宋 游,鄭維明,劉桂嬌,陳 晨
(中國(guó)原子能科學(xué)研究院 放射化學(xué)研究所,北京 102413)
國(guó)際上普遍采用Purex工藝進(jìn)行乏燃料后處理,為保證后處理工藝安全、可靠、穩(wěn)定運(yùn)行,必須及時(shí)獲取工藝溶液的成分?jǐn)?shù)據(jù)。其中U、Pu等元素濃度的分析任務(wù)最為重要,分析頻次最高。LⅢ吸收邊分析技術(shù)是X射線吸收法的一種,相比于X射線熒光法,該方法方便、簡(jiǎn)單、基體效應(yīng)小,而且準(zhǔn)確度好、精密度高,因此在后處理工藝中廣泛應(yīng)用[1]。美國(guó)巴維爾廠和薩凡那河廠[2-8]的經(jīng)驗(yàn)表明,LⅢ吸收邊分析技術(shù)是后處理中一種重要的常量U、Pu控制分析技術(shù)。2005年,混合K邊界儀器創(chuàng)始人Ottmar等研發(fā)了小型化LⅢ吸收邊密度計(jì)LCOMPUCEA2nd [9]。
中國(guó)原子能科學(xué)研究院于2009年開始在后處理重大專項(xiàng)的支持下開展了LⅢ吸收邊密度計(jì)的研制工作,經(jīng)過原理樣機(jī)[10]、科研樣機(jī)[11]、實(shí)用儀器的研制等階段,目前基本完成了LⅢ吸收邊密度計(jì)的研制。本工作在此基礎(chǔ)上對(duì)鈾濃度的分析方法進(jìn)行研究,以大幅提升后處理工藝中常量鈾、钚的分析能力。
X射線吸收法的基本原理是使一束準(zhǔn)直的X射線透過固定厚度的樣品,測(cè)量該元素吸收邊所在能量?jī)蓚?cè)的X射線強(qiáng)度,通過透過率得到樣品中的元素濃度。X射線吸收法的基本原理[12]如圖1所示。
圖1 X射線吸收法的原理
一般情況下,只有K和LⅢ吸收限具有足夠大的躍變比(μ/ρ)S/(μ/ρ)L(其中,μ為線性吸收系數(shù),ρ為吸收體密度,μ/ρ為質(zhì)量吸收系數(shù))時(shí)才可使用這一方法。LⅢ吸收邊法是測(cè)量L系譜線吸收限所在能量?jī)蓚?cè)的X射線強(qiáng)度,通過透過率得到樣品中元素的濃度。一束完全準(zhǔn)直的、強(qiáng)度為I0的單色X射線,照射到一個(gè)厚度為t、密度為ρ的均勻吸收體上,其透射強(qiáng)度為:
I=I0exp(-(cA(μ/ρ)A+(1-cA)(μ/ρ)M)t)
(1)
其中:I為透射強(qiáng)度;c為濃度;下標(biāo)A和M分別代表分析元素和基體;1-cA為基體濃度。
λS和λL分別表示分析元素吸收邊前后的短波和長(zhǎng)波。據(jù)式(1)可得到吸收邊前后波長(zhǎng)λS和λL的透射強(qiáng)度表達(dá)式,將λS透射強(qiáng)度表達(dá)式除以λL透射強(qiáng)度表達(dá)式,并令:Δ(μ/ρ)=(μ/ρ)S-(μ/ρ)L,可得:
IS/IL=(IS/IL)0exp(-(cAΔ(μ/ρ)A+
(1-cA)(μ/ρ)M)t)
(2)
若在吸收邊兩側(cè)的幾種波長(zhǎng)處進(jìn)行測(cè)量,然后外推到吸收邊,則此時(shí)Δ(μ/ρ)M≈0。對(duì)于給定的1組測(cè)量,吸收邊兩側(cè)兩波長(zhǎng)的入射強(qiáng)度和(IS/IL)0均為常數(shù),因此有:
IS/IL=Kexp(-cAΔ(μ/ρ)At)
(3)
對(duì)式(3)兩邊取對(duì)數(shù)得:
cA=ln(KIL/IS)/Δ(μ/ρ)At
(4)
由式(4)可看出,只要測(cè)量分析元素吸收邊兩側(cè)幾種波長(zhǎng)的透射強(qiáng)度,即可求得分析元素的濃度。所以吸收邊兩側(cè)的幾種波長(zhǎng)擬合區(qū)間的選取對(duì)測(cè)量的精密度影響較大。
