周燕　丘云靈　金國(guó)庭

摘 要：拋釉磚色彩豐富、色澤明亮，比拋光磚裝飾效果更豐富、比仿古磚光澤更多變、比瓷片更耐污，由于適用于多種裝飾場(chǎng)合而越來(lái)越深受消費(fèi)者的喜愛(ài)。但因其透明釉與坯體存在膨脹系數(shù)差異、熔融溫度差異，以及使用彈性軟質(zhì)模塊進(jìn)行拋磨等原因，所以容易在其表面產(chǎn)生波浪紋等缺陷。本文簡(jiǎn)單分析了影響拋釉磚表面不平整的因素以及解決產(chǎn)品缺陷的原因，希望能給同行提供一些幫助。

關(guān)鍵詞：拋釉磚；不平整；缺陷；原因

1 前言

拋釉磚也叫全拋釉磚，是近年來(lái)新興的一種建筑陶瓷產(chǎn)品，其集合了拋光磚、仿古磚、瓷片三種產(chǎn)品的優(yōu)勢(shì)，是在磚坯表面裝飾印花后，施以透明釉燒制拋光而成的，因表層透明釉的折射效果，其產(chǎn)品兼具釉面磚啞色暗光的含蓄性，并有拋光磚的光澤度、瓷質(zhì)磚的硬度，解決了半拋磚易藏污的缺陷。同時(shí)也擁有仿古磚的釉面高仿天然紋理效果，以及瓷片釉面豐富的印花裝飾效果。隨著裝飾手段的多樣化和工藝技術(shù)的不斷進(jìn)步，其市場(chǎng)份額占有率也逐步提高。但目前生產(chǎn)工藝中因拋釉磚產(chǎn)品表面透明釉層硬度不及拋光磚，因而在拋光工序中不能采用同拋光磚完全相同的硬質(zhì)模塊進(jìn)行拋磨，而只能采用具彈性變形的軟質(zhì)模塊進(jìn)行拋磨，否則會(huì)出現(xiàn)表面劃痕、刮花等問(wèn)題。

2 拋釉磚現(xiàn)有拋光工藝缺陷

由于采用彈性軟質(zhì)模塊進(jìn)行拋光工序生產(chǎn)，在整個(gè)拋光過(guò)程中的拋削量非常小，如表面透明釉層不平則會(huì)出現(xiàn)拋磨后的水波紋、表面波浪形等缺陷。瓷磚表面不平整，在整體鋪貼使用時(shí)，會(huì)影響裝飾美觀性和整體感。而瓷磚存在波浪形在凸出與凹陷部位會(huì)產(chǎn)生不同的光線折射，進(jìn)而使得花紋立體感減弱，不夠統(tǒng)一和諧。

另外，產(chǎn)品在燒制過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生輥棒印，進(jìn)而影響到磚的平整度，最終使得拋磨時(shí)產(chǎn)生點(diǎn)接觸、線接觸而非面接觸，從而導(dǎo)致軟拋后釉表面凹凸不平。

3 影響拋釉磚不平整的因素及解決方法

3.1 影響拋釉磚超平化工藝的主要因素

影響拋釉磚超平化工藝的主要因素如表1所示。

3.1.1壓機(jī)工序調(diào)整

由于水波紋的凹坑在方格紋的經(jīng)上，采用經(jīng)緯紋底模后可減少水波紋的深度從而減少因輥棒印所引起的表面拋磨后不平現(xiàn)象。另外，由于方格紋的筋致密度低，導(dǎo)致凹坑，為了減少筋與格子致密度差的問(wèn)題，可將壓機(jī)壓力稍微降低，從而改善表面平整度。

3.1.2釉線工序調(diào)整

在拋釉量較少的情況下，當(dāng)透明釉配方為偏高溫時(shí)，會(huì)在釉層內(nèi)產(chǎn)生較多毛孔，因而無(wú)法生產(chǎn)深色產(chǎn)品?？梢圆扇「鼡Q低溫透明釉，并采取增加拋釉量的方法加大拋光壓力，減少毛孔與水波紋，增加磚面平整度。

