杭良毅,徐均琪,宋巖峰,蘇俊宏,基瑪·格拉索夫

(1.西安工業(yè)大學(xué) 陜西省薄膜技術(shù)與光學(xué)檢測(cè)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，西安 710021；2：西安現(xiàn)代控制技術(shù)研究所，西安 710065；3.白俄羅斯國(guó)立信息與無(wú)線電電子大學(xué)，明斯克 220013)

多層介質(zhì)濾光片的制備及激光損傷特性

杭良毅1,徐均琪1,宋巖峰2,蘇俊宏1,基瑪·格拉索夫3

(1.西安工業(yè)大學(xué) 陜西省薄膜技術(shù)與光學(xué)檢測(cè)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，西安 710021；2：西安現(xiàn)代控制技術(shù)研究所，西安 710065；3.白俄羅斯國(guó)立信息與無(wú)線電電子大學(xué)，明斯克 220013)

為了獲得具有較高激光損傷閾值的短波通截止濾光片，使用TFCalc膜系軟件設(shè)計(jì)了多層膜的光譜曲線和電場(chǎng)強(qiáng)度曲線，采用電子束熱蒸發(fā)技術(shù)在K9基底上制備了LaTiO3/SiO2組合膜堆的濾光片，通過(guò)激光輻照預(yù)處理工藝嘗試提高多層膜的激光損傷閾值(LIDT)，測(cè)試并討論了激光預(yù)處理對(duì)濾光片LIDT的影響.研究結(jié)果表明：通過(guò)分析濾光片的電場(chǎng)強(qiáng)度，得到優(yōu)化后的膜系是G|(HL)10H0.5L|A，制備后濾光片的LIDT為11.7 J·cm-2(1 064 nm，10 ns)；當(dāng)輻照激光能量為濾光片LIDT的80%時(shí)，輻照后濾光片的LIDT為14.3 J·cm-2(1 064 nm，10 ns)，較原值提高22.2%；當(dāng)輻照能量為80%，采用不同輻照次數(shù)實(shí)驗(yàn)時(shí)，發(fā)現(xiàn)輻照3次后濾光片的LIDT為16.1 J·cm-2(1 064 nm，10 ns)，較原值提高了37.6%.激光預(yù)處理后濾光片的表面粗糙度都有下降的趨勢(shì).

短波通濾光片；LaTiO3/SiO2；激光損傷閾值；激光預(yù)處理

短波通濾光片可以實(shí)現(xiàn)一部分光透過(guò)，一部分光截止的光學(xué)特性，被廣泛應(yīng)用于各式各樣的光學(xué)系統(tǒng)中.存在于激光系統(tǒng)中的多層介質(zhì)濾光片，由于其較差的抗激光損傷能力，已成為限制高能激光發(fā)展的瓶頸[1-2].隨著高功率激光器地不斷研發(fā)，對(duì)光學(xué)薄膜激光損傷閾值(Laser-Induced Damage Threshold,LIDT)的研究亦成為近年來(lái)材料、物理及光學(xué)領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)之一[3].

文獻(xiàn)[4]以TiO2/SiO2材料作為高低折射率膜料制備多層膜，得到了光學(xué)特性較高的短波通濾光片，但是并未分析這種多層膜的激光損傷特性；文獻(xiàn)[5]研究了高折射率鍍膜材料鈦酸鑭(LaTiO3)，發(fā)現(xiàn)其單層膜的光學(xué)特性良好，激光損傷閾值較高，可以替代TiO2膜料制備激光薄膜，但并未研究由鈦酸鑭材料組成的多層膜的激光損傷閾值；文獻(xiàn)[6]研究了不同場(chǎng)強(qiáng)分布的減反射膜在1 064 nm激光下的損傷特性，發(fā)現(xiàn)當(dāng)薄膜-空氣界面處的電場(chǎng)強(qiáng)度較小時(shí)，薄膜具有較高的激光損傷閾值.文獻(xiàn)[7]用單臺(tái)階能量光柵掃描及R-on-1測(cè)試兩種方式對(duì)532 nm的HfO2/SiO2高反膜進(jìn)行激光預(yù)處理，用ND：YAG二倍頻激光輻照高反膜，其損傷閾值分別提高38%和30%.文獻(xiàn)[8]通過(guò)在HfO2/SiO2組合膜堆的增透膜兩側(cè)加鍍適當(dāng)厚度的二氧化硅膜層，可有效提高多層膜的激光損傷閾值.從薄膜損傷機(jī)理來(lái)看，多層介質(zhì)薄膜的損傷機(jī)理主要有本征吸收，雜質(zhì)缺陷吸收，雪崩擊穿，多光子電離等[9].為了提高多層介質(zhì)薄膜的激光損傷閾值，除了在制備時(shí)減小薄膜的表面缺陷,選用激光損傷閾值較高的膜料以外，還要關(guān)注激光在薄膜內(nèi)部形成的駐波場(chǎng)大小，在設(shè)計(jì)時(shí)盡量使薄膜內(nèi)部的電場(chǎng)強(qiáng)度值較小或?qū)㈦妶?chǎng)強(qiáng)度較高的部分落在激光損傷閾值高的材料層[10].另外，對(duì)制備好的樣品進(jìn)行適當(dāng)?shù)募す忸A(yù)處理，也可有效提高多層介質(zhì)膜的激光損傷閾值.目前，選用LaTiO3材料作為高折射率材料制備多層膜，研究其激光損傷閾值的報(bào)道還很少.