HNO3:分析純,北京化學(xué)試劑公司;U3O8標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì):GBW04205,鈾的標(biāo)準(zhǔn)值為84.711%±0.021%(質(zhì)量分?jǐn)?shù)),北京化工冶金研究院。
用電子天平準(zhǔn)確稱取23.587 8 g U3O8標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)于50 mL燒杯中,用6.0 mol/L硝酸溶解,在電熱板上加熱至近干后用3.0 mol/L硝酸溶解,并定容至100 mL容量瓶,得到200 g/L的標(biāo)準(zhǔn)溶液,備用。
LⅢ吸收邊分析裝置:自制。由激發(fā)源系統(tǒng)、光路部件和探測(cè)系統(tǒng)以及軟件部分組成。激發(fā)源采用美國(guó)Amptek公司生產(chǎn)的MINI-X銀靶射線管,最大操作電壓50 kV,最大操作電流100 μA。探測(cè)系統(tǒng)采用美國(guó)Amptek公司生產(chǎn)的電制冷SDD探測(cè)器,對(duì)55Fe標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)源的能量分辨率(FWHM)為125~140 eV。譜儀參數(shù)為4 096道,增益為40,成形時(shí)間為1.6 μs。Mettler AJ100電子天平,感量萬分之一,美國(guó)Mettler公司。
用3.0 mol/L硝酸溶液稀釋200 g/L鈾的標(biāo)準(zhǔn)溶液,得到20、40、60、80、100、150、200 g/L系列濃度的鈾標(biāo)準(zhǔn)溶液。取1 mL上述鈾標(biāo)準(zhǔn)溶液進(jìn)行測(cè)量,測(cè)量條件為22 kV、60 μA。
在LⅢ吸收邊定量計(jì)算過程中,吸收邊兩側(cè)的擬合區(qū)間對(duì)測(cè)量精密度有很大影響,以同一樣品的多次測(cè)量結(jié)果的相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差s為考察指標(biāo),則:
s=f(X1,X2,X3,X4)
式中:X1為左擬合區(qū)下界;X2為左擬合區(qū)上界;X3為右擬合區(qū)下界;X4為右擬合區(qū)上界。
采用最優(yōu)化坐標(biāo)輪換法,得到s最優(yōu)點(diǎn)的邊界值。其計(jì)算流程如圖2所示。
圖2 擬合區(qū)間的計(jì)算流程
根據(jù)圖2確定鈾的LⅢ吸收邊擬合區(qū)間:左擬合區(qū)間為1 659~1 856道;右擬合區(qū)間為2 063~2 280道。
理論上,若以鈾LⅢ吸收邊兩側(cè)擬合區(qū)間的X射線透過率比值的對(duì)數(shù)對(duì)鈾濃度作工作曲線,其截距應(yīng)為零,但實(shí)際測(cè)量時(shí)由于各種誤差的存在,截距并不為零。以鈾LⅢ吸收邊外推點(diǎn)的道數(shù)對(duì)鈾工作曲線的截距作圖,結(jié)果示于圖3。從圖3可看出,當(dāng)鈾LⅢ吸收邊為1 995道時(shí),鈾工作曲線的截距最接近于零。
20 g/L鈾濃度時(shí)電壓、電流對(duì)總計(jì)數(shù)率的影響示于圖4。對(duì)于低濃度鈾樣品,測(cè)量電壓、電流太高時(shí),測(cè)得能譜的計(jì)數(shù)過高,會(huì)導(dǎo)致信號(hào)的堵塞而引起總計(jì)數(shù)率的降低。對(duì)于高濃度鈾樣品,由于本身計(jì)數(shù)率低,電壓、電流的增大使總計(jì)數(shù)率也增大。Ag的Kα特征峰能量為21.988 keV,當(dāng)電壓為22 kV時(shí),Ag的特征峰被激發(fā)會(huì)對(duì)測(cè)量元素有一定的影響。綜合考慮,選擇測(cè)量電壓為20 kV,電流為30 μA。