3.1.3釉線工序調(diào)整

當(dāng)窯爐前溫排煙管粗、抽熱量大、前溫高、正壓小時(shí)，磚氧化效果好，側(cè)邊針孔少，進(jìn)而磚面平整度高，拋光后不易產(chǎn)生波浪紋。另一方面，可以優(yōu)化燒成窯爐燒成曲線，提高窯爐前溫，拉長(zhǎng)窯爐氧化時(shí)間，降低最高溫度，從而減少輥棒印，以提高磚面平整度。

3.1.4拋光工序調(diào)整

更換粗拋硬質(zhì)磨塊，加大磨盤(pán)壓力，可解決水波紋問(wèn)題。但同時(shí)需要增加施釉量，避免出現(xiàn)過(guò)拋現(xiàn)象。由于淋釉量較厚，透明釉需經(jīng)過(guò)兩次淋釉而成，并且兩次淋釉過(guò)程中有干燥步驟，因而透明釉層能夠完全干燥，在燒制過(guò)程中不會(huì)發(fā)生裂痕，燒制后經(jīng)非彈性模塊拋磨后能夠保證拋釉磚的表面平整度，不會(huì)產(chǎn)生波浪紋。

3.1.5透明釉配方改進(jìn)

在高溫?zé)蓵r(shí)，坯釉中的有機(jī)物氧化會(huì)釋放出氣體，如果在釉熔化之前氣體沒(méi)有排除干凈，釉面就會(huì)產(chǎn)生許多毛孔；如果釉熔化后，表面張力過(guò)大，也會(huì)導(dǎo)致釉面產(chǎn)生水波紋或橘皮狀，影響美觀。因而調(diào)節(jié)釉料配方使之與坯體膨脹系數(shù)相適應(yīng)，并通過(guò)改善透明釉層的性能，從而對(duì)提高瓷磚表面平整度是非常必要的。如在透明釉配方中加入微晶細(xì)粉，或者降低配方中熔劑的含量并提高氧化鋁的含量，可以調(diào)節(jié)釉的始熔溫度，便于氣體完全排除。

3.1.6增加保護(hù)釉層

增加一層始熔點(diǎn)比透明釉始熔點(diǎn)低的保護(hù)釉后，保護(hù)釉在燒制過(guò)程中先熔融，產(chǎn)生玻璃相壓制住磚坯燒成過(guò)程中分解產(chǎn)生的氣體，使得透明釉層無(wú)法形成針孔及小氣泡等缺陷，進(jìn)而提高釉面的平整度。

另外就是增加一層高溫黏度大的保護(hù)釉，由于高溫下黏度大，因而可以阻止底層氣體排出，從而解決釉面針孔凹釉等缺陷，并在淋保護(hù)釉后通過(guò)素?zé)沟么u坯釉面更好地吸收釉料和減少釉層氣泡。在素?zé)倪^(guò)程中水分有機(jī)物揮發(fā)，結(jié)合保護(hù)釉在燒制過(guò)程中對(duì)底層氣體的壓制作用，避免坯體氣體蒸發(fā)形成氣孔，并降低坯體水分，也可防止在燒成過(guò)程中產(chǎn)生裂紋甚至炸坯。另外，淋透明釉過(guò)程中磚面對(duì)釉的吸收更充分，也能減少釉層凹釉，從而解決系列生產(chǎn)工藝穩(wěn)定性問(wèn)題，并且保證釉面的平整，燒制后的產(chǎn)品由于印花層上的保護(hù)釉層與透明釉層厚度較厚和平整，因而可以采用非彈性模塊進(jìn)行拋磨，從而保證其表面的超平和鏡面效果。

4 結(jié)論

拋釉磚在生產(chǎn)過(guò)程中影響其表面平整度的因素有很多，我們應(yīng)結(jié)合實(shí)際情況，從細(xì)節(jié)出發(fā)，全面分析，找出對(duì)應(yīng)的原因，從而徹底解決拋釉磚表面平整度的問(wèn)題，減少產(chǎn)品的缺陷，提高產(chǎn)品的優(yōu)等率，使陶瓷企業(yè)生產(chǎn)效益最大化。