摘 要:通過(guò)對(duì)原料配方、成形工藝、燒成工藝、產(chǎn)品造型和裝飾工藝的改進(jìn)與創(chuàng)新,克服了傳統(tǒng)薄胎瓷器配套難和粗口、粗腳等一系列技術(shù)難題,研制出全釉薄胎瓷器,該瓷具有色彩純白、器型超薄透亮、透光性能極好、釉面潤(rùn)澤柔和、硬度高等優(yōu)點(diǎn)。
關(guān)鍵詞:薄胎瓷;二次釉燒;全釉
1 前言
薄胎瓷器,俗稱蛋殼瓷器。以“薄如紙、白如玉、明如鏡、聲如磬”聞名世界,被譽(yù)為“中國(guó)陶瓷藝術(shù)皇冠上的明珠”。傳統(tǒng)的薄胎瓷器,大部分是工藝陳設(shè)瓷, 產(chǎn)品有魚缸、水注、花瓶、燈罩等品種,成套的日用薄胎瓷器產(chǎn)品極少,且產(chǎn)品強(qiáng)度低、易碎,或者是粗口、粗腳,這些不足直接影響了薄胎瓷器的美觀和實(shí)用價(jià)值。本廠通過(guò)對(duì)原料配方、成形工藝、燒成工藝、產(chǎn)品造型和裝飾工藝進(jìn)行不斷改進(jìn)與創(chuàng)新,克服了傳統(tǒng)薄胎瓷器配套難和粗口、粗腳等一系列技術(shù)難題,研制出全釉薄胎瓷器,主要產(chǎn)品有全釉薄胎日用瓷:80頭薄胎餐具、13頭酒具、8頭薄胎茶具、薄胎保溫杯等;全釉薄胎陳設(shè)瓷有:薄胎花瓶、通花盤等品種,產(chǎn)品極具收藏和使用價(jià)值,深受消費(fèi)者喜愛。
2 研制過(guò)程
2.1工藝流程的建立
為制備全釉薄胎陶瓷,我們對(duì)傳陶瓷統(tǒng)的生產(chǎn)工藝進(jìn)行了技術(shù)改進(jìn),增加半成品打磨工藝和低溫二次釉燒工序。工藝流程如圖1所示。
2.2坯、釉料的選擇和配方
為保證薄胎陶瓷制品具有較高的強(qiáng)度,防止在燒成中產(chǎn)生變形,我們根據(jù)當(dāng)?shù)卮赏恋V含鋁量較高、有效助熔劑Na2O、K2O、CaO和MgO成分偏少的特性,在原有陶瓷坯、釉基礎(chǔ)配方中添加硅灰石、長(zhǎng)石、滑石等低溫快燒陶瓷原料,以降低制品的燒成溫度,所用坯、釉原料的化學(xué)組成見表1。
2.2.1坯料配方
坯料采用多元配方,以1號(hào)高嶺土、3號(hào)高嶺土為主體,作為塑性原料配入,提高坯料的可塑性。同時(shí)配入低溫快燒原料硅灰石,在較低溫度下更快地促進(jìn)坯體燒結(jié)致密,降低制品的燒成溫度。通過(guò)多次試驗(yàn)和優(yōu)化,選擇坯料配方如表2所示,坯料的化學(xué)組成見表3,坯式如式(1)所示。
2.2.2 基礎(chǔ)釉料配方
基礎(chǔ)釉料采用多元配方,以2號(hào)長(zhǎng)石為主體,外加少量復(fù)合礦化劑,以提高釉面透明度和光澤度。并對(duì)其與坯體的熱膨脹性能匹配性進(jìn)行了研究,保證在1300~1320℃燒成溫度條件下,獲得良好的釉面質(zhì)量。通過(guò)多次試驗(yàn)和優(yōu)化,選擇最佳釉料配方見表4,基礎(chǔ)釉化學(xué)組成見表5,釉式如式(2)所示。
2.3 坯、釉料制備
為使全釉薄胎陶瓷產(chǎn)品更加致密,提高制品的強(qiáng)度, 坯、釉原料加工采用球磨機(jī)精磨工藝,使坯、釉料的顆粒進(jìn)一步細(xì)化,促進(jìn)液相在更低溫度下生成,有利于降低產(chǎn)品的燒成溫度,并嚴(yán)格控制坯、釉料水分。
(1) 坯料制備主要工藝參數(shù)
1) 料球水比例為:1:2:0.6;
2) 細(xì)度:泥漿過(guò)325目標(biāo)準(zhǔn)篩,篩余控制在0.05%~0.07%;
3) 除鐵:泥漿用1萬(wàn)高斯的除鐵器除鐵3次;