圖3 鈾LⅢ吸收邊外推點(diǎn)的選擇
圖4 20 g/L鈾濃度時(shí)電壓、電流與總計(jì)數(shù)率的關(guān)系
不同濃度的樣品,其LⅢ吸收邊的突躍也不同,其突躍的大小會(huì)影響測(cè)量的精密度,同時(shí)能譜擬合區(qū)間計(jì)數(shù)也會(huì)影響測(cè)量的精密度。增加測(cè)量時(shí)間可提高能譜擬合區(qū)間的計(jì)數(shù),從而提高測(cè)量的精密度,但考慮到后處理工藝樣品的毒性及放射性高的特點(diǎn),希望樣品的測(cè)量時(shí)間越短越好。實(shí)驗(yàn)測(cè)得的不同鈾濃度下測(cè)量時(shí)間與測(cè)量精密度的關(guān)系如圖5所示。
圖5 不同濃度鈾時(shí)測(cè)量時(shí)間與測(cè)量精密度的關(guān)系
從圖5可看出,當(dāng)鈾濃度在60~150 g/L時(shí),測(cè)量300 s即可滿足精密度的要求。當(dāng)鈾濃度在工作曲線范圍兩端時(shí),需相應(yīng)增加測(cè)量時(shí)間至800 s方可滿足精密度的要求。
以鈾LⅢ吸收邊兩側(cè)的擬合區(qū)間X射線透過率比值的對(duì)數(shù)對(duì)鈾濃度作工作曲線,結(jié)果示于圖6。由圖6可看出,ln(IL/IS)與鈾濃度有良好的線性關(guān)系,R2=0.999 9。
圖6 鈾工作曲線
采用LⅢ吸收邊法分別測(cè)量20、100、200 g/L鈾標(biāo)準(zhǔn)溶液的濃度,每個(gè)樣品平行測(cè)量6次,根據(jù)相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差=標(biāo)準(zhǔn)偏差/平均值計(jì)算其相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差(即精密度),結(jié)果列于表1。由表1可見,在工作曲線范圍內(nèi),鈾的測(cè)量精密度優(yōu)于0.5%。
表1 不同濃度鈾的測(cè)量精密度
以3 mol/L硝酸稀釋200 g/L鈾標(biāo)準(zhǔn)溶液,配制成60 g/L鈾溶液,采用LⅢ吸收邊法測(cè)量其鈾濃度,平行測(cè)量3次,計(jì)算其相對(duì)誤差,計(jì)算公式為:相對(duì)誤差=(測(cè)量值-配制值)/配制值×100%,結(jié)果列于表2。由表2可見,60 g/L鈾溶液測(cè)量的相對(duì)誤差為-0.09%,可見該方法的準(zhǔn)確度很好。
表2 60 g/L鈾溶液測(cè)量的準(zhǔn)確度
配制不同基體濃度的鈾溶液進(jìn)行測(cè)量,結(jié)果列于表3。由表3可看出,9 mol/L以下的硝酸、10 g/L以下的Al及10 g/L以下的Fe均對(duì)鈾的測(cè)量無顯著影響。
表3 不同濃度的基體元素對(duì)鈾測(cè)量結(jié)果的影響
配合后處理鈾純化工藝的臺(tái)架實(shí)驗(yàn),進(jìn)行了鈾樣品的測(cè)量。表4列出了部分測(cè)量數(shù)據(jù),可見,精密度均在0.5%以內(nèi)。
表4 臺(tái)架實(shí)驗(yàn)中鈾樣品的測(cè)定結(jié)果
采用自制的LⅢ吸收邊分析裝置,建立了測(cè)定20~200 g/L鈾濃度的分析方法。在鈾的工作曲線范圍內(nèi),該方法的精密度均優(yōu)于0.5%。9 mol/L以下的硝酸、10 g/L以下的Al以及10 g/L以下的Fe對(duì)鈾的測(cè)量無顯著影響。
本方法可用于分析后處理工藝中大量的高濃鈾樣品,具有很好的應(yīng)用前景。
參考文獻(xiàn):
[1] 金立云. X射線光譜分析技術(shù)進(jìn)展及其在后處理廠中的應(yīng)用[R]. 北京:中國(guó)原子能科學(xué)研究院,2009.
