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        Ag厚度對(duì)其反射率的影響

        2015-05-30 10:48:04余健賴萌華張保平
        科技創(chuàng)新與應(yīng)用 2015年16期
        關(guān)鍵詞:反射率

        余健 賴萌華 張保平

        摘 要:采用射頻磁控濺射方法在石英片上生長(zhǎng)不同厚度Ag薄膜,測(cè)試了Ag膜反射率變化隨厚度的變化關(guān)系,利用AFM和SEM分別研究Ag膜厚度對(duì)其表面粗糙度和形貌的影響。結(jié)果表明:Ag厚度在130nm以下時(shí),隨著厚度的增加,透射率急劇下降,其反射率逐漸增加;當(dāng)厚度超過130nm時(shí),透射率不再變化,由于表面RMS的增加使得散射損耗增大,使得其反射率隨著厚度增加而減小。

        關(guān)鍵詞:反射率;Ag;SEM;AFM

        引言

        在金屬中,由于金屬內(nèi)有自由電子,自由電子并沒有被原子核束縛,當(dāng)光傳播至金屬表面時(shí),在其電場(chǎng)作用下自由電子會(huì)做受迫振動(dòng),然后產(chǎn)生與入射光相同頻率的振蕩,此振蕩又放出與原來光線相同頻率的光,這就是金屬膜反射的原理。金屬薄膜作為反射鏡應(yīng)用越來廣泛[1-3]。一些小組也理論研究了金屬厚度對(duì)其反射率的影響。深圳大學(xué)的范平等運(yùn)用玻耳茲曼方程研究金屬薄膜中的電子輸運(yùn), 考慮了來自表面和晶粒間界的散射,得出電導(dǎo)率隨金屬薄膜厚度的變化[4]。上海交大的林育瓊在此基礎(chǔ)上提出了電子平均自由程模型,修正了電導(dǎo)率隨厚度變化公式[5]。當(dāng)金屬薄膜厚度小于薄膜中自由電子平均自由程時(shí),其平均自由程隨著膜厚的增大而增大,此時(shí)薄膜越厚,反射率越高;當(dāng)膜厚大于或者等于塊狀材料中的電子平均自由程時(shí),薄膜中的電子平均自由程與塊狀材料相同,此時(shí)薄膜已相當(dāng)于塊狀材料,隨著膜厚的變化,其反射率基本保持不變。Ag在可見光范圍內(nèi)是最好的反射金屬膜。然而,實(shí)驗(yàn)測(cè)量發(fā)現(xiàn),Ag的反射率并不是保持不變的。以前的研究沒有考慮Ag表面粗糙度的對(duì)反射率的影響,使得實(shí)驗(yàn)結(jié)果與理論計(jì)算不相符。文章根據(jù)Ag厚度對(duì)其表面粗糙度的影響,結(jié)合已有理論體系,進(jìn)而得到一個(gè)Ag厚度對(duì)其反射率影響的修正公式。

        1 實(shí)驗(yàn)

        我們利用磁控濺射設(shè)備以44nm/min的速率在石英片上長(zhǎng)60,120,160,200,240,1200nm六種不同厚度的Ag,然后用Cary5000紫外-可見-近紅外光度計(jì)測(cè)量其反射率變化。為了分析Ag反射率隨厚度變化規(guī)律,利用AFM和SEM分別觀察Ag表面粗糙度和形貌。

        2 結(jié)果與分析

        2.1 Ag厚度對(duì)反射率的影響

        利用Cary5000紫外-可見-近紅外光度計(jì)測(cè)量不同厚度Ag膜反射率的變化情況。測(cè)量結(jié)果如圖1所示,當(dāng)Ag厚度在130nm以下時(shí),隨著Ag的厚度增加,Ag的反射率也急劇增加。然而當(dāng)Ag的厚度超過130nm時(shí),隨著Ag的厚度繼續(xù)增加,其反射率并不是不變,而是減小了。

        2.2 Ag厚度對(duì)其透射率的影響

        我們知道影響Ag的反射率主要有兩個(gè)因素:第一是透射的影響,第二是散射的影響。為了進(jìn)一步分析厚度影響Ag反射率的機(jī)制,我們利用Cary5000紫外-可見-近紅外光度計(jì)測(cè)量厚度為60nm和120nm的Ag在400~600nm波段的透射率。實(shí)驗(yàn)結(jié)果如圖2所示,我們發(fā)現(xiàn)60nm厚的Ag在400nm處的透射率高達(dá)6%,而120nm厚Ag的透射率幾乎為零。這也就解釋了,當(dāng)Ag厚度低于130nm時(shí),Ag反射率隨厚度增加而增加的原因,這是透射率下降導(dǎo)致的。然而,當(dāng)Ag厚度超過120nm時(shí),透射就不再是影響反射率的因素了。

