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        求解各向異性介質(zhì)涂覆的薄殼元-邊界積分法

        2013-03-12 05:23:58胡皓全
        電波科學(xué)學(xué)報(bào) 2013年2期
        關(guān)鍵詞:涂敷薄殼導(dǎo)體

        雷 霖 胡 俊 胡皓全

        (電子科技大學(xué)電子工程學(xué)院,四川 成都611731)

        引 言

        在武器系統(tǒng)的研制中,隱身設(shè)計(jì)是一項(xiàng)非常重要的軍事需求[1-6].除外形設(shè)計(jì)技術(shù)之外,目標(biāo)表面涂覆吸收材料也是隱身設(shè)計(jì)中經(jīng)常使用的一項(xiàng)技術(shù),針對(duì)涂覆吸收材料目標(biāo)的電磁散射特性建模方法也就顯得很重要.傳統(tǒng)解析方法可以處理各向異性媒質(zhì)涂敷導(dǎo)體球的電磁散射,但不能用于任意涂敷復(fù)雜導(dǎo)體情形,使得解析方法有很大的局限性[5].有限元方法是一種非常有效的方法,它在處理復(fù)雜非均勻介質(zhì)目標(biāo)的電磁散射與輻射問題中有著極大的優(yōu)勢(shì)[7].單純的有限元方法需要應(yīng)用吸收邊界條件去截?cái)嘤?jì)算區(qū)域的邊界.有限元方法與邊界元混合方法綜合了兩種方法的優(yōu)勢(shì),只需將截?cái)噙吔邕x取在目標(biāo)的邊界上,使得內(nèi)存的需求和計(jì)算時(shí)間大為降低[8-11].但是,由于涂覆材料的厚度很薄,無論采用積分方程方法還是采用有限元方法與邊界元混合,均會(huì)遇到待求未知量多、矩陣病態(tài)的困難.為實(shí)現(xiàn)薄層介質(zhì)的高效數(shù)值求解,阻抗邊界條件技術(shù)被廣泛使用[12],薄介質(zhì)片及多層薄介質(zhì)片模型也被提出應(yīng)用在積分方程法用以進(jìn)一步降低未知量的數(shù)目[13-15].為提升有限元方法分析薄層介質(zhì)的效率,D.Wulf,R.Bunger發(fā)展了三棱柱單元[16].Z.Ren進(jìn)一步發(fā)展了薄殼單元[17],該單元是三棱柱單元的退化,它類似于三角形面單元,對(duì)于薄層介質(zhì)只需要進(jìn)行面剖分,而不需要進(jìn)行體剖分.采用薄殼單元可以極大地降低未知量和計(jì)算時(shí)間.該方法也被應(yīng)用到時(shí)域有限元方法中[18].

        由于涂覆目標(biāo)往往是金屬的,在本文中主要處理涂覆各向異性介質(zhì)的導(dǎo)體目標(biāo)的電磁散射問題.首先,闡述有限元-邊界元方法處理各向異性媒質(zhì)的基本原理,介紹了薄殼單元的性質(zhì)及與有限元-邊界元方法的結(jié)合.通過對(duì)比驗(yàn)證了使用薄殼單元分析各向異性介質(zhì)涂敷金屬球和各向異性介質(zhì)涂敷金屬立方體電磁散射的精確性及優(yōu)勢(shì),并給出了使用薄殼單元分析不同涂敷厚度對(duì)各向異性涂敷金屬立方體電磁散射特性的影響和不同各向異性介質(zhì)涂敷時(shí)對(duì)金屬立方體電磁散射的影響,得出了有益的結(jié)論.

        1 有限元-邊界積分方法基本原理

        研究導(dǎo)體目標(biāo)涂覆各向異性介質(zhì)材料的電磁散射問題.在各向異性媒質(zhì)中的電場(chǎng)滿足麥克斯韋方程為

        分別是媒質(zhì)的相對(duì)磁導(dǎo)率和介電常數(shù);k0是自由空間的波數(shù).

        在各向異性媒質(zhì)與自由空間的邊界上,電場(chǎng)滿足下列邊界條件:

        對(duì)于各向異性媒質(zhì)區(qū)域,用有限元方法建立方程為

        對(duì)上述方程離散并應(yīng)用權(quán)函數(shù),可得到下面的矩陣方程為

        由于這個(gè)方程有兩個(gè)未知量,要求解還需要建立另一個(gè)方程.對(duì)于邊界上的場(chǎng)量,用積分方程方法建立另一個(gè)方程,聯(lián)立兩個(gè)方程即可求解.