[2] RUSSO P A, HSUE S T, LANGNER D G, et al. Nuclear safeguards applications of energy-dispersive absorption-edge densitometry[J]. Nuclear Materials Management, 1981, 9: 730.
[3] CANADA T T, PARKER J L, RUSSO P A. Computer-based in-plant nondestructive assay instrumentation for the measurement of special nuclear materials[C]∥American Nuclear Society Topical Conference on Computers in Activation Analysis in Gamma-ray Spectroscopy. Puerto Rico, USA: [s. n.], 1978: 746.
[4] BROOKS M L, RUSSO P A, SPRINKLE J K, Jr. A compact L-edge densitometer for uranium concentration assay, LA-10306-MS[R]. USA: Los Alamos National Laboratory, 1985.
[5] RUSSO P A, CANADA T T, LANGNER D G, et al. An X-ray LⅢ-edge densitometer for assay of mixed SNM solution[C]∥First Annual Symposium on Safeguards and Nuclear Material Management. Belgium: [s. n.], 1979: 35-240.
[6] MCCGONNAGLE W J, HOLLAND M K, REYNOLDS C S, et al. Evaluation and calibration of a Los Alamos National Laboratory LⅢ-edge densitometer, NBL-307[R]. USA: New Brunswick Laboratory, 1983.
[7] RUSSO P A, MARKS T, Jr, STEPHENS M M, et al. Automated on-line L-edge measurement of SNM concentration for near-real-time accounting, LA-9480-MS[R]. USA: Los Alamos National Laboratory, 1982.
[8] LANGNER D. Computer simulation of the LⅢ-edge densitometer, LA-11073-MS[R]. USA: Los Alamos National Laboratory, 1987.
[9] ABOUSAHL S, ALBERT N, MADOR P, et al. Performance and validation of COMPUCEA 2nd generation for uranium measurements in physical inventory verification[C]∥Safeguards Symosium on Addressing Verification Challenges. Viena: IAEA, 2006.
[10] 陳晨,鄭維明. L邊密度計(jì)的研制[M]∥中國(guó)原子能科學(xué)研究院年報(bào). 北京:原子能出版社,2009.
[11] 陳晨,鄭維明. L邊密度計(jì)原理性裝置改進(jìn)以及科研樣機(jī)的設(shè)計(jì)[M]∥中國(guó)原子能科學(xué)研究院年報(bào). 北京:原子能出版社,2010.
[12] 伯廷E P. X射線熒光分析的原理和應(yīng)用[M]. 李瑞城,譯. 北京:國(guó)防工業(yè)出版社,1983.
[13] 宋游,鄭維明,劉桂嬌,等. L邊密度計(jì)擬合區(qū)域計(jì)算研究[M]∥中國(guó)原子能科學(xué)研究院年報(bào). 北京:中國(guó)原子能出版社,2012.