáng)度和斷裂強(qiáng)度)[43]Fig.3 Flexural load-displacement curves of Cf/ZrC-SiC (a) and Cf/TaC-SiC (b) tested at RT, 1500, 1800 and 2100 ℃ (P and U denote yield strength and ultimate strength respectively)[43]
作者團(tuán)隊(duì)(中國(guó)科學(xué)院上海硅酸鹽研究所董紹明研究員團(tuán)隊(duì))在2008年就發(fā)表了Cf/UHTCs的研究論文[66],是我國(guó)Cf/UHTCs研究領(lǐng)域的主要開創(chuàng)者,為我國(guó)實(shí)現(xiàn)Cf/UHTCs工程化應(yīng)用作出了突出貢獻(xiàn)。近10年來,作者團(tuán)隊(duì)針對(duì)Cf/UHTCs開展了持續(xù)的研究,在材料結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與制備、結(jié)構(gòu)表征和性能測(cè)試等方面具有深厚的研究基礎(chǔ),并形成了比較完善的理論體系[67-70],下面將介紹近3年來作者團(tuán)隊(duì)在Cf/UHTCs方面的主要研究工作。
在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)上,以納米ZrO2為造孔劑,樹脂碳為還原劑,通過RMI法制備了ZrC納米相彌散分布的Cf/ZrC-SiC(圖4),提出了ZrC納米相的溶解-析出形成機(jī)理[71],為通過RMI過程調(diào)控Cf/UHTCs微結(jié)構(gòu)奠定了理論基礎(chǔ)。在此基礎(chǔ)上,開發(fā)了sol-gel法調(diào)控孔隙結(jié)構(gòu)促進(jìn)RMI動(dòng)力學(xué)過程的制備方法,借助該方法制備了Cf/SiC-ZrC-ZrB2(圖5),獲得了孔隙結(jié)構(gòu)對(duì)RMI動(dòng)力學(xué)過程、材料微結(jié)構(gòu)與性能的影響規(guī)律,并結(jié)合RMI動(dòng)力學(xué)計(jì)算對(duì)實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)行了驗(yàn)證。該研究為基于RMI動(dòng)力學(xué)過程調(diào)控優(yōu)化Cf/UHTCs制備提供了新思路[72, 73]。長(zhǎng)期以來,高溫熔體侵蝕纖維或界面導(dǎo)致性能惡化是RMI法制備Cf/UHTCs面臨的主要挑戰(zhàn)。針對(duì)這一問題,作者團(tuán)隊(duì)近期在纖維束表面包裹一層ZrC涂層,有效抑制了纖維損傷現(xiàn)象,制備的Cf/ZrC-SiC抗彎強(qiáng)度高達(dá)380 MPa,相比于已有的報(bào)道(150~250 MPa)[39-41],力學(xué)性能獲得了大幅提升,為Cf/UHTCs的性能優(yōu)化提供了有益借鑒[74]。
在結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化與調(diào)控上,作者團(tuán)隊(duì)深入研究了Cf/UHTCs在RMI過程中的界面損傷機(jī)理,發(fā)現(xiàn)(PyC-SiC)2復(fù)合界面層在ZrSi2熔體作用下,Zr與PyC層反應(yīng)生成ZrC,該反應(yīng)是一個(gè)劇烈的放熱反應(yīng)(~198.5 kJ/mol),放出的熱量導(dǎo)致SiC層熔融。界面損傷后,Zr原子能夠迅速擴(kuò)散并富集在碳纖維表面,在纖維內(nèi)部原位形成納米ZrC顆粒。根據(jù)損傷界面結(jié)構(gòu)特征,提出了Zr主導(dǎo)的反應(yīng)-類熔融界面損傷機(jī)理(圖6)。此外,熱力學(xué)/熱傳導(dǎo)計(jì)算結(jié)果和對(duì)比實(shí)驗(yàn)結(jié)果進(jìn)一步確認(rèn)了該損傷機(jī)理。該損傷機(jī)理的確立,為Cf/UHTCs界面結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)提供了重要參考[75]。