本文為獲得激光損傷閾值較高的濾光片，在結(jié)合薄膜場(chǎng)效應(yīng)理論的基礎(chǔ)上，選用抗激光損傷性能較好的高折射率材料LaTiO3，首先研究每種材料單層膜的激光損傷閾值，得到單層膜制備工藝，然后在此工藝下結(jié)合設(shè)計(jì)軟件得到激光損傷閾值較高的濾光片，最后對(duì)濾光片進(jìn)行一定的后續(xù)處理進(jìn)一步提高激光損傷閾值.

1 短波通濾光片的設(shè)計(jì)和制備

在設(shè)計(jì)短波通濾光片時(shí)，除了光譜特性要達(dá)到要求之外，還要設(shè)計(jì)出LIDT盡可能高的濾光片，這就需要在設(shè)計(jì)之前選用較高閾值的材料，在設(shè)計(jì)時(shí)考慮膜系的電場(chǎng)強(qiáng)度(Electric Field Intensity，EFI)分布，在制備后選用合適的激光預(yù)處理方法.

1.1 濾光片的膜系設(shè)計(jì)

1.1.1 單層膜材料的確定

根據(jù)前期研究發(fā)現(xiàn)，鈦酸鑭(LaTiO3)薄膜的物理化學(xué)性能穩(wěn)定，制備中材料不易分解，易蒸鍍，且不同工藝對(duì)單層膜的光學(xué)特性影響不大，折射率和消光系數(shù)比較穩(wěn)定.前期實(shí)驗(yàn)獲得了鈦酸鑭和氧化硅的工藝參數(shù)[10-11]，在此參數(shù)下制備的單層LaTiO3的LIDT為16.9 J·cm-2(1 064 nm，10 ns)，SiO2的LIDT為24.1 J·cm-2(1 064 nm，10 ns).因此選擇LaTiO3作為高折射率材料，低折射率材料選用SiO2.兩種材料的工藝參數(shù)見表1.

表1 每組材料的制備工藝

1.1.2 初始膜系設(shè)計(jì)

短波通濾光片經(jīng)典膜系為G|(0.5LH0.5L)S|A，使用TFCalc膜系設(shè)計(jì)軟件，嘗試增加膜系周期數(shù)S，從而實(shí)現(xiàn)光譜特性指標(biāo).設(shè)計(jì)時(shí)要結(jié)合制備工藝來(lái)合理設(shè)計(jì)短波通濾光片，制備濾光片采用電子束熱蒸發(fā)技術(shù)，膜厚監(jiān)控采用光控極值法(透射式)，膜厚監(jiān)控在極值點(diǎn)附近最為準(zhǔn)確，膜層數(shù)越多薄膜膜厚累積誤差越大.為減小多層膜累計(jì)誤差，在設(shè)計(jì)多層膜初始膜系時(shí)，濾光片膜系應(yīng)盡量為規(guī)整膜系，膜層數(shù)要盡可能少.

