【中國(guó)專利信息】
編者注:本期刊登的是2010年10月份國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局公布的有關(guān)表面處理系列類專利信息。如需專利全文,請(qǐng)與我部聯(lián)系(聯(lián)系人:吳海玲;電話:020–61302516)。
公開號(hào) 101874128
公開日 2010.10.27
申請(qǐng)人 株式會(huì)社普利司通
地址 日本東京都
本發(fā)明提供一種生產(chǎn)率優(yōu)異的銅–鋅合金電鍍?cè)?,該銅–鋅合金電鍍?cè)〔皇褂们杌?,即使在比以往高的電流密度下,也能夠形成具有目?biāo)組成的均勻且有光澤的合金層。所述銅-鋅合金電鍍?cè)『秀~鹽、鋅鹽、以及選自焦磷酸堿金屬鹽、氨基酸或其鹽中的至少一種,其pH為8.5 ~ 14.0(優(yōu)選的pH為10.5 ~ 11.8)。此外,氨基酸或其鹽的濃度優(yōu)選為0.08 ~ 0.22 mol/L(優(yōu)選為0.10 ~0.13 mol/L)。作為氨基酸或其鹽,可優(yōu)選使用組氨酸或其鹽。
公開號(hào) 101871113
公開日 2010.10.27
申請(qǐng)人 浙江大學(xué)
地址 浙江省杭州市西湖區(qū)浙大路38號(hào)
本發(fā)明公開了一種電沉積碘化銀半導(dǎo)體薄膜的電化學(xué)制備方法。包括如下步驟:(1)用丙酮沖洗ITO導(dǎo)電玻璃或硅片2 ~ 3次,再用去離子水將ITO導(dǎo)電玻璃或硅片放在超聲波清洗器里清洗,接著將ITO導(dǎo)電玻璃或硅片放在10%的硝酸溶液中活化,最后用去離子水反復(fù)沖洗;(2)將0.002 ~ 2.000 mol/L的AgNO3、0.002 ~2.000 mol/L的KI、0.002 ~ 2.000 mol/L的乙二胺四乙酸二鈉混合,用2 mol/L的HNO3或0.1 mol/L的NaOH溶液調(diào)節(jié)pH至7 ~ 13,得到電解液;(3)ITO導(dǎo)電玻璃或硅片作工作電極,鉑片電極作對(duì)電極,飽和甘汞電極作參比電極,電沉積得到碘化銀半導(dǎo)體薄膜,相對(duì)飽和甘汞電極的電沉積電壓為1.1 ~ 2.5 V,電沉積溫度25 ~ 80 °C。本發(fā)明通過電沉積一步合成具有一定取向和晶形的碘化銀,并且設(shè)備簡(jiǎn)單、成本低廉,反應(yīng)條件要求較低。
公開號(hào) 101871114
公開日 2010.10.27
申請(qǐng)人 浙江大學(xué)
地址 浙江省杭州市西湖區(qū)浙大路38號(hào)
本發(fā)明公開了一種采用電沉積制備氟化鈣或稀土摻雜氟化鈣薄膜的方法。包括如下步驟:(1)用丙酮清洗ITO導(dǎo)電玻璃2 ~3次,再用去離子水將ITO導(dǎo)電玻璃放在超聲波清洗器里清洗10 ~ 30 min,接著將ITO導(dǎo)電玻璃放在10%的硝酸溶液中活化10 ~ 30 s,最后用去離子水清洗,待用;(2)0.01 ~ 1.00 mol/L乙二胺四乙酸二鈉與鈣離子的配合物溶液中,加入抗壞血酸鈉,再加入氟化銨溶液,調(diào)節(jié)pH為6 ~ 9,得到電解液,待用;(3)以ITO導(dǎo)電玻璃為工作電極,鉑電極為對(duì)電極,飽和甘汞電極為參比電極,置于電解液中進(jìn)行電沉積,相對(duì)于飽和甘汞電極的陽(yáng)極沉積電位為0.8 ~ 1.4 V,得到氟化鈣薄膜。本發(fā)明的優(yōu)勢(shì)在于設(shè)備簡(jiǎn)單,低成本,常壓低溫。除了適合于科學(xué)研究外,有望實(shí)現(xiàn)大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。
公開號(hào) 101871101
公開日 2010.10.27
申請(qǐng)人 東北大學(xué)
地址 遼寧省沈陽(yáng)市和平區(qū)文化路3號(hào)巷11號(hào)
一種鎂合金表面金屬鍍層的制備方法,屬于金屬腐蝕和防護(hù)技術(shù)領(lǐng)域,包括以下步驟。(1)對(duì)鎂合金表面進(jìn)行前處理;(2)對(duì)前處理后的鎂合金表面進(jìn)行預(yù)化學(xué)鍍鎳,預(yù)化學(xué)鍍鎳液的組成為次磷酸鎳15 ~ 30 g/L、次磷酸鈉5 ~ 20 g/L、有機(jī)配位劑8 ~ 30 g/L、無機(jī)配位劑10 ~ 50 g/L、甘氨酸3 ~ 5 g/L、氟化氫銨5 ~ 15 g/L、醋酸鈉5 ~ 10 g/L、碘酸鉀3 ~ 5 mg/L、十二烷基磺酸鈉10 ~ 30 mg/L,預(yù)化學(xué)鍍鎳的溫度為50 ~ 70 °C,pH = 7 ~ 10,時(shí)間30 ~ 120 min;(3)對(duì)預(yù)鍍鎳后的鎂合金表面進(jìn)行增厚化學(xué)鍍鎳或電鍍其他金屬。本發(fā)明方法通過添加適量焦磷酸鹽助配位劑后,改善了預(yù)鍍層與鎂合金基體的結(jié)合力,達(dá)到了國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)。在預(yù)鍍鎳層上再進(jìn)一步常規(guī)化學(xué)鍍鎳或電鍍其他金屬,均能獲得結(jié)合力強(qiáng)、耐蝕性高的金屬裝飾防護(hù)鍍層。
公開號(hào) 101851754
公開日 2010.10.06
申請(qǐng)人 重慶大學(xué)
地址 重慶市沙坪壩區(qū)沙正街174號(hào)
一種鋁合金上制備Ni–Co–P/Si3N4鍍層的化學(xué)復(fù)合鍍方法,包括粉末前處理、脫脂、弱堿腐蝕、除垢、沉鋅、褪鋅、二次沉鋅、化學(xué)鍍膜。其特征是化學(xué)鍍液由主鹽硫酸鎳6 ~ 28 g/L、硫酸鈷6 ~ 26 g/L,還原劑次磷酸鈉28 g/L,Si3N44 ~ 12 g/L,緩沖劑硼酸15 g/L,配位劑檸檬酸10 g/L,穩(wěn)定劑硫脲0.002 g/L,表面活性劑C16S 0.08 g/L等組成,鍍液pH 5.0 ~ 7.0,溫度75 ~ 95 °C,時(shí)間2 h。本發(fā)明具有鍍液穩(wěn)定、工藝簡(jiǎn)單等優(yōu)點(diǎn),可提高鍍層厚度均勻性,增強(qiáng)結(jié)合力,延長(zhǎng)鍍層的使用壽命,進(jìn)一步促進(jìn)鋁合金在電子產(chǎn)品、汽車工業(yè)、航空航天等領(lǐng)域的廣泛應(yīng)用。
[ 實(shí)習(xí)編輯:周新莉 ]