另外,纖維預(yù)制體孔隙結(jié)構(gòu)不均勻(束內(nèi)0~10 μm,束間10~200 μm)導(dǎo)致纖維束內(nèi)與束間的RMI動(dòng)力學(xué)過程不同步,具體表現(xiàn)為合金熔體優(yōu)先滲入并填充束間大孔隙,使UHTCs基體相聚集分布于纖維束間。另外,大孔隙內(nèi)的熔體擴(kuò)散距離長(zhǎng),很容易因反應(yīng)不完全導(dǎo)致熔體殘余。針對(duì)這一問題,作者團(tuán)隊(duì)采用束內(nèi)束間孔隙結(jié)構(gòu)分區(qū)調(diào)控的思路(圖7),即首先用低粘度、低轉(zhuǎn)化率的B4C溶膠溶液(H3BO3為硼源,聚乙烯醇(PVA)為碳源)浸漬纖維束內(nèi),然后用高粘度、高轉(zhuǎn)化率的B4C溶膠溶液浸漬纖維束間,使兩者孔隙的尺寸差異迅速縮小,最終實(shí)現(xiàn)束內(nèi)與束間RMI過程充分進(jìn)行和UHTCs相均勻分布[72, 73]。由于纖維束孔隙結(jié)構(gòu)的調(diào)控有效促進(jìn)了RMI動(dòng)力學(xué)過程,使ZrSi2熔體殘余得到消除,材料的力學(xué)性能獲得顯著提升[76]。
圖4 以納米ZrO2為造孔劑采用RMI法制備的Cf/ZrC-SiC[71]:(a)Cf/ZrO2-C預(yù)制體SEM照片,(b)碳熱還原后獲得的Cf/ZrC-C多孔預(yù)制體SEM照片,(c)熔滲后Cf/ZrC-SiC的SEM照片,(d)Cf/ZrC-SiC的TEM照片F(xiàn)ig.4 Cf/ZrC-SiC through RMI method with nano ZrO2 powders as pore-making agent[71]: (a) SEM image of Cf/ZrO2-C preform, (b) SEM image of Cf/ZrC-C porous preform after carbothermal treatment, (c) SEM image of Cf/ZrC-SiC after RMI, (d) TEM image of Cf/ZrC-SiC
圖5 Sol-gel多孔體構(gòu)建RMI制備Cf/ZrC-ZrB2-SiC原理示意圖[72, 73]Fig.5 Preparation route of Cf/ZrC-ZrB2-SiC via RMI based on sol-gel derived pore structure[72, 73]
圖6 RMI過程中(PyC-SiC)2界面相的損傷形貌(a, b)與機(jī)理(c, d)[75]Fig.6 Degraded morphologies (a, b) and degradation mechanism (c, d) of (PyC-SiC)2 interphase during RMI process[75]
RMI動(dòng)力學(xué)過程與原位反應(yīng)是RMI制備Cf/UHTCs的主要控制要素。除了調(diào)控RMI動(dòng)力學(xué)過程可以改善UHTCs相分布之外,調(diào)控原位反應(yīng)熱力學(xué)參數(shù)也能夠調(diào)控UHTCs相結(jié)構(gòu),比如在一定條件下原位形成棒狀結(jié)構(gòu)的ZrB2相(圖8)。盡管棒狀結(jié)構(gòu)的ZrB2相在反應(yīng)燒結(jié)制備ZrB2-ZrC復(fù)相陶瓷的相關(guān)研究中得到了大量報(bào)道[77-80],但在Cf/UHTCs相關(guān)的研究中還鮮有報(bào)道。根據(jù)RMI反應(yīng)原理,可以確定ZrB2的生成反應(yīng)為:Zr+B4C→ZrB2+ZrC。B原子溶解于熔體中并在局部微區(qū)形成富B相,富B相與Zr結(jié)合生成ZrB2。隨著反應(yīng)的進(jìn)行,ZrB2周邊的Zr原子濃度下降,此時(shí)Zr原子擴(kuò)散控制了ZrB2的生長(zhǎng)過程[78]。ZrB2周邊明顯的Zr分布進(jìn)一步證實(shí)了Zr原子擴(kuò)散對(duì)ZrB2生長(zhǎng)行為的決定性作用(圖8e)。