徐培軍,鮑陽(yáng)陽(yáng),鄭 明,徐 剛,吳明紅
(上海大學(xué)環(huán)境與化學(xué)工程學(xué)院,上海 200444)
普施安紅MX-5B的電子束輻照降解
徐培軍,鮑陽(yáng)陽(yáng),鄭明,徐剛,吳明紅
(上海大學(xué)環(huán)境與化學(xué)工程學(xué)院,上海 200444)
普施安紅(Procion Red,PR)MX-5B是一種活性單偶氮染料,在其生產(chǎn)和使用的過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生采用傳統(tǒng)的生化處理技術(shù)很難處理的染料廢水.運(yùn)用電子束輻照技術(shù)處理普施安紅MX-5B模擬染料廢水,研究了輻照劑量、初始濃度、初始pH值和不同氣氛條件等因素對(duì)處理效果的影響.實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,上述因素對(duì)普施安紅MX-5B的降解有著顯著影響.在氛圍不同的情況下,普施安紅MX-5B的降解率為飽和氧羥基自由基氧化體系>飽和空氣氧化還原體系>飽和氮?dú)馑想娮舆€原體系.在羥基自由基氧化體系中,羥基自由基攻擊偶氮雙鍵(—N=N—)和苯環(huán)導(dǎo)致分子斷裂生成的中間產(chǎn)物苯胺,被進(jìn)一步降解為小分子有機(jī)酸.
電子束輻照;偶氮染料;普施安紅MX-5B;高級(jí)氧化技術(shù)
染料工業(yè)是我國(guó)經(jīng)濟(jì)體系中的重要組成部分,其產(chǎn)品主要應(yīng)用于紡織、皮革、食品、涂料等行業(yè).染料工業(yè)中偶氮染料占60%左右,大約有2 000個(gè)品種,年產(chǎn)量近60萬(wàn)t.我國(guó)是染料的生產(chǎn)和使用大國(guó).隨著人們對(duì)紡織工業(yè)產(chǎn)品質(zhì)量和數(shù)量的要求越來(lái)越高,大量的含有有害的有機(jī)基化學(xué)品的廢水被排入天然水體.
偶氮染料因其含有一個(gè)或者多個(gè)偶氮雙鍵與芳香胺相耦合的獨(dú)特的化學(xué)結(jié)構(gòu),被認(rèn)為對(duì)環(huán)境和人體健康是有害的.傳統(tǒng)的處理技術(shù),包括吸附法[1-2]、生物氧化法[3]很難將其完全降解,而且這些處理技術(shù)在處理偶氮染料廢水的時(shí)候都會(huì)產(chǎn)生有毒的副產(chǎn)物[4-5].
輻射技術(shù)屬于高級(jí)氧化技術(shù),已經(jīng)被應(yīng)用于染料廢水的處理[6].電子束輻照處理染料廢水的原理主要是,水在受到電離輻射時(shí)會(huì)產(chǎn)生電離的和激發(fā)態(tài)的水分子以及自由電子,這些電離分子會(huì)迅速反應(yīng)生成具有強(qiáng)氧化性的羥基自由基(·OH),電子會(huì)發(fā)生水合反應(yīng)生成強(qiáng)還原性的水合電子e:
普施安紅(Procion Red,PR)MX-5B是在紡織工業(yè)中常用的染料之一,PR MX-5B結(jié)構(gòu)式如圖1所示.近年來(lái),已出現(xiàn)了針對(duì)降解以PR MX-5B模擬染料廢水為目標(biāo)物的報(bào)道. Binupriya等[7]研究了采用革蘭氏陽(yáng)性菌(枯草芽孢桿菌)為吸附劑去除單偶氮染料PR MX-5B的方法.文獻(xiàn)[8-10]利用光催化氧化技術(shù)進(jìn)行了PR MX-5B的降解實(shí)驗(yàn).Lin等[11]研究了光催化氧化技術(shù)對(duì)PR MX-5B的降解機(jī)理,并討論了催化劑TiO2和TiO2/Ag的用量以及運(yùn)行參數(shù)脫色效果的影響,結(jié)果表明,在紫外光的照射下TiO2/Ag中具有氧化活性的Ag能有效去除PR MX-5B.本工作運(yùn)用電子束輻照技術(shù)處理模擬偶氮染料廢水,并討論輻照劑量、初始濃度、初始pH值和不同氣氛條件對(duì)輻照降解率的影響.
