【摘 要】在三氯氫硅中,磷、硼雜質(zhì)的存在,不僅影響三氯氫硅材料質(zhì)量,也降低三氯氫硅產(chǎn)能。優(yōu)化三氯氫硅提純工藝,去除對(duì)磷、硼雜質(zhì),不僅可以降低能耗,也可以更好的控制三氯氫硅質(zhì)量,提高產(chǎn)能。以下本篇淺析在三氯氫硅提純中如何去除磷硼雜質(zhì)。
【關(guān)鍵詞】提純;三氯氫硅;除硼;除磷
在實(shí)際中,要得到三氯氫硅,需要先用硅粉制備粗三氯氫硅,然后對(duì)三氯氫硅提純,去除三氯氫硅中的硼、磷等雜質(zhì),提升三氯氫硅品質(zhì)。以下對(duì)比做具體分析。
1.三氯氫硅的合成
三氯氫硅的制法主要有硅粉在280-320℃條件下與氯化氫反應(yīng)制備,也可通過(guò)四氯化硅在500℃條件下加氫氫化制備。
2.三氯氫硅提純工藝
三氯氫硅中,由于磷硼雜質(zhì)會(huì)參合成反應(yīng),降低三氯氫硅純度,實(shí)現(xiàn)三氯氫硅提純,則可以有效去除磷硼雜質(zhì)[1]。粗硅中含有硼、磷等雜質(zhì),且雜質(zhì)多以硅化構(gòu)成硅酸鹽,在三氯氫硅提純中,由于其存在磷、硼等雜質(zhì),可以采用物理精餾提純法,對(duì)三氯氫硅進(jìn)行精餾,可以根據(jù)同一工況下各種物質(zhì)沸點(diǎn)差異精餾分離三氯氫硅中的各項(xiàng)雜質(zhì),提高三氯氫硅純度。三氯氫硅提純中,應(yīng)用精餾法提純方法,工藝簡(jiǎn)單、操作方便,多用于除磷雜質(zhì)[2]。由于,三氯氫硅中,除硼效果會(huì)受到一定限制,故此在實(shí)際中三氯氫硅提純方面,可以采用絡(luò)合物法除硼。
3.去除三氯氫硅磷、硼雜質(zhì)的提純操作
3.1除磷雜質(zhì)提純
在三氯氫硅除磷雜質(zhì)中,應(yīng)用精餾提純方法,設(shè)計(jì)精餾塔,如下圖所示:
采用鐘罩式的蒸餾設(shè)備,其主要有爐筒(鐘罩)、電極、底盤(pán)、窺視孔以及進(jìn)出氣管等部分組成,觀察爐內(nèi)各種情況,提供爐內(nèi)反應(yīng)所需的溫度,使電極與載體用石墨夾頭進(jìn)行連接;并設(shè)置列管式換熱器,將還原尾氣溫度降低至100℃,輸送到還原尾氣回收工序中。
對(duì)于三氯氫硅提純中,每段可設(shè)兩到三級(jí)塔或多級(jí)塔,以提高三氯氫硅的純度。塔的材質(zhì)可以是不銹鋼,不銹鋼襯四氟,碳鋼襯四氟,四氟塑料塔等。三氯氫硅提純中,蒸餾塔的直徑有350,600等。塔的高度有24m,32m等。在精餾塔內(nèi)使欲分離液體冷凝和氣化多次反復(fù)地進(jìn)行。使沸點(diǎn)高低不同的組分分離(低于31.5oC時(shí)所有氣體取出稱為高沸點(diǎn)物,加熱大于31.5oC排出所有液體稱為低沸點(diǎn)物)。三氯氫硅提純除去雜質(zhì)中,由于金屬與非金屬雜質(zhì)的氯化物沸點(diǎn)相差很大,應(yīng)用精餾提純方法,就可以將磷雜質(zhì)去除。
3.2除硼雜質(zhì)提純
三氯氫硅提純中,對(duì)于除去硼雜質(zhì)中,可以應(yīng)用絡(luò)合物法除硼,效果較好,可以加入乙腈CH3CN等絡(luò)合劑與三氯化硼形成絡(luò)合物,而可以除去硼雜質(zhì)[3]。三氯氫硅提純中,在溫度過(guò)高知識(shí),就會(huì)增強(qiáng)沉積硅中的化學(xué)活性,從而會(huì)直接影響磷硼雜質(zhì),其化合物隨溫度增高,還原量也增大,從而進(jìn)入硅中。三氯氫硅提純中,除硼雜質(zhì),要在開(kāi)爐前,可以往爐內(nèi)通入純氮?dú)?,置換出爐內(nèi)空氣,進(jìn)行高壓?jiǎn)?dòng)或硅芯預(yù)熱啟動(dòng),確定蒸發(fā)器的溫度、壓力、液位達(dá)到要求后,可將混合氣體按照所需的流量通入還原爐中,則可以確保立即開(kāi)始進(jìn)行還原反應(yīng)。同時(shí),在三氯氫硅提純中,硅和其他的半導(dǎo)體材料相似,在其提純過(guò)程中,從氣相往固態(tài)載體沉積之時(shí),都會(huì)表現(xiàn)出一個(gè)最高的溫度值,若是除雜反應(yīng)的溫度超過(guò)了這個(gè)值之時(shí),溫度不斷升高,則雜質(zhì)沉積速率會(huì)下降。除去雜質(zhì)中,溫度過(guò)高,還會(huì)發(fā)生硅的腐蝕反應(yīng):
除硼雜質(zhì)中,應(yīng)用絡(luò)合物法除硼,對(duì)于各種不同硅鹵化物,其也有著不同最高溫度的值,在反應(yīng)中要確保反應(yīng)溫度不可以超過(guò)這個(gè)值。三氯氫硅提純中可以將蒸餾塔中的SiHCl3 料,按照絡(luò)合物法除硼工藝要求,將其經(jīng)管道連續(xù)的加入到CH3CN絡(luò)合劑進(jìn)料罐。在完成混合過(guò)程以后,混合物料經(jīng)過(guò)螺旋管換熱器(李比希管)的熱量以后,可以使其進(jìn)入到還原爐。三氯氫硅提純中,對(duì)于絡(luò)合物法反應(yīng)氣體,則會(huì)沿著管路進(jìn)到反應(yīng)爐中,之后在進(jìn)料罐中,通過(guò)氫氣加壓的方式將CH3 CN輸送到氣體控制臺(tái)中,有效去除硼雜質(zhì)。絡(luò)合物法除硼,除去雜質(zhì),在除雜尾氣回收之中,對(duì)于那些被冷凝、冷凝以及分離下來(lái)的雜質(zhì),則可以將其送到分離提純系統(tǒng)之中,再次進(jìn)行分離提純,去除硼雜質(zhì),提高三氯氫硅純度。
4.結(jié)論
綜上所述,對(duì)于三氯氫硅提純中,可以總結(jié)分析去除磷、硼雜質(zhì)的工藝方法,提高三氯氫硅純度,有效去除三氯氫硅中的磷硼雜質(zhì)。
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