由于ZrB2是六方晶型,具有特定的生長(zhǎng)擇優(yōu)取向,使得原位生成的ZrB2具有顯著的棒狀結(jié)構(gòu)。另外,作者團(tuán)隊(duì)近期在Cf/UHTCs的制備過程中還發(fā)現(xiàn)了棒狀ZrSi2結(jié)構(gòu)的形成[74]。顯然,棒狀結(jié)構(gòu)有利于提升材料的斷裂韌性。因此,揭示棒狀結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)的熱力學(xué)/動(dòng)力學(xué)影響規(guī)律,對(duì)Cf/UHTCs的微結(jié)構(gòu)調(diào)控和性能提升具有重要意義。
在燒蝕機(jī)理方面,作者團(tuán)隊(duì)系統(tǒng)研究了Cf/SiC-ZrC-ZrB2的氧化燒蝕行為,揭示了氧化反應(yīng)、氧化相揮發(fā)和機(jī)械沖刷等對(duì)材料形貌結(jié)構(gòu)的作用規(guī)律(圖9)[47]。經(jīng)1800~2400 ℃等離子體燒燭考核后材料質(zhì)量燒蝕率(Rm)和線燒蝕率(Rl)分別低于2.92 g·m-2·s-1和100 μm·s-1。在較低的燒蝕溫度(1800~2000 ℃)下,材料表面形成了致密的硼硅酸鹽氧化膜,Rm和Rl均表現(xiàn)為負(fù)值,即材料表面因氧化膜的形成導(dǎo)致質(zhì)量和厚度增加,表明氧化膜的生成速率大于其揮發(fā)損耗速率。而在較高的燒蝕溫度(2000~2400 ℃)下,B2O3和SiO2等低熔點(diǎn)氧化相開始劇烈蒸發(fā),其揮發(fā)損耗速率開始超過氧化生成速率,從而導(dǎo)致氧化膜損耗,此時(shí)材料表現(xiàn)為正燒蝕率。在正燒蝕階段,由于B2O3和SiO2劇烈揮發(fā),過飽和ZrO2相從氧化膜中析出并暴露在燒蝕表面,在高溫作用下發(fā)生類液相燒結(jié)形成ZrO2氧化膜。由此可見,在低溫區(qū)和高溫區(qū)燒蝕下,Cf/SiC-ZrC-ZrB2表面均能形成穩(wěn)定氧化膜(硼硅酸鹽和ZrO2氧化膜),從而有效阻止氧氣擴(kuò)散,并延緩氧化燒蝕迅速向內(nèi)蔓延,這是材料在寬溫區(qū)表現(xiàn)出優(yōu)異抗氧化燒蝕性能的主要原因。另外,SiC氧化模式的轉(zhuǎn)變(被動(dòng)氧化轉(zhuǎn)變?yōu)橹鲃?dòng)氧化)在材料的氧化燒蝕過程中也發(fā)揮著重要作用。在低溫?zé)g階段,SiC氧化為液相SiO2(被動(dòng)氧化),能夠促進(jìn)致密氧化膜的形成并提高材料的耐燒蝕性能。而在高溫?zé)g階段,SiC氧化為氣態(tài)SiO(主動(dòng)氧化),SiO透過氧化膜擴(kuò)散逸出材料表面,并在材料內(nèi)部留下SiC耗散多孔層。隨著主動(dòng)氧化的不斷進(jìn)行,SiC耗散多孔層的孔隙結(jié)構(gòu)不斷長(zhǎng)大,致使表面氧化膜附著力降低,在高速等離子體機(jī)械沖刷作用下發(fā)生結(jié)構(gòu)坍塌,致使燒蝕過程向內(nèi)蔓延。
圖8 Cf/ZrC-ZrB2-SiC基體棒狀ZrB2結(jié)構(gòu)與形成機(jī)理Fig.8 Rod-like ZrB2 structure in Cf/ZrC-ZrB2-SiC and the formation mechanism
圖9 通過空氣等離子體燒蝕實(shí)驗(yàn),Cf/ZrC-ZrB2-SiC在1800~2400 ℃下的燒蝕行為[47]:(a)質(zhì)量燒蝕率和線燒蝕率,(b)燒蝕表面Raman圖譜,(c)燒蝕截面SEM照片,(d)1800~2000 ℃下的燒蝕機(jī)理示意圖,(e,f)1800~2000 ℃下的燒蝕表面、截面形貌SEM照片,(g)2000~2400℃下的燒蝕機(jī)理示意圖,(h,i)2000~2400℃下的燒蝕表面、界面形貌SEM照片F(xiàn)ig.9 Ablation behavior of Cf/ZrC-ZrB2-SiC under 1800~2400 ℃ by air plasma ablation experiment[47]: (a) mass and linear recession rates, (b) Raman spectra of the