李 棚,金宗安,劉明明
六安職業(yè)技術(shù)學(xué)院信息工程系,安徽 六安 237100
1987年,E. Yablonovitch 與S. John根據(jù)半導(dǎo)體材料中形成電子能隙的物理機(jī)理,提出了在介電材料周期性排列的光子系統(tǒng)中也會(huì)出現(xiàn)光子能隙[1] [2]。將介電材料在三維空間進(jìn)行周期性排列,固定波段的電磁波會(huì)因?yàn)楦缮娉尸F(xiàn)衰減性傳輸,色散關(guān)系呈現(xiàn)帶狀,此種現(xiàn)象稱為光子晶體帶隙[3] [4]。相對(duì)于三維、二維的復(fù)雜結(jié)構(gòu),兩種介電材料周期性堆疊在一起形成的一維光子晶體,具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,計(jì)算方便,便于制作的優(yōu)勢(shì),受到眾多科研工作者的重視[4] [5]。通過(guò)理論分析發(fā)現(xiàn),一維光子晶體結(jié)構(gòu)滿足一定的條件,能夠?qū)崿F(xiàn)全向反射光子禁帶。
雖然光子與電子之間存在諸多相似之處[6],但是,由于光子之間不存在庫(kù)侖作用,兩者之間的理論分析還有不可忽視的差異?,F(xiàn)階段主要采用平面波展開法[7](PWM),傳輸矩陣法[8] [9](TMM),時(shí)域差分法[10](FDTD)等方法分析一維光子晶體。其中平面波展開法是光子晶體計(jì)算方法中應(yīng)用最早,最為廣泛的一種方法。它綜合使用了薄膜光學(xué)的傳輸矩陣?yán)碚摵凸腆w物理的Bloch定理,解釋了光子帶隙的形成機(jī)理,相對(duì)于其他研究方法,物理意義更清晰、更深刻。本文將利用平面波展開法,計(jì)算一維光子晶體的色散曲線,找出其能隙位置,分析能隙特點(diǎn),判斷全向帶隙的充分必要條件。
(1)
(2)
(3)
設(shè)一維光子晶體由A、B兩種薄膜沿著x方向交替組成。如圖1(a)所示,A、B膜層的表面平行于y-z平面。A、B的折射率分別為nA和nB,厚度分別為dA和dB。光波在xy平面內(nèi)傳播,如圖1(b)所示,從空氣介質(zhì)中入射λ0光波,在第α(α=A,B)種材料中的波長(zhǎng)計(jì)算為λa=λ0/na,波矢的切向分量為β=kay=kasinθα/λ0,由折射定律可知,nasinθa保持不變,故ky是一個(gè)常數(shù)。當(dāng)電磁波以角度θ0入射并在該光子晶體中傳輸時(shí)滿足Bloch定理,電場(chǎng)的數(shù)學(xué)表達(dá)式為
EK(x,y)=EK(x)eiKxeiKy
(4)
圖1 周期性一維光子晶體結(jié)構(gòu)示意圖
考慮光子晶體的一個(gè)晶格常數(shù)中光的相位關(guān)系,如圖1(c),其中入射角為θA,折射角為θB的光在相同y坐標(biāo)的A與B兩點(diǎn)的位相差δ。C點(diǎn)超前于A點(diǎn)的位相為2πdtgθBsinθA/λA,B點(diǎn)滯后于C點(diǎn)的位相為2πd/(λAcosθB),所以A點(diǎn)超前于B的相位
δ=2πd/(λBcosθB)-2πdtgθBsinθA/λA=2πd(1-nAsinθB/nB)2πdcosθB/λB=k2xd
其中k2x表示材料B中波矢的垂直分量,后續(xù)公式中的k1x表示材料A中波矢的垂直分量??紤]分界面上的電磁場(chǎng)的切向分量,An-1表示從A1介質(zhì)入射的電場(chǎng)強(qiáng)度切向分量,Bn-1表示從B1介質(zhì)反射的電場(chǎng)強(qiáng)度切向分量;Cn表示從B1介質(zhì)入射的電場(chǎng)強(qiáng)度切向分量,Dn表示從A2介質(zhì)反射的電場(chǎng)強(qiáng)度切向分量;An從A2介質(zhì)入射波電場(chǎng)強(qiáng)度的切向分量,Bn表示從B2介質(zhì)反射的電場(chǎng)強(qiáng)度切向分量。
E和H切向分量在1界面兩側(cè)連續(xù):
An-1+Bn-1=exp(ik2xdA)CN+exp(-ik2xdB)Dn
k1z(An-1-Bn-1)=k2z[exp(ik2xdB)Cn-exp(-ik2xdB)Dn]
(5)
同比的,在界面2左右兩側(cè)有
Cn+Dn=exp(ik1xdA)An+exp(-ik1xdA)Bn
k1z(Cn-Dn)=k1z[exp(ik1xdA)An-exp(-ik1xdA)Bn]
(6)
由上面四式,可推得
(7)
其中,
(8)
由于一維光子晶體結(jié)構(gòu)滿足周期性結(jié)構(gòu),因此光波在系統(tǒng)中滿足Bloch條件:
(9)
將式(9)與式(7)聯(lián)立求方程可以得到:
(10)
通過(guò)(10)式可以判斷光子晶體帶隙的位置,以及傳輸狀態(tài)。對(duì)于導(dǎo)帶具體細(xì)節(jié)可以在另一篇論文中介紹。因此,滿足(1/2)(A+D)>1條件, Bloch波矢是復(fù)數(shù),Bloch波矢衰減的,這些區(qū)域稱為禁帶或光子帶隙;滿足(1/2)(A+D)<1條件,Bloch波矢是實(shí)數(shù),光允許在系統(tǒng)中傳播,對(duì)應(yīng)的區(qū)域稱為允帶;滿足(1/2)(A+D)=1條件為能帶邊緣,為了獲得光子晶體能帶特性,只需求得能帶邊緣位置就可以了。
對(duì)于TM偏振,將上述計(jì)算流程中將電場(chǎng)換成磁場(chǎng)便可以獲得TM偏振。即將(8)式中的系數(shù)改為如下內(nèi)容,最終的判斷條件不變。
(11)
取一維光子晶體結(jié)構(gòu)參數(shù)一為nA=4.6,nB=1.6,dA=0.33d,dB=0.67d,繪制如圖(2)的光子晶體帶隙結(jié)構(gòu)。取一維光子晶體結(jié)構(gòu)參數(shù)二為nA=2.2nB=1.7,dA=0.33d,dB=0.67d,繪制如圖(3)光子晶體帶隙結(jié)構(gòu),彩色區(qū)域?yàn)楣庾泳w中傳輸態(tài),藍(lán)色區(qū)域?yàn)楣庾泳w的消逝態(tài)。
圖2 高折射率差光子晶體能帶結(jié)構(gòu)圖
圖2(a)為結(jié)構(gòu)參數(shù)一的TE模式能帶圖,圖2(b)為結(jié)構(gòu)參數(shù)一的TM模式能帶圖,通過(guò)兩圖的能帶比較可以發(fā)現(xiàn),在歸一化頻率范圍內(nèi)的光子帶隙數(shù)量相同,擁有5個(gè)帶隙,其中頻率最低的帶隙(第一帶隙)最寬。其中,隨著切向波矢分量的增大(入射角度的增大)TE模擬和TM模式的帶隙都在向高頻方向移動(dòng)。同時(shí),TE模式的帶寬展寬,TM模式的帶寬收縮。
圖3 較低折射率差光子晶體能帶結(jié)構(gòu)圖
圖3(a)為結(jié)構(gòu)參數(shù)二的TE模式能帶圖,圖3(b)為結(jié)構(gòu)參數(shù)二的TM模式能帶圖,通過(guò)兩圖的能帶比較發(fā)現(xiàn),在歸一化頻率范圍內(nèi)的光子帶隙數(shù)量也是相同的,擁有3個(gè)帶隙,其中頻率最低的帶隙(第一帶隙)最寬。隨著切向波矢分量的增大(入射角度的增大)TE模式和TM模式的帶隙都在向高頻方向移動(dòng)。同時(shí),TE模式的帶寬展寬,TM模式的帶寬收縮。相比較圖2與圖3,可以發(fā)現(xiàn),在增大兩種介質(zhì)折射率差值時(shí),會(huì)增加光子帶隙數(shù)量,帶隙中心頻率向低頻方向移動(dòng),同時(shí)增大帶隙寬度。
一維光子晶體的全向反射是指一維光子晶體能夠?qū)拇怪比肷涞铰尤肷淙嵌确秶鷥?nèi)的某頻率范圍的TE模式和TM模式都具有很高的反射率,該頻率范圍為全向反射帶。下面,通過(guò)分析結(jié)構(gòu)參數(shù)一能帶結(jié)構(gòu)中的第一帶隙,介紹一維光子晶體實(shí)現(xiàn)全向反射的充分和必要條件。TE模式的第一帶隙如圖4,TM模式的第一帶隙如圖5。
圖4 TE模式全向反射帶隙條件判定
不同入射角θα的光具有不同的切向波矢分量β=kay=kasinθα/λ0,由圖4可知,紅色線為90°掠入射光線,光線只有在掠入射光線以上區(qū)域方可傳輸?shù)焦庾泳w內(nèi)部。兩根藍(lán)色的線分別為30°入射角和60°入射角線,縱坐標(biāo)為垂直入射光線,即入射角為0°。要實(shí)現(xiàn)TE模的0°到60°的反射,必須是在白色實(shí)線之間的頻率方可。
圖5 TM模式全向反射帶隙條件判定
在眾多的一維光子晶體分析方法中,平面波展開法是在不考慮復(fù)雜情況下,能夠較準(zhǔn)確的分析一維光子晶體帶隙的一種方法。在歸一化頻率范圍內(nèi)能夠出現(xiàn)多個(gè)帶隙,其中,介質(zhì)折射率之差影響帶隙數(shù)量,帶隙寬度,帶隙中心頻率。另外,布儒斯特角的大小直接關(guān)系到全向反射的可能性。對(duì)于光子晶體介質(zhì)參數(shù)對(duì)帶隙的影響,以及入射光線的透射率和反射率以及色散問(wèn)題,將采用傳輸矩陣法進(jìn)行分析,另文研究[11]。
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山東農(nóng)業(yè)大學(xué)學(xué)報(bào)(自然科學(xué)版)2014年1期