圖1 普施安紅MX-5B的結(jié)構(gòu)式Fig.1 Structure of PR MX-5B
1.1實(shí)驗(yàn)材料與儀器
普施安紅MX-5B(分子量595.37,CAS(chemical abstracts service)號(hào)為17804-49-8,最大吸收波長(zhǎng)λmax=538 nm)、高效液相色譜(high performance liquid chromatography,HPLC)級(jí)甲醇(CH3OH)、乙腈(CH3CN)、異丙醇(CH3CH(OH)CH3),均購(gòu)于Sigma公司;農(nóng)殘級(jí)別氫氧化鈉(NaOH)、優(yōu)級(jí)純硫酸(H2SO4),均購(gòu)于上海試劑公司;氮?dú)猓∟2)、氧氣(O2),均由上海春雨氣體公司提供,純度>99.99%.
實(shí)驗(yàn)儀器包括電子加速器、束下輻照平臺(tái)、高效液相色譜和純水機(jī)(見表1).
1.2樣品的制備
用超純水制備PR MX-5B的儲(chǔ)備溶液,其中PR MX-5B的濃度分別為100,200,400,500 mg/L.將20 mL濃度為100 mg/L的PR MX-5B溶液置于輻照袋中,并分別在空氣、純氧(O2)和氮?dú)猓∟2)中充分曝氣20 min.
表1 實(shí)驗(yàn)儀器Table 1 Experimental instruments
1.3電子束輻照
本實(shí)驗(yàn)采用1.8 MeV高能電子束對(duì)偶氮染料PR MX-5B水溶液體系進(jìn)行輻照處理.輻照設(shè)備使用上海市射線應(yīng)用研究所的GJ-Ⅱ型電子加速器,電子束輻照裝置如圖2所示.電子束能量為1.0~2.5 MeV,連續(xù)可調(diào);束流為0~20 mA,連續(xù)可調(diào).實(shí)驗(yàn)時(shí),電子束能量為1.8 MeV,束流為1.0 mA,樣品體積和厚度分別為10 mL和2 mm.將樣品置于往復(fù)移動(dòng)式束下裝置進(jìn)行輻照,樣品距離鈦窗口約30 cm,電子束流強(qiáng)度為1.0 mA,輻照劑量為1~10 kGy.
圖2 電子束輻照裝置Fig.2 Device of electron beam irradiator
1.4HPLC分析
本實(shí)驗(yàn)采用美國(guó)Agilent公司1200 Series反相HPLC系統(tǒng)對(duì)偶氮染料普施安紅MX-5B水溶液體系在電子束輻照前后的濃度進(jìn)行測(cè)定.使用反相C18液相色譜柱(Eclipse XDB-18,4.6 mm×250 mm×5μm),將體積分?jǐn)?shù)為0.5的10 mmol/L的乙腈(醋酸銨)水溶液作為流動(dòng)相,流速為1.0 mL/min,紫外檢測(cè)波長(zhǎng)為285 nm,單次進(jìn)樣量為10μL.
2.1初始濃度和輻照劑量對(duì)PR MX-5B輻照降解的影響
溶液的初始濃度和輻照劑量是有機(jī)物降解過(guò)程中重要的影響因素[12].為了研究初始濃度和輻照劑量對(duì)偶氮染料PR MX-5B降解的影響,在室溫條件下對(duì)超純水配制的樣品在0.5~10.0 kGy的不同輻照劑量下進(jìn)行輻照降解,結(jié)果如圖3所示.
從圖3可以看出,偶氮染料能夠被電子束輻射有效降解.在其他參數(shù)固定的情況下,初始濃度和輻照劑量的變化對(duì)PR MX-5B的降解具有一定的影響.在相同的初始濃度條件下,普施安紅MX-5B的降解率均隨著輻照劑量的提高而提高[13];而在相同的輻照劑量下,降解率均隨初始濃度的提高而降低[10,14].當(dāng)溶液中PR MX-5B初始濃度為100,200,400 mg/L時(shí),要使降解率大于50%所需要的輻照劑量分別為0.47,0.70,1.20 kGy;在500 mg/L的高濃度情況下,當(dāng)輻照劑量為0.5,1.0,2.0,5.0,10.0 kGy時(shí),降解率分別為4.73%,26.75%,58.20%,63.17%和67.42%.由此可知,在相同條件下高濃度的水溶液明顯比低濃度時(shí)的降解率要低,且降解過(guò)程比較緩慢.綜上可知,將濃度較高的廢水進(jìn)行稀釋,可以在較低的輻照劑量下取得較好的降解效果.
