授權公告號：CN205319132u

授權公告日：2016.06.15

專利權人：昆山國顯光電有限公司

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發(fā)明人：朱琨；鐘立華；王冰；陳亮；王石

Int.Cl.：H01L21/67（2006.01）I摘要：該實用新型提供一種氣流控制裝置，該實用新型的氣流控制裝置，包括氣體輸送構件和噴頭；噴頭包括腔體和多個噴嘴；腔體上設置有進口端，氣體輸送構件上設置有出口端，所述進口端與所述出口端連通，噴嘴設置在腔體的外殼上遠離所述進口端的一倜，且均與腔體相通，每個噴嘴與出口端的軸心線均呈0°～90°的夾角設置，且所有所述噴嘴將氣體噴射在平面的面積大于所述出口端在所述基板平面的投影面積。采用該實用新型的技術方案，能夠減少整個基板的表面上HMDS氣體的擴散區(qū)，使HMDS氣體噴向基板的表面時，與基板的表面有足夠的接觸力，從而很容易附著在基板上，進而在該基板涂布光刻膠時，增強了光刻膠與基板的粘合度，使光刻膠不易從基板上剝離。