污泥燒結(jié)磚生產(chǎn)方法

本發(fā)明涉及一種固體廢物處理的污泥燒結(jié)磚生產(chǎn)方法。坯泥中污泥含量一般為5%～50%，常用為30%～50%；其余為頁巖粉料，一般粒徑≤0.5mm，常用≤0.3mm；常規(guī)制坯焙燒。本發(fā)明不改變現(xiàn)行的制磚工藝，具有原料來源廣泛、污泥直接添加、消耗量高等特點，是一種比較經(jīng)濟實用的環(huán)保型制磚方法。

專利號：02137142.3

玉石超長余輝夜光地板磚及其制備方法

本發(fā)明公開了一種玉石超長余輝夜光地板磚及其生產(chǎn)方法，該地板磚由天然玉石粉、玻璃微珠、二氧化硅微粒、超長余輝發(fā)光粉和不飽和聚酯樹脂等成分組成。白天接收紫外線照射后蓄光，夜晚能自身發(fā)出彩色光芒，質(zhì)地柔軟、強度高、耐磨性強，能廣泛應(yīng)用于家庭、舞廳、賓館、公園等場所，節(jié)約能源，別具一番情趣。

專利號：02135417.0

瓷質(zhì)拋光磚磚面加工方法和裝置

本發(fā)明涉及一種瓷質(zhì)拋光磚磚面加工方法和加工裝置。加工方法包括對磚坯表面依次進行刮平定厚、平面銑磨和研磨拋光加工，其中平面銑磨為數(shù)個銑磨磨頭對磚體表面進行邊旋轉(zhuǎn)邊擺動銑磨。加工裝置包括依次對磚坯表面進行加工處理的刮平定厚機、平面銑磨機和研磨拋光機。平面銑磨機包括機架、橫梁擺動系統(tǒng)和銑磨系統(tǒng)，銑磨系統(tǒng)為數(shù)個依次固定在橫梁擺動系統(tǒng)上邊旋轉(zhuǎn)邊往復(fù)擺動的磨頭。本發(fā)明采用不同加工效率和加工精度的設(shè)備對不同階段的磚坯表面進行最經(jīng)濟、最有效的加工處理，使現(xiàn)有技術(shù)從粗加工到精加工之間的工序跳躍得以平緩，減少了低效、無效加工，提高了生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量，并達到降低能耗和磨具損耗，降低生產(chǎn)成本的目的。

專利號：200610080809.5

具有微細(xì)凹凸紋理的陶瓷磚的制造工藝

本發(fā)明涉及具有微細(xì)凹凸紋理的陶瓷磚的制造工藝。通過壓磚成形模具壓制出表面具有眾多不規(guī)則分布且形狀不規(guī)的凹面、凸面的磚坯，各凹面和凸面之間的深度均在1mm以下且深淺不一，各凹面和凸面的面積均在 15mm2以下且大小不一。磚坯干燥后，印花、施釉、高溫?zé)?；采用彈性磨頭對燒成的磚坯進行微量拋光磨削，使磚坯表面各凹面的深度減少至0.7mm以下，且被拋光的面積占整塊磚面積的40%～70%，而因凹陷未被拋光的面積占整塊磚面積的30%～60%。本工藝可使磚面形成拋光釉面、未拋光釉面、拋光坯面等各種形態(tài)的微細(xì)凹凸紋理，使陶瓷磚表面具有溫潤柔和的光澤和富有皮革質(zhì)感的視覺效果，是陶瓷磚產(chǎn)品風(fēng)格的一種創(chuàng)新。

專利號：200610077614.5

一種拋光磚及其生產(chǎn)方法

本發(fā)明涉及一種拋光磚及其生產(chǎn)方法。主要由含有SiO2、Al2O3、MgO、K2O、Na2O的粉料經(jīng)布料、坯體成形、干燥、燒成、拋光等步驟制成，其中SiO2的含量為66wt%～75wt%，Al2O3的含量為16wt%～25wt%，MgO 的含量為0.6wt%～2.5wt%，K2O的含量為0.5wt%～2.5wt%，Na2O的含量為4.5wt%～10wt%。本發(fā)明與已有技術(shù)相比，所制造出來的瓷磚表面圖案具有天然石材具有的玉石般質(zhì)感的立體效果。

專利號：200510100125.2

夾磚器

本發(fā)明涉及一種處理或加工成形制品的設(shè)備附屬裝置，是一種夾磚器，包括兩個夾板以及一個驅(qū)動裝置；兩個夾板相對分布，其結(jié)構(gòu)要點為：夾板包括基體和夾持體。夾持體為一種彈性體，其位于基體上并與驅(qū)動裝置傳動連接。在夾磚器的夾板表面以彈性體夾緊磚塊，從而彈性體可以因磚塊表面具體形狀而發(fā)生相應(yīng)變形，不但提高接觸面積而且增大摩擦力，而且該夾持體的彈性變形處與磚塊的相應(yīng)部位還形成一種上下位的相互卡接，使磚塊夾持更加牢固，使用方便。

專利號：200610040079.6

一種高鋁磚

本發(fā)明涉及一種高溫窯爐用耐火制品高鋁磚。其原料按下述重量份配比：特級礬土顆粒40～60份，特級礬土粉料為200目細(xì)粉20～40份，特級廣西白泥5～10份，氧化鋁粉5～10份，結(jié)合劑為30％濃度糊精溶液6～8份。其優(yōu)點是采用多級配料、高壓力成形、高溫?zé)?，所以高溫強度好、耐壓強度高?/p>

專利號：200610046431.7