ablated surfaces, (c) ablation morphology of cross section, (d) illustration of the ablation mechanism at 1800~2000 ℃, (e, f) SEM images of the surface and cross section morphologies at 1800~2000 ℃, (g) illustration of the ablation mechanism at 2000~2400 ℃, (h, i) SEM images of the surface and cross section morphologies at 2000~2400 ℃
作為高超聲速飛行器極具應(yīng)用潛力的熱防護(hù)材料,Cf/UHTCs近年來一直是極端領(lǐng)域高溫材料的研究焦點(diǎn)。本文總結(jié)了Cf/UHTCs在基體改性、高溫力學(xué)性能、氧化燒蝕機(jī)理等方面的研究進(jìn)展,并介紹了作者團(tuán)隊(duì)在Cf/UHTCs結(jié)構(gòu)與性能調(diào)控等方面的最新研究成果,旨在深化對(duì)Cf/UHTCs結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)化、性能機(jī)理等關(guān)鍵科學(xué)問題的認(rèn)識(shí)。隨著高超聲速飛行技術(shù)的不斷發(fā)展,對(duì)熱防護(hù)材料的抗氧化燒蝕性能提出了更高要求,因此Cf/UHTCs的發(fā)展依然任重道遠(yuǎn)。具體而言,Cf/UHTCs在以下幾個(gè)方面需要加強(qiáng)研究:
(1)目前Cf/UHTCs氧化燒蝕試驗(yàn)條件、樣品規(guī)格等都還沒有統(tǒng)一的標(biāo)準(zhǔn),導(dǎo)致不同文獻(xiàn)報(bào)道的抗氧化燒蝕性能很難形成對(duì)比,無法給Cf/UHTCs性能優(yōu)化提供指導(dǎo)。因此,建立統(tǒng)一的燒蝕考核標(biāo)準(zhǔn)是一項(xiàng)重要工作。而且,基體各組元的體積含量與分布形態(tài)、熱流密度、氧分壓等是Cf/UHTCs燒蝕行為的決定性因素,目前還缺乏比較系統(tǒng)和深入的定量研究報(bào)道。
(2)作為面向高溫極端環(huán)境應(yīng)用的Cf/UHTCs,關(guān)于其高溫力學(xué)性能的現(xiàn)有研究報(bào)道還十分匱乏。盡管已有研究證實(shí)在高于2000 ℃時(shí),UHTCs相啟動(dòng)位錯(cuò)滑移、晶粒偏轉(zhuǎn)等塑性變形機(jī)制,使得Cf/UHTCs高溫力學(xué)行為表現(xiàn)出明顯異于常溫力學(xué)行為的特征。然而,UHTCs相高溫塑性變形機(jī)理,如位錯(cuò)滑移機(jī)制、原子擴(kuò)散機(jī)制以及外界條件(溫度、加載速率、氣氛等)對(duì)塑性變形的影響規(guī)律還需深入研究。
(3)關(guān)于Cf/UHTCs結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)與調(diào)控的研究報(bào)道依然不多,大多數(shù)研究還是停留在改進(jìn)制備工藝上,總體而言,這種改進(jìn)對(duì)材料性能的提升空間不大。而根據(jù)制備原理,能夠有針對(duì)性地進(jìn)行結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和調(diào)控,是Cf/UHTCs精細(xì)制備的必經(jīng)之路。如對(duì)于RMI法制備Cf/UHTCs來說,借助熔滲預(yù)制體孔隙結(jié)構(gòu)構(gòu)建與調(diào)控,有望大幅度優(yōu)化Cf/UHTCs的制備過程。當(dāng)然,借助計(jì)算機(jī)強(qiáng)大的計(jì)算能力,精確解析孔隙結(jié)構(gòu)參數(shù)對(duì)RMI動(dòng)力學(xué)過程的影響,有助于形成RMI過程精確調(diào)控的系統(tǒng)理論,這是今后RMI法制備Cf/UHTCs的重要關(guān)注點(diǎn)。