濾光片的中心波長(zhǎng)(λ0)為1 064 nm，當(dāng)周期數(shù)S=8時(shí)，即G|0.5L(HL)7H0.5L|A，得到滿足光譜特性的膜系，在不影響膜層透過(guò)率情況下，去掉第一層0.5 L，即G|(HL)7H0.5L|A時(shí)，532 nm處的透過(guò)率T532 nm=99.02%，1 064 nm處的透過(guò)率T1 064 nm=3.96%，為獲得較高激光損傷閾值的濾光片，需對(duì)初始膜系的電場(chǎng)強(qiáng)度進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì).

1.1.3 多層膜的電場(chǎng)強(qiáng)度設(shè)計(jì)

制備多層膜時(shí)不可避免會(huì)出現(xiàn)誤差，在層數(shù)較多時(shí)采用光控法還會(huì)產(chǎn)生膜厚累計(jì)誤差.為減小制備時(shí)誤差帶來(lái)的影響，并分析其電場(chǎng)強(qiáng)度值，嘗試適當(dāng)?shù)脑黾又芷跀?shù)，觀察多層膜電場(chǎng)強(qiáng)度的分布情況，以獲得優(yōu)化后的膜系.

根據(jù)薄膜場(chǎng)效應(yīng)理論[6]——薄膜與空氣界面處電場(chǎng)強(qiáng)度越小，其抗激光損傷能力越高.使用膜系設(shè)計(jì)軟件，分別設(shè)計(jì)周期數(shù)S=9，10，11和12，薄膜的透過(guò)率和電場(chǎng)強(qiáng)度值見表2，充分考慮樣片的透過(guò)率、電場(chǎng)強(qiáng)度值及實(shí)驗(yàn)室制備條件，認(rèn)為當(dāng)S=11時(shí)，制備的多層膜效果較好.表2中E表示多層膜最外層和空氣界面處電場(chǎng)強(qiáng)度值，Emax表示多層膜內(nèi)各界面處的電場(chǎng)強(qiáng)度最大值.

表2 不同濾光片的透過(guò)率與歸一化電場(chǎng)強(qiáng)度值

此時(shí)，多層膜膜系為G|(HL)10H0.5L|A，透過(guò)率和電場(chǎng)強(qiáng)度分布如圖1所示，圖1(a)表示入射光波(波長(zhǎng)λ=1 064 nm)在薄膜最外層兩側(cè)形成的駐波場(chǎng)曲線，橫坐標(biāo)0左邊為空氣處形成的駐波場(chǎng)，右邊從0開始表示從薄膜最外層一直到基底這一區(qū)間形成的駐波場(chǎng)；圖1(b)表示膜系的理論光譜曲線.

為了進(jìn)一步優(yōu)化膜系的電場(chǎng)強(qiáng)度曲線，使膜層各界面處的電場(chǎng)強(qiáng)度分布較小，嘗試了兩種最常見的優(yōu)化多層膜電場(chǎng)強(qiáng)度的方法：① 在最外層加入2L保護(hù)層；② 將第21層的H層用中間折射率材料Al2O3替換.實(shí)驗(yàn)結(jié)果發(fā)現(xiàn)，優(yōu)化前的膜系G|(HL)10H0.5L|A是電場(chǎng)強(qiáng)度分布較好的膜系.

圖1 濾光片的理論設(shè)計(jì)曲線

1.2 濾光片的制備

為避免玻璃基底粗糙度對(duì)激光損傷閾值的影響，實(shí)驗(yàn)基底全部選用厚度3 mm，?30 mm的同一批次K9玻璃.采用電子束熱蒸發(fā)技術(shù)在南光ZZS500-2/G型箱式真空鍍膜機(jī)上進(jìn)行鍍制，鍍膜前用3∶1的乙醇乙醚混合液清潔基片，烘干后裝入真空室.濾光片的膜系為G|(HL)10H0.5L|A，H層為高折射率材料LaTiO3，L層為低折射率材料SiO2，監(jiān)控波長(zhǎng)都選擇530 nm，每一層監(jiān)控兩個(gè)極值，膜系的中心波長(zhǎng)設(shè)計(jì)為1 064 nm.本底真空度為3.0×10-3Pa，制備參數(shù)見表1.