        2.3 Ag厚度對(duì)其表面形貌的影響

        我們利用掃描電子顯微鏡(SEM)觀察厚度為60nm、130nm,240nm厚Ag的表面形貌(5萬倍)。如圖3所示,(a)(b)(c)分別是厚度為60、130、240nm Ag的表面形貌,我們發(fā)現(xiàn)隨著Ag厚度的增加,Ag表面顆粒大小逐漸增大。這也表面厚度的增加使得Ag膜的表面粗糙度增加。

        為了進(jìn)一步定量分析表面粗糙度對(duì)Ag反射率的影響,我們利用原子力顯微鏡(AFM)測(cè)量不同厚度Ag的RMS(粗糙度)。如圖4所示,隨著Ag厚度的增加,Ag的RMS也逐漸增加。然而粗糙度的增加將直接導(dǎo)致散射增加。當(dāng)Ag的厚度達(dá)到800nm時(shí),它的表面粗糙度可達(dá)12nm。根據(jù)Karl H. Guenther的理論[6],散射對(duì)反射率的損失與粗糙度存在式(1)關(guān)系:

        其中?啄是表面粗糙度,?姿是入射光波長(zhǎng)。

        根據(jù)式(1)計(jì)算,如圖5所示,隨著表面粗糙度的增加,散射損耗也會(huì)隨之增加。當(dāng)表面粗糙度為6nm時(shí),散射損耗會(huì)超過2%。這充分說明Ag層的表面粗糙度的增加將導(dǎo)致其對(duì)入射光的散射增加,而這也使得其反射率減小。

        2.4 修正公式

        我們根據(jù)AFM測(cè)量曲線擬合出Ag表面粗糙度隨厚度的變化關(guān)系:

        δ=-0.00001d2+0.023d+1.632 (2)

        將式(2)代入式(1)就可計(jì)算出Ag厚度變化對(duì)其散射損耗的影響。在文章中我們考慮表面散射的因素對(duì)Ag反射率的影響,提出了一個(gè)修正反射率隨厚度變化公式:

        R實(shí)際=R理論(1-?濁) (3)

        根據(jù)式(3)計(jì)算出Ag實(shí)際的反射率隨其厚度的變化關(guān)系,如圖6所示,我們發(fā)現(xiàn)考慮了表面散射造成的影響,Ag的反射率計(jì)算結(jié)果和實(shí)驗(yàn)測(cè)量的結(jié)果基本吻合。因此,經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn)當(dāng)Ag的厚度為130nm時(shí),其反射率達(dá)到最高。

        3 結(jié)束語

        為了研究Ag膜厚度對(duì)其反射率的影響,我們利用磁控濺射設(shè)備在石英片上生長(zhǎng)了不同厚度Ag膜樣品,測(cè)量了樣品反射率、透射率、AFM、SEM。結(jié)果表明Ag的厚度高于130nm時(shí),其表面粗糙度的增加將使得其反射率下降。提出的修正公式彌補(bǔ)了Ag厚度超過130nm時(shí)與實(shí)驗(yàn)結(jié)果不相符的缺憾。

        參考文獻(xiàn)

        [1]Kyu Sang Kim.Myoung Gyun Suh. and S. N. Cho, Nanometer sized Ni-dot/Ag/Pt structure for high reflectance of p-type contact metal in InGaN light emitting diodes,APPLIED PHYSICS LETTERS 100, 061113 (2012).

        [2]I-Chen Chen a,Bo-Yuan Cheng a, Wen-Cheng Ke b, Cheng-Huang Kuo c,Li-Chuan Chang, Improved light reflectance and thermal stability of Ag-based ohmic contacts on p-type GaN with LaAdditive 57 (2013):51-57.

        [3]Si. Y. Bae, J. P. Shim, D. S. Lee, S. R. Jeon, G. Namkoong, "Improved Photovoltaic Effects of a Vertical-Type InGaN/GaN Multiple Quantum Well Solar Cell Japanese ,"Jpn.J. Appl. Phys. 50(9R),092301(2011).

        [4]范平,伍瑞鋒,賴國燕.連續(xù)金屬薄膜的電阻率研究[J].真空科學(xué)與技術(shù),1999.

        [5]林育瓊,馮仕猛,王坤霞,等.金屬薄膜厚度小于電子自由程對(duì)其光反射率的影響[J].光子學(xué)報(bào),2011.

        [6]Karl H. Guenther, Peter G. Wierer, and Jean M. Bennett, Surface roughness measurements of low-scatter mirrors and roughness standards, APPLIED OPTIC,1984,21(23):3820-3826.

        作者簡(jiǎn)介:余?。?988-),男,漢,江西南昌,廈門大學(xué)物理系。

        賴萌華(1991-),女,漢,福建龍巖,廈門大學(xué)電子工程系。

        *通訊作者:張保平(1963-),男,漢,河北石家莊,教授,廈門大學(xué)電子工程系,研究方向:寬禁帶半導(dǎo)體材料與光電子器件,微納米結(jié)構(gòu)制造及應(yīng)用。

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