        積分方程分為電場(chǎng)積分方程和磁場(chǎng)積分方程:

        通常為了避免內(nèi)部諧振,需要將兩種方程混合在一起構(gòu)成混合場(chǎng)積分方程.將混合場(chǎng)方程進(jìn)行離散并應(yīng)用權(quán)函數(shù),可得到下面的矩陣方程為

        內(nèi)外兩個(gè)區(qū)域的場(chǎng)通過邊界條件聯(lián)系起來,即聯(lián)立式(5)和式(10),可將整個(gè)問題用下面的矩陣方程表示為

        求解方程(11)就可以得到邊界上及媒質(zhì)內(nèi)部的場(chǎng)量,從而可以進(jìn)行進(jìn)一步地分析其散射特性.

        2 薄殼單元及與有限元-邊界積分方法的結(jié)合

        如圖1所示,在薄殼單元中,將沿高度方向的矢量場(chǎng)表示為三個(gè)結(jié)點(diǎn)上的法向場(chǎng),在薄殼單元中就由沿上下表面的棱邊場(chǎng)和結(jié)點(diǎn)上的法向場(chǎng)構(gòu)成所有的場(chǎng)量.高度d方向的場(chǎng)的變化可以用一個(gè)線性函數(shù)β(z)來表示,并且有?β=-n^/d.上下表面的棱邊場(chǎng)的基函數(shù)分別用βNj(j=1,2,3)和β′N′j(j=1,2,3)來表示(Nj和N′j是三角形單元的棱邊基函數(shù)).結(jié)點(diǎn)處場(chǎng)的基函數(shù)用Lj,j=1,2,3來表示(Lj是體積坐標(biāo)).

        圖1 薄殼單元的結(jié)構(gòu)及矢量方向

        在薄殼單元中的電場(chǎng)可以表示為[7]:

        采用薄殼單元,在薄層介質(zhì)中的體積分就可以轉(zhuǎn)換為面積分.有限元方程可寫為

        式(13)中,體積分的處理類似于下面幾個(gè)式子:

        對(duì)于導(dǎo)體涂敷各向異性介質(zhì)的情況,矩陣方程可改寫成

        式中:En1是結(jié)點(diǎn)處法向電場(chǎng)展開系數(shù);Eu1是上表面棱邊電場(chǎng)展開系數(shù).

        3 數(shù)值結(jié)果

        為了驗(yàn)證采用薄殼元的有限元-邊界積分方程方法的精確性,進(jìn)行了下列考察.

        3.1 介質(zhì)涂敷導(dǎo)體球

        介質(zhì)涂敷導(dǎo)體球參數(shù)的結(jié)構(gòu)參數(shù)均為:k0a=1,厚度為a/30.不同的只是介電常數(shù).

        1)各向同性介質(zhì)涂敷導(dǎo)體球

        為驗(yàn)證程序的有效性,先用采用薄殼單元的有限元-邊界積分方法的針對(duì)各向異性介質(zhì)涂敷導(dǎo)體雷達(dá)散射截面(Radar Cross-Section,RCS)的程序計(jì)算各向同性介質(zhì)涂敷金屬球的雙站RCS,選擇相對(duì)介電常數(shù)為=4.其結(jié)果如圖2所示,可見其計(jì)算結(jié)果與解析解結(jié)果完全吻合,證明該方法的精度是可靠的.

        圖2 各向同性介質(zhì)涂敷金屬球雙站RCS

        2)各向異性介質(zhì)涂敷導(dǎo)體球

        將各向同性介質(zhì)換成各向異性介質(zhì),通過改變介電常數(shù)來對(duì)比傳統(tǒng)有限元-邊界積分方程方法與使用薄殼元的有限元-邊界積分方程方法的計(jì)算結(jié)果,以證明其精確性和優(yōu)越性.

        兩種方法的結(jié)點(diǎn)數(shù)、單元數(shù)、內(nèi)存和未知量的對(duì)比如表1所示,從表1可知采用四面體單元計(jì)算所需計(jì)算機(jī)內(nèi)存、單元數(shù)、未知量分別是采用薄殼元的1.7倍、2.44倍、1.3倍.

        表1 兩種方法對(duì)比

        圖3 各向異性介質(zhì)涂敷金屬球雙站RCS

        3.2 介質(zhì)涂敷金屬立方體

        計(jì)算介質(zhì)涂敷金屬立方體的結(jié)構(gòu)均為:邊長(zhǎng)0.1 m;波長(zhǎng)0.1m;入射波僅有分量,入射波方向θinc=45°,φinc=0°.不同的是介質(zhì)厚度和介電常數(shù).