1.3 制備結(jié)果

采用日立U-3501型分光光度計(jì)測(cè)量多層膜光譜曲線，得到結(jié)果如圖2所示.圖2中虛線表示實(shí)際測(cè)試的光譜曲線，實(shí)線表示TFCalc軟件設(shè)計(jì)的理論曲線.所得到曲線實(shí)際透過(guò)率T532 nm=94.76%，T1 064 nm=0.81%；對(duì)應(yīng)的理論透過(guò)率是T532 nm=95.47%，T1 064 nm=0.72%；由圖2可以發(fā)現(xiàn)，鍍制的薄膜透過(guò)率滿足了設(shè)計(jì)要求且特性較好(出射介質(zhì)為空氣時(shí)，由于基片另一面會(huì)產(chǎn)生大約4.2%的反射率，因此，實(shí)測(cè)透射波長(zhǎng)T532 nm≥91%即可).

圖2 濾光片的理論透過(guò)率曲線和實(shí)際透過(guò)率曲線圖

采用西安工業(yè)大學(xué)研制的激光損傷測(cè)試儀對(duì)多層膜進(jìn)行激光損傷測(cè)試，測(cè)試儀激光波長(zhǎng)是1 064 nm，脈寬10 ns，光斑直徑為0.8 mm，采用1-on-1的輻照方式測(cè)試，測(cè)試系統(tǒng)會(huì)對(duì)濾光片的實(shí)測(cè)損傷點(diǎn)數(shù)與對(duì)應(yīng)損傷能量密度用最小二乘法擬合，得到曲線與橫坐標(biāo)的交點(diǎn)即為樣片的激光損傷閾值.測(cè)試得到濾光片的激光損傷閾值是11.7 J·cm-2，如圖3所示，圖3中橫坐標(biāo)表示薄膜的激光損傷閾值，縱坐標(biāo)表示不同損傷閾值下對(duì)應(yīng)的損傷斑數(shù)目.

圖3 濾光片的激光損傷閾值實(shí)測(cè)擬合曲線

為了驗(yàn)證這一結(jié)果，采用不同能量密度的激光(1 064 nm,10 ns)輻照樣片，損傷斑如圖4所示.輻照的激光能量分別為60 mJ、70 mJ、80 mJ、90 mJ、100 mJ和110 mJ，從圖4中可以發(fā)現(xiàn)，損傷斑的形貌均表現(xiàn)為部分脫落.濾光片在60 mJ處薄膜開始損傷，此時(shí)損傷斑較小，隨著能量增大，損傷斑面積越來(lái)越大，60 mJ對(duì)應(yīng)的激光能量密度是11.9 J·cm-2，符合實(shí)驗(yàn)測(cè)試的結(jié)果.

圖4 不同激光能量輻照下濾光片的表面損傷形貌

2 激光預(yù)處理實(shí)驗(yàn)

研究發(fā)現(xiàn)，對(duì)多層膜進(jìn)行合適的激光預(yù)處理可以有效提高多層膜的激光損傷閾值.其原理是：以低于薄膜激光損傷閾值的激光能量輻照介質(zhì)薄膜時(shí)，薄膜材料內(nèi)處于潛能級(jí)的束縛電子易被激發(fā)到導(dǎo)帶，由于輻照能量不會(huì)損傷薄膜，被激發(fā)的電子又會(huì)衰減到更穩(wěn)定的能級(jí)或與空穴結(jié)合，當(dāng)使用高于激光損傷閾值的激光能量輻照時(shí)，可被激發(fā)的電子已經(jīng)大大減少，從而提高薄膜的激光損傷閾值.激光器的主要可變參數(shù)有輻照脈沖次數(shù)和輻照脈沖能量等，本文對(duì)濾光片進(jìn)行激光輻照預(yù)處理時(shí)，主要考慮了不同輻照次數(shù)和不同輻照能量對(duì)濾光片激光損傷閾值的影響.

2.1 輻照能量對(duì)多層膜的影響

首先研究了不同輻照能量對(duì)LaTiO3/SiO2多層膜激光損傷閾值的影響，濾光片初始的激光損傷閾值是11.7 J·cm-2，樣片表面激光光斑直徑是0.8 mm，即對(duì)應(yīng)的輻照能量為58.8 mJ.使用ND∶YAG基頻單脈沖激光(1 064 nm，10 ns)輻照樣品，輻照能量分別選取其激光損傷閾值的20%(2.4 J·cm-2)，50%(5.9 J·cm-2)和80%(9.4 J·cm-2).輻照后多層膜的實(shí)測(cè)光譜曲線如圖5所示.

