黃鑫,張曉燕*,黃丹,吳德鳳
(貴州大學(xué)材料與冶金學(xué)院,貴州 貴陽(yáng) 550025)
鑄造鋁銅合金成為繼鋼鐵材料之后的又一重要工程材料,被廣泛應(yīng)用于各工程領(lǐng)域[1-2]。這與其具有比強(qiáng)度高、密度小、易于加工等優(yōu)點(diǎn)密不可分。但是其硬度較低、耐磨性能及耐腐蝕性能較差等缺點(diǎn),使得其應(yīng)用受到一些限制。因此,必須通過(guò)相應(yīng)的表面處理技術(shù)來(lái)提高鑄造鋁銅合金的應(yīng)用范圍[3]。微弧氧化技術(shù)(MAO)是在金屬表面進(jìn)行陶瓷化改性處理的新技術(shù),已引起了越來(lái)越多的關(guān)注。采用該技術(shù)能夠在金屬表面制得一層結(jié)構(gòu)致密、耐磨損和耐腐蝕的陶瓷層,從而極大地改善鋁銅合金的表面性能[4-9],使其應(yīng)用得以拓寬。
電解液作為微弧氧化重要的影響因素,通過(guò)改變其成分可以直接影響膜層的結(jié)構(gòu)和性能[10-11]。本文研究在Na2SiO3電解液中添加不同濃度的納米TiO2(n-TiO2),調(diào)整電解液組成,探討其對(duì)鑄造鋁銅合金微弧氧化陶瓷層結(jié)構(gòu)與性能的影響。
采用ZL205A鋁合金為基體材料,尺寸為30 mm ×7 mm × 6 mm?;A(chǔ)電解液的組成為:Na2SiO310 g/L,NaOH 2 g/L,Na2WO32 g/L,H2O24 mL/L。采用無(wú)錫拓博達(dá)鈦?zhàn)灾破酚邢薰井a(chǎn)的粒徑為 15 nm的納米TiO2,加入量為1、2、3、4或5 g/L。以上試劑均為市售分析純。
采用自制雙脈沖微弧氧化設(shè)備進(jìn)行實(shí)驗(yàn),電壓600 V,頻率400 Hz,時(shí)間60 min,占空比30%。實(shí)驗(yàn)過(guò)程中,利用循環(huán)水使電解液溫度控制在30 °C左右。
(1) 用 DDS-11A電導(dǎo)率測(cè)試儀(上海大普儀器有限公司)測(cè)定電解液的電導(dǎo)率D,按下式計(jì)算電導(dǎo)率:
式中D表為電導(dǎo)率儀示數(shù),J0為電極常數(shù)(本文取1.043 μS/cm)。采用溫度補(bǔ)償法進(jìn)行電導(dǎo)率測(cè)試,補(bǔ)償溫度為 25 °C。
(2) 用 TT230覆層測(cè)厚儀(北京時(shí)代之峰科技有限公司)測(cè)量膜層平均厚度,每個(gè)試樣測(cè)量5個(gè)點(diǎn)的厚度,取其算術(shù)平均值作為膜層平均厚度。
(3) 用 MHV-1000顯微硬度計(jì)(上海奧龍星迪檢測(cè)設(shè)備有限公司),在每個(gè)試樣上取5個(gè)點(diǎn)測(cè)其顯微硬度,取平均值。
(4) 用 KYKY-2800B掃描電子顯微鏡(SEM,北京中科科儀股份有限公司)觀察膜層表面的微觀形貌。
(5) 用荷蘭帕納科公司(PANalytical)產(chǎn)的 X’Pert PRO X射線衍射儀(XRD)分析膜層物相,用Apollo-10x能譜儀(美國(guó)EDAX公司)進(jìn)行化學(xué)成分分析。
(6) 用 VSP電化學(xué)工作站(Biologic Science Instruments)測(cè)試膜層的耐腐蝕性能。以鉑片為輔助電極,飽和甘汞電極(SCE)為參比電極,微弧氧化試樣為工作電極。腐蝕液為 3.5% NaCl溶液,掃描電位為?1.1~0.1 V,掃描速率為2 mV/s。極化曲線用EC-Lab軟件進(jìn)行分析,用Origin軟件作圖。
(7) 用 MMS-2A型數(shù)控磨損試驗(yàn)機(jī)(濟(jì)南益華摩擦學(xué)測(cè)試技術(shù)有限公司)進(jìn)行耐磨測(cè)試(一次性加油潤(rùn)滑),摩擦副為調(diào)質(zhì)處理35CrMo鋼,其直徑為40 mm,試驗(yàn)力50 N,試驗(yàn)時(shí)間30 min,轉(zhuǎn)速200 r/min。
由于本實(shí)驗(yàn)試樣尺寸較小,所制備出的微弧氧化膜層也相對(duì)較薄,因此用于性能檢測(cè)及微觀組織成分分析的試樣均為直接經(jīng)過(guò)微弧氧化過(guò)的試樣。