圖3 初始濃度和輻照劑量對(duì)普施安紅MX-5B溶液電子束輻照降解的影響Fig.3 Effects of initial concentrations and doses on PR MX-5B aqueous solution electron beam radiolytic degradation
2.2溶液初始pH值對(duì)PR MX-5B輻照降解的影響
在電子束輻照過(guò)程中溶液的pH值是重要的影響因素.由于溶液pH值的變化會(huì)影響溶液中輻照產(chǎn)生的某些活性粒子的數(shù)量,物質(zhì)受活性粒子攻擊分解的效果也有所不同,因此研究pH值的變化對(duì)偶氮染料降解的影響具有重要的意義.
為測(cè)定pH值對(duì)單偶氮染料溶液輻照降解的實(shí)際影響,本實(shí)驗(yàn)選取PR MX-5B樣品溶液的初始濃度為100 mg/L.為了使其能夠在酸性和堿性環(huán)境中進(jìn)行輻照降解反應(yīng),分別用稀H2SO4和稀NaOH調(diào)節(jié)溶液的初始pH值為4.01和10.00.pH值不同時(shí)PR MX-5B的降解率如圖4所示.
圖4 初始pH值對(duì)100 mg/L的普施安紅MX-5B溶液電子束輻照降解的影響Fig.4 Effects of initial pH values on electron beam radiolytic degradation of 100 mg/L PR MX-5B aqueous solution
從圖4可以看出,溶液的初始pH值對(duì)普施安紅MX-5B的降解率影響較大:在酸性環(huán)境中PR MX-5B的降解率最高,而在堿性環(huán)境中降解率最低[15-16].在2 kGy的輻照劑量下,酸性環(huán)境中PR MX-5B的降解率為97.6%,堿性環(huán)境中的降解率為78.2%,略低于原始溶液的降解率.這可能是因?yàn)樵趬A性條件下,H和OH-發(fā)生反應(yīng)生成水合電子e-aq(見式(1)),使得溶液中水合電子的數(shù)量劇增,成為反應(yīng)的主導(dǎo)者,提高了降解率;而在酸性條件下,水合電子會(huì)與H+發(fā)生反應(yīng)生成H原子(見式(2)),溶液中的水合電子的數(shù)量會(huì)減少,氧化劑·OH在反應(yīng)中起主導(dǎo)作用,提高了降解率.實(shí)驗(yàn)結(jié)果也表明:·OH自由基比水合電子e-aq更能破壞偶氮染料分子,即偶氮染料在氧化條件下的降解率比在還原條件下的降解率要高.
2.3H2O2濃度對(duì)PR MX-5B輻照降解的影響
過(guò)氧化氫(H2O2)是一種常用的氧化劑,被廣泛應(yīng)用于廢水的處理[17].在輻射處理過(guò)程中添加一定量的H2O2,能夠促進(jìn)羥基自由基的產(chǎn)生[18].圖5為在100 mg/L PR MX-5B水溶液中加入不同濃度H2O2的情況下溶液經(jīng)電子束輻照后的降解情況.可以看出:加入H2O2對(duì)PR MX-5B的電子束輻照降解是有促進(jìn)作用的,而隨著H2O2濃度的增大,降解率逐漸提高;當(dāng)H2O2濃度增加到一定的程度時(shí)又會(huì)抑制PR MX-5B的降解;當(dāng)H2O2濃度為1.0 mmol/L時(shí),PR MX-5B的降解率達(dá)到最大.Sun等[19]也得出了類似的結(jié)論.造成上述情況的原因,一方面由于H2O2本身吸收電子束輻射產(chǎn)生高能量,從而斷裂成·OH自由基;另一方面,水經(jīng)過(guò)電子束輻射后產(chǎn)生活性自由基如e,·H會(huì)與H2O2分子反應(yīng)生成更多的·OH自由基(見式(3)和(4)),并且溶液中e的數(shù)量在減少.因?yàn)榱u基自由基·OH對(duì)偶氮染料分子的降解率要大于水合電子e,所以PR MX-5B的降解率開始時(shí)是隨著H2O2濃度的增大而提高的,而在此基礎(chǔ)上,繼續(xù)增大H2O2濃度會(huì)消耗溶液中的·OH自由基(見式(5)和(6)).