圖5 11.8 mJ、29.4 mJ和47.0 mJ激光能量輻照后濾光片的光譜曲線

從圖5中發(fā)現(xiàn)，隨著輻照激光的能量增大，短波通濾光片的光譜曲線并沒(méi)有發(fā)生太大變化，重點(diǎn)觀察532 nm和1 064 nm的光譜偏移，發(fā)現(xiàn)處理后濾光片在1 064 nm處透過(guò)率分別是1.42%,1.00%和1.04%，未輻照的是0.81%；在532 nm處，濾光片的透過(guò)率是92.37%，92.84%和93.42%，未處理的是94.76%，這說(shuō)明采用這種激光輻照方式對(duì)濾光片的光譜曲線影響不大，接下來(lái)進(jìn)行激光損傷閾值的測(cè)試，三組樣片的LIDT值如圖6所示.

從圖6可以看出，濾光片的激光損傷閾值和輻照能量成正比，當(dāng)激光預(yù)處理的能量分別為損傷閾值的20%、50%和80%時(shí)，濾光片的激光損傷閾值分別為12.5 J·cm-2，13.6 J·cm-2和14.3 J·cm-2，較未進(jìn)行預(yù)處理的濾光片，其LIDT分別提高了6.8%，16.2%和22.2%.

圖6 11.8 mJ、29.4 mJ和47.0 mJ激光能量輻照后濾光片的激光損傷閾值

為進(jìn)一步分析濾光片激光損傷閾值和表面粗糙度的關(guān)系，使用白光干涉儀分別測(cè)試了幾組濾光片的表面粗糙度，如表3所示，其中Sa表示平均粗糙度，Sq表示均方根粗糙度，一般情況下，重點(diǎn)考察多層膜的均方根粗糙度.可以發(fā)現(xiàn)，經(jīng)過(guò)激光預(yù)處理的濾光片，表面粗糙度都得到了一定的改善，隨著輻照能量的增加，三組樣片均方根粗糙度較樣片分別下降了37.44%，40.69%和39.72%.當(dāng)激光能量為樣片LIDT的50%左右時(shí)，激光預(yù)處理后的濾光片的表面粗糙度能獲得較好的改善.

表3 不同激光輻照能量對(duì)濾光片粗糙度的影響

2.2 輻照次數(shù)對(duì)多層膜的影響

當(dāng)激光預(yù)處理的能量為樣片LIDT的80%時(shí)，濾光片激光損傷閾值有較好的提高，因此選用這一能量進(jìn)行不同輻照次數(shù)的實(shí)驗(yàn)，分別輻照濾光片1次、3次和5次.濾光片的光譜曲線如圖7所示.

圖7 輻照1次、3次和5次后濾光片的光譜曲線圖

從圖7中發(fā)現(xiàn)，隨著輻照激光的次數(shù)增多，短波通濾光片的光譜曲線會(huì)向左發(fā)生偏移，重點(diǎn)觀察532 nm和1 064 nm的光譜偏移，發(fā)現(xiàn)處理后濾光片在1 064 nm處透過(guò)率分別是1.21%，1.32%和1.34%，未輻照的是0.81%；在532 nm處，濾光片的透過(guò)率是93.42%,93.36%和93.31%，未處理的是94.76%，這說(shuō)明采用這種激光輻照方式對(duì)濾光片的半波長(zhǎng)和中心波長(zhǎng)處的透過(guò)率值影響不大，接下來(lái)進(jìn)行激光損傷閾值的測(cè)試，三組樣片的LIDT值如圖8所示.

圖8 輻照1次、3次和5次后濾光片的激光損傷閾值Fig.8 The LIDT of irradiated filter by 1,3 and 5 times of irradiation

從圖8可以看出，當(dāng)激光預(yù)處理的輻照次數(shù)為3次時(shí)，濾光片有極大的激光損傷閾值，隨著次數(shù)增加到5次，濾光片的激光損傷閾值開始下降，因此，可以認(rèn)為當(dāng)預(yù)處理的能量為樣片LIDT的80%、輻照次數(shù)為3次時(shí)，濾光片具有較大的激光損傷閾值，較原值提高了37.6%.