圖1為不同含量納米TiO2對(duì)微弧氧化膜層厚度和顯微硬度的影響。由圖 1知,微弧氧化膜層厚度及顯微硬度隨納米 TiO2含量的增加呈先上升后下降的趨勢(shì)。當(dāng)納米TiO2的質(zhì)量濃度為3 g/L時(shí),所得膜層的厚度、顯微硬度較大,分別為69 μm和510 HV。相對(duì)于未加入添加劑的試樣,膜層顯微硬度增加了190 HV,厚度增加了20 μm。對(duì)膜層厚度影響的可能原因是,由于納米級(jí)TiO2顆粒的表面活性較高,在添加納米TiO2之后,納米TiO2顆粒能吸附離子形成帶電膠粒,在電場(chǎng)的作用下聚集到陶瓷膜表層,參與并促進(jìn)微弧氧化的反應(yīng)。但當(dāng)納米TiO2添加劑濃度過(guò)高時(shí),納米TiO2顆粒過(guò)度沉積到膜層的表面,覆蓋了放電反應(yīng)通道,阻礙了后續(xù)放電,不利于反應(yīng)的進(jìn)行,從而使膜層厚度反而有所下降[13]。對(duì)膜層顯微硬度的影響可能是由于納米TiO2添加劑顆粒參與并促進(jìn)微弧氧化反應(yīng)的進(jìn)行,進(jìn)而使膜層中 α-Al2O3含量增多,α-Al2O3的顯微硬度較大,僅次于金剛石,因此,膜層的顯微硬度得到提高。當(dāng)納米TiO2添加劑含量為3 g/L時(shí),膜層的顯微硬度較高,之后納米TiO2濃度繼續(xù)增大,溶液的電導(dǎo)率過(guò)大使得生成的膜層疏松、多孔,顯微硬度反而降低。
圖1 納米TiO2含量對(duì)微弧氧化膜層厚度和顯微硬度的影響Figure 1 Effect of nano-TiO2 content on thickness and microhardness of micro-arc oxidation coating
圖 2a、2b、2c、2d、2e和 2f分別為納米 TiO2含量為0、1、2、3、4和5 g/L時(shí)得到的微弧氧化膜層的SEM照片。對(duì)比圖2各圖可知,隨著納米TiO2添加劑含量的增加,膜層表面的噴射狀堆積物增多,反應(yīng)加劇,表面膜層的微裂紋減少,孔隙率減小。可見(jiàn),膜層質(zhì)量隨著納米TiO2含量的增加而有所改善。這是因?yàn)槲⒒⊙趸^(guò)程所產(chǎn)生的局部高溫瞬間熔融了部分的納米TiO2,由于電解液有冷卻作用,熔融的納米TiO2與電解液接觸后迅速凝固,覆于陶瓷層表面,從而顯著減少了膜層的缺陷[15]。此外,由于納米TiO2添加劑顆粒的表面活性較高,能吸附離子形成帶電膠粒,在電場(chǎng)的作用下聚集到陶瓷膜表層,參與并促進(jìn)陶瓷膜層的反應(yīng),使得膜層的氧化物增多,致密度提高。部分納米TiO2與基體發(fā)生反應(yīng)可能生成AlTi相(下文得以驗(yàn)證),從而填充膜層表面的微裂紋,使致密度提高。對(duì)比發(fā)現(xiàn),當(dāng)納米TiO2質(zhì)量濃度達(dá)到3 g/L時(shí),生成的陶瓷膜層具有較少的缺陷,故其性能也較好。
圖2 不同用量納米TiO2微弧氧化膜的微觀形貌照片F(xiàn)igure 2 Micro-morphology images of micro-arc oxidation coatings obtained with different contents of nano-TiO2
圖3a和3b分別為納米TiO2為3 g/L時(shí)得到的微弧氧化膜的微觀形貌及其表面Ti元素的分布情況。從圖中可以看出,Ti元素在膜層中的分布比較均勻。
圖3 納米TiO2含量為3 g/L時(shí)微弧氧化膜的SEM照片及Ti元素分布圖Figure 3 SEM image and Ti distribution on surface of micro-arc oxidation coating obtained with 3 g/L nano-TiO2
表1為用EDS能譜儀進(jìn)行面掃描和點(diǎn)掃描得到的微弧氧化陶瓷膜層表面的元素組成。由表 1可知,膜層表面主要由Al、O、Si、Ti、Cu和Na組成。這說(shuō)明加入電解液中的納米TiO2參與了微弧氧化反應(yīng),并進(jìn)入到陶瓷層中,且主要分布在孔道積聚的顆粒物內(nèi)。在微弧氧化反應(yīng)過(guò)程中,納米TiO2顆粒通過(guò)這些放電通道,在等離子體微弧區(qū)域內(nèi)進(jìn)行高溫?zé)Y(jié),與微弧氧化表面形成的Al2O3一起生成陶瓷涂層。
表1 膜層能譜分析結(jié)果Table 1 EDS analysis result of the coating