圖5 H2O2對(duì)100 mg/L普施安紅MX-5B溶液電子束輻照降解的影響Fig.5 Effects of H2O2on electron beam radiolytic degradation of 100 mg/L PR MX-5B aqueous solution
2.4不同氣氛條件對(duì)PR MX-5B輻照降解的影響
在PR MX-5B的水溶液中通入不同氣氛,以研究不同氣氛對(duì)其電子束輻照降解的影響. 3種氣氛體系如下:①氧氣飽和體系(有氧狀態(tài)下的羥基自由基氧化體系);②空氣飽和體系(復(fù)雜自由基氧化體系);③含特異丙醇、氮?dú)怙柡腕w系(水合電子還原體系).實(shí)驗(yàn)中PR MX-5B溶液濃度為100 mg/L,分別在飽和溶液中通入氮?dú)?、氧氣和空?0 min后,在不同電子束輻照劑量下進(jìn)行輻照降解.3種氣氛條件對(duì)PR MX-5B的電子束輻照降解的影響如圖6所示.
圖6 不同氣氛條件對(duì)100 mg/L普施安紅MX-5B溶液電子束輻照降解的影響Fig.6 Effects of different atmospheres on 100 mg/L PR MX-5B electron beam radiolytic degradation
從圖6可以看出:偶氮染料PR MX-5B在不同氣氛條件下的輻照降解趨勢(shì)是相似的,均隨著輻照劑量的增加,降解率提高;在氧氣飽和體系(有氧狀態(tài)的羥基自由基氧化體系)中的降解率最高,其次是空氣飽和復(fù)雜自由基氧化體系,最低的是含特異丙醇、氮?dú)怙柡腕w系(水合電子還原體系).實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,羥基自由基對(duì)PR MX-5B的降解效果要優(yōu)于水合電子. Popov等[20]在研究不同氣氛中輻射降解二苯醚時(shí)得出了類似的結(jié)論.
電子束是降解染料廢水的一種有效的手段,通過(guò)上述的研究分析,可以得出如下結(jié)論:①低濃度的廢水能夠在較低輻照劑量的情況下獲得較好的降解效果;②H+的存在會(huì)對(duì)染料的降解有促進(jìn)作用;③0.34 mg/L的H2O2能促進(jìn)PR MX-5B的降解,但是根據(jù)目標(biāo)物的不同,H2O2的用量會(huì)有所不同;④充足的氧氣會(huì)使反應(yīng)更加充分.
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Degradation of Procion Red MX-5B in aqueous solution using electron beam
XU Pei-jun,BAO Yang-yang,ZHENG Ming,XU Gang,WU Ming-hong
(School of Environmental and Chemical Engineering,Shanghai University,Shanghai 200444,China)
The reactive azo dye Procion Red MX-5B(PR MX-5B)is hard to degrade completely in aqueous solutions with traditional biochemical methods.Electron beam irradiation was carried out to investigate the degradation at concentrations varying between 100 and 500 mg/L.Some influence factors such as absorbed does,initial concentration pH value and different system on degradation efficiency are discussed.The degradation is found to follow first-order kinetics by high performance liquid chromatography(HPLC)with UV/V is detection.The results indicate that the factors do have effect on the reaction,for example,the degradation rates follow an order of·OH oxidative system with saturated oxygen>·OH oxidative system with saturated air>e-aqreactive system with saturated nitrogen and isopropyl alcohol.Hydroxyl radical attacked azo linkage and aromatic ring of PR MX-5B leading to the fracture of benzene ring formed a series of byproducts aniline and small molecules organic acid.Electron beam irradiation is an effective and promising method in waste water treated.
electron beam irradiation;azo dye;Procion Red MX-5B;advanced oxidation process
U416.211
A
1007-2861(2015)06-0694-07
10.3969/j.issn.1007-2861.2014.05.002
2014-04-16
國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(11025526,41273126,11175112);上海市科委科技專項(xiàng)基金資助項(xiàng)目(13230500600);長(zhǎng)江學(xué)者和創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)發(fā)展計(jì)劃資助項(xiàng)目(IRT13078)
徐剛(1972—),男,副研究員,博士,研究方向?yàn)榄h(huán)境中有機(jī)污染物的輻照降解與分析.E-mail:xugang@shu.edu.cn