        1)各向同性介質(zhì)涂敷金屬立方體

        為驗(yàn)證方法的精確性,先用采用薄殼單元的有限元-邊界積分方法計(jì)算各向異性介質(zhì)散射特性的程序計(jì)算各向同性介質(zhì)=4,介質(zhì)厚度為0.001m時(shí)的雙站RCS.從圖4可以看出:采用薄殼元的有限元邊界積分方程方法與FEKO軟件的計(jì)算結(jié)果非常吻合,與傳統(tǒng)有限元-邊界積分方程方法也比較吻合.

        2)各向異性介質(zhì)涂敷金屬立方體

        兩種方法的結(jié)點(diǎn)數(shù)、單元數(shù)、內(nèi)存和未知量的對(duì)比如表2所示,從表2可知采用四面體單元計(jì)算所需計(jì)算機(jī)內(nèi)存、單元數(shù)、未知量分別是采用薄殼元的1.92倍、2.7倍、1.4倍.

        表2 兩種方法對(duì)比

        3.3 參數(shù)改變對(duì)RCS的影響

        通過改變各向異性介質(zhì)涂層的厚度和參數(shù)來看對(duì)雙站RCS有什么影響.

        1)厚度對(duì)RCS的影響

        選擇涂層的介電常數(shù)

        2)不同介質(zhì)參數(shù)對(duì)RCS的影響

        采用薄殼元的有限元-邊界積分方法分析改變介質(zhì)參數(shù)對(duì)RCS的影響,選擇下面幾種不同的參數(shù)=εr1、=εr2、=εr3進(jìn)行比較,結(jié)果如圖7所示,其中0表示的是沒有涂敷的金屬立方體.

        從圖7可以看出,沒有涂敷各向異性介質(zhì)的金屬立方體比1號(hào)介質(zhì)的前向RCS減少了約5dB,后向RCS增大了約5dB.從前三種介質(zhì)的計(jì)算結(jié)果對(duì)比發(fā)現(xiàn),1號(hào)介質(zhì)與3號(hào)介質(zhì)由于材料類似,對(duì)角線元素的值變化不大所以結(jié)果相差不大,2號(hào)介質(zhì)與1,3號(hào)介質(zhì)由于材料不同,所以對(duì)結(jié)果有一定影響,在本文所選介質(zhì)的情況下,前向RCS變化不大,但2號(hào)介質(zhì)的后向RCS比1、3號(hào)介質(zhì)減小了約2dB.

        4 結(jié) 論

        通過使用四面體單元的有限元-邊界積分方程方法與使用薄殼單元的有限元-邊界積分方程方法的對(duì)比可以看出:采用薄殼元的有限元-邊界積分方法與采用四面體的有限元-邊界積分方法相比具有比較高的精度,無論是所需剖分單元數(shù)量、未知量還是所需計(jì)算機(jī)內(nèi)存上,前者都明顯優(yōu)于后者,采用薄殼元的有限元-邊界積分方法在計(jì)算各向異性介質(zhì)涂敷導(dǎo)體時(shí)能節(jié)省大量的計(jì)算機(jī)內(nèi)存和計(jì)算時(shí)間,剖分越密,效果越明顯.由于實(shí)際工程中使用吸波材料的厚度都在0.1λ0以下,前面的數(shù)據(jù)也證明該方法計(jì)算厚度為0.1λ0各向異性介質(zhì)涂敷導(dǎo)體目標(biāo)雙站RCS的精度還是符合要求的,從而證明了該方法分析各向異性介質(zhì)涂敷導(dǎo)體電磁散射的可行性.

        從采用薄殼單元來分析當(dāng)涂敷各向異性介質(zhì)的厚度改變對(duì)目標(biāo)雙站RCS的影響中可以看出:介質(zhì)厚度的改變對(duì)目標(biāo)RCS有很大的影響.

        從采用薄殼單元來分析當(dāng)涂敷各向異性介質(zhì)的介電常數(shù)改變對(duì)目標(biāo)雙站RCS的影響中可以看出:涂敷各向異性介質(zhì)材料與不涂敷介質(zhì)材料對(duì)導(dǎo)體目標(biāo)的電磁特性有很大影響,并且由于介電常數(shù)的不同,其散射特性也有所不同.

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