圖4為納米TiO2添加量為0 g/L和3 g/L時(shí)得到的微弧氧化膜層的XRD譜。由圖可知,未加入納米TiO2時(shí),膜層主要由鋁基體、α-Al2O3、γ-Al2O3和Al2Cu相組成;加入納米 TiO2后,膜層的主要相組成為 Al、α-Al2O3、γ-Al2O3和 AlTi。加入添加劑后,膜層中α-Al2O3相峰值明顯升高,γ-Al2O3相峰值有所降低,而對(duì)應(yīng)的鋁基體峰值降低幅度較大,說(shuō)明電解液中添加納米TiO2后促進(jìn)膜層中α-Al2O3的生成,使得α-Al2O3含量增加,即納米TiO2添加劑能促進(jìn)微弧氧化反應(yīng),使基體表面生成氧化物陶瓷層。此外膜層中還檢測(cè)到AlTi相,而沒(méi)有檢測(cè)到Al2Cu相,說(shuō)明納米TiO2顆粒參與微弧氧化電化學(xué)反應(yīng)。α-Al2O3是優(yōu)質(zhì)的陶瓷材料,其晶相穩(wěn)定、耐熱性強(qiáng)、成型性好、硬度高(僅次于金剛石)[14],γ-Al2O3耐壓性好、比表面積大、具有較強(qiáng)的吸附能力和催化活性,這兩相的存在改善了微弧氧化膜層的表面性能[12]。
圖4 不同含量納米TiO2微弧氧化膜層的XRD譜Figure 4 XRD patterns for micro-arc oxidation coatings obtained with different contents of nano-TiO2
圖5為納米TiO2添加量為0 g/L和3 g/L時(shí)微弧氧化膜層的極化曲線。從圖可知,加入納米TiO2使膜層自腐蝕電流減小,自腐蝕電位向正方向移動(dòng),且移動(dòng)幅度較大,這表明膜層的耐蝕性能有明顯改善。
表1列出了2種不同試樣的腐蝕電化學(xué)參數(shù)。從表中可以看出,與無(wú)添加納米TiO2的試樣相比,添加納米TiO2得到的膜層極化電阻Rp提高約23倍,自腐蝕電位上升0.308 V,自腐蝕電流下降了一個(gè)數(shù)量級(jí),膜層的耐蝕性得到極大的提高。這是因?yàn)榧{米TiO2加入電解液后,膜層表面的微裂紋減少,孔隙率降低,膜層的致密度提高,從而有效地隔離腐蝕介質(zhì),耐腐蝕性能因而提高[13-14]。
圖5 不同含量納米TiO2的微弧氧化膜的極化曲線Figure 5 Polarization curves for micro-arc oxidation coatings obtained with different contents of nano-TiO2
表2 不同含量納米TiO2極化曲線擬合結(jié)果Table 2 Fitted results of polarization curves for the coatings obtained with different contents of nano-TiO2
圖6為不同含量納米TiO2微弧氧化試樣膜層的摩擦因數(shù)與摩擦?xí)r間的關(guān)系曲線??梢?jiàn),相對(duì)于未添加納米TiO2的試樣,添加不同濃度的納米TiO2后,膜層表面的摩擦因數(shù)都有所降低,耐磨性能均得到提高。這可能是由于加入納米TiO2后,膜層中的α-Al2O3含量增加,微觀缺陷減少,致密度得到提高所致。隨著納米TiO2濃度的增加,膜層表面的摩擦因數(shù)逐漸降低。當(dāng)納米TiO2含量為3 g/L時(shí),摩擦因數(shù)較低,約為0.22,微弧氧化膜耐磨性能較佳。之后,隨著納米TiO2濃度的繼續(xù)增大,膜層的摩擦因數(shù)反而增大,耐磨性有所降低。
圖6 不同含量納米TiO2微弧氧化膜層的摩擦因數(shù)–時(shí)間曲線Figure 6 Friction coefficient vs.time curves for micro-arc oxidation coating obtained with different contents of nano-TiO2
硅酸鹽電解液中加入的納米TiO2參與微弧氧化反應(yīng),并進(jìn)入到陶瓷層中,改善了膜層的微觀形貌和組織。當(dāng)納米TiO2添加劑質(zhì)量濃度為3 g/L時(shí),膜層孔隙率小,微裂紋少;膜層中主要相為Al、α-Al2O3、γ-Al2O3和AlTi。故微弧氧化膜的綜合性能得到提高,所得膜層的厚度為69 μm,硬度為510 HV,極化電阻Rp提高約23倍,摩擦因數(shù)較低,約為0.22,其耐蝕性能及耐磨性能相對(duì)于未添加納米TiO2的試樣有明顯的提升。
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