4) 含水率:滾壓坯料含水率:21%~23%;注漿漿料含水率:33%~35%;
5) 坯料陳腐時(shí)間:20天。
(2) 釉料制備主要工藝參數(shù)
1) 料球水比例:1:2:0.7;
2) 細(xì)度:釉漿過(guò)380目標(biāo)準(zhǔn)篩,篩余控制在0.1%~0.2%;
3) 除鐵:釉漿用磁場(chǎng)強(qiáng)度為l萬(wàn)高斯的除鐵器除鐵5次;
4) 含水率:43%~46%;
5) 釉料陳腐時(shí)間:7天。
2.4 生產(chǎn)工藝參數(shù)
(1) 成形工藝
圓形產(chǎn)品采用滾壓成形,坯料含水率控制在21%~23%;異形產(chǎn)品采用真空壓力注漿成形,泥料含水率控制在33%~35%,以水玻璃調(diào)節(jié)漿料的稠度。
(2) 坯體素?zé)に?/p>
為提高半成品的坯體強(qiáng)度,便于手工繪畫及裝飾,坯體采用電熱素?zé)G進(jìn)行素?zé)?素?zé)郎囟葹?00~800℃,素坯吸水率控制在10%~15%之間。
(3) 釉下裝飾和施釉工藝
采用手工繪畫裝飾工藝,使產(chǎn)品圖案更生動(dòng)活潑。制品施釉采用浸釉法或噴釉法,釉層厚度約為0.1mm。裝飾工藝流程如圖2。
(4)一次釉燒工藝
采用電腦脈沖自動(dòng)控制液化石油氣梭式窯,容積為6m3,還原氣氛燒成,窯內(nèi)壓力和氣氛由電腦脈沖自動(dòng)控制。
坯體入窯水分:1.5%~3%;
燒成溫度:1300~1320℃;
燒成周期:24h;
升溫速度:從點(diǎn)火至1030℃氧化階段6h;1030~1320℃還原階段4h(其中1320℃保溫30min),保溫后?;鹱匀焕鋮s至室溫。
(5) 二次釉燒工藝
為使制品實(shí)現(xiàn)全釉, 攻克薄胎陶瓷產(chǎn)品粗口或粗腳的技術(shù)難題, 我們對(duì)經(jīng)過(guò)一次釉燒后的成品口部或腳部進(jìn)行拋光打磨,使其圓滑、平整,然后在其口部或腳部再施一次釉,并進(jìn)行二次釉燒,釉燒溫度為950~1000℃。
為使二次釉燒后的釉面具有更好的透明度和光澤度,在保證成品的釉面與口部或腳部的釉能相融的條件下,加入一些化工原料,以進(jìn)一步降低全釉的二次釉燒溫度,并使制品釉面光澤玉潤(rùn)、釉色一致。經(jīng)多次試驗(yàn)和優(yōu)化,確定二次釉的配方為在原基礎(chǔ)釉上加入3%~8%碳酸鋇,其組成如表6所示。
3 產(chǎn)品質(zhì)量
經(jīng)檢測(cè),本研究所獲得的全釉薄胎陶瓷產(chǎn)品的各項(xiàng)理化指標(biāo)均符合國(guó)家輕工行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)薄胎瓷器(QB/T1464-1992標(biāo)準(zhǔn))優(yōu)等品、一等品的技術(shù)指標(biāo)要求,見表7;試驗(yàn)所獲得全釉薄胎瓷產(chǎn)品照片見圖2。
4 結(jié)論
(1) 采用全釉技術(shù),通過(guò)二次釉燒,解決了薄胎瓷產(chǎn)品粗口或粗腳的技術(shù)難題;
(2) 通過(guò)電腦脈沖自動(dòng)控制窯內(nèi)壓力和氣氛,可以較好地解決窯內(nèi)上下溫差大、制品呈色不勻等問(wèn)題;
(3) 所獲得的全釉薄胎陶瓷色彩柔和,器型超薄透亮,透光性能極好,釉面潤(rùn)澤、柔和、硬度高,具有較高的機(jī)械強(qiáng)度,產(chǎn)品檔次高。
參考文獻(xiàn)
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