三組樣片的表面粗糙度見表4.三組的表面粗糙度與輻照次數(shù)成反比，當(dāng)輻照次數(shù)為3次時(shí)，濾光片的表面粗糙度較小，此時(shí)濾光片的表面平均粗糙度和均方根粗糙度較原始樣片分別降低了49.47%和43.37%.造成這一結(jié)果的原因是，選用低于濾光片LIDT的能量輻照薄膜，可以在不損傷濾光片的情況下改變其內(nèi)部的應(yīng)力場(chǎng)分布，使分布更加均勻；并且輻照后濾光片表面的溫升可以去除一些雜質(zhì)，使薄膜表面更加平整，結(jié)構(gòu)致密，粗糙度減小，從而提高濾光片的損傷閾值.

表4 不同激光輻照次數(shù)對(duì)濾光片粗糙度的影響

3 結(jié) 論

本文采用電子束熱蒸發(fā)技術(shù)，在K9基底上制備得到了LaTiO3/SiO2組合膜堆的短波通濾光片，通過(guò)不同的激光預(yù)處理手段獲得了LIDT較高的多層膜.得到的結(jié)論如下.

1) 在設(shè)計(jì)膜系時(shí)考慮多層膜的電場(chǎng)強(qiáng)度分布，制備的多層膜激光損傷閾值較高，達(dá)到了11.7 J·cm-2(1 064 nm，10 ns)；

2) 對(duì)多層膜進(jìn)行激光預(yù)處理，當(dāng)輻照的激光能量為激光損傷閾值的80%,輻照次數(shù)為3次時(shí)，得到的激光損傷閾值為16.1 J·cm-2(1 064 nm，10 ns)，較原值提高了37.6%.

3) 激光預(yù)處理也可改善多層膜的表面粗糙度，減少薄膜表面的缺陷，從而提高激光損傷閾值.

綜上，在設(shè)計(jì)濾光片時(shí)除了選用激光損傷閾值較高的材料以外，還需要根據(jù)場(chǎng)效應(yīng)理論分析濾光片內(nèi)部的電場(chǎng)強(qiáng)度曲線，采用適當(dāng)?shù)墓に噷?duì)濾光片進(jìn)行激光預(yù)處理，可獲得激光損傷閾值較高的多層介質(zhì)濾光片.

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(責(zé)任編輯、校對(duì) 潘秋岑)

Preparation of Multi-Layer Dielectric Filter and Laser Damage Characteristics

HANGLiangyi1,XUJunqi1,SONGYanfeng2,SUJunhong1,GOLOSOVDmitriyA3

(1.Shaanxi Province Thin Film Technology and Optical Test Open Key Laboratory, Xi’an Technological University,Xi’an 710021,China; 2.Xi’an Modern Control Technology Institute,Xi’an 710065,China; 3.Belarusian State University of Informatics and Radioelectronics,Minsk 220013,Belarus)

For coating a short-wavelength pass filter with higher laser-induced damage threshold(LIDT),the transmittance and electric field intensity(EFI) plot of filter are designed by a TFCalc software.The filter which made of LaTiO3/SiO2is prepared on K9 substrate by electron beam evaporation.Laser pre-treatment methods to improve filter’s LIDT are studied.The results show:Based on the filter’s EFI,the filter’s film stack is G|(HL)10H0.5L|A.The LIDT is 11.7 J·cm-2(1 064 nm,10 ns).When the filter is irradiated by 80% of original filter’s LIDT,the new filter’s LIDT is 14.3 J·cm-2(1 064 nm,10 ns),22.2% higher than that of an original one.When the filter is irradiated 3 times,the new filter’s LIDT is 16.1 J·cm-2(1 064 nm,10 ns),37.6% higher than that of an original one.And the filter’s surface roughness is decreased after the laser pre-treatment.

short-wavelength pass filter；LaTiO3/SiO2；laser-induced damage threshold； laser pre-treatment

10.16185/j.jxatu.edu.cn.2016.12.001

2016-06-16

科技部國(guó)際合作資助項(xiàng)目(2013DFR70620)；國(guó)家自然科學(xué)基金(61378050)；陜西省教育廳科研計(jì)劃項(xiàng)目(16JS037)

杭良毅(1991-)，男，西安工業(yè)大學(xué)碩士研究生.

徐均琪(1973-)，男，西安工業(yè)大學(xué)教授，主要研究方向?yàn)楣鈱W(xué)薄膜技術(shù).E-mail:jqxu2210@163.com.

TN205;O484

A

1673-9965(2016)12-0947-07