翟俊娜, 邵麗娜
(西安體育學院, 陜西西安 710068)
扁平足又稱為平足癥, 是以足部內(nèi)側縱弓塌陷為特征的足部疾病[1]。由于足弓塌陷、足底低平, 導致足底筋膜張力過大, 繼而引起足跟外翻、拇外翻, 甚至影響踝部、膝部等關節(jié)的健康[2]。據(jù)2015年數(shù)據(jù)統(tǒng)計, 某高校扁平足發(fā)生率為29.77%, 其中男生扁平足發(fā)生率為31.39%、女生為29.01%, 男女差異無統(tǒng)計學意義[3];此外, 據(jù)2018年數(shù)據(jù)報道, 我國青少年扁平足患病率高達25%~49%[4]。然而, 臨床上對扁平足的治療并未特別重視, 對扁平足嚴重程度的評估更是研究較少。因此, 本研究通過調查某高校扁平足的發(fā)病率, 并比較扁平足不同評估方法, 為扁平足在臨床診斷治療評估方面提供可靠依據(jù)。
1.1 扁平足的臨床癥狀 扁平足根據(jù)是否出現(xiàn)足部疼痛或不適等癥狀分為有癥狀扁平足和無癥狀扁平足[5];根據(jù)足弓塌陷是否受體位影響分為可塑性扁平足和僵硬性扁平足[6]。有癥狀性可塑性扁平足和僵硬性扁平足的臨床表現(xiàn)主要為足底內(nèi)側疼痛, 長期站立或行走后癥狀加劇, 并可呈現(xiàn)進行性加重;嚴重者還可出現(xiàn)踝關節(jié)疼痛、下肢肌肉疼痛等等[7]。無癥狀可塑性扁平足雖不引起臨床癥狀, 但研究顯示若不良好地處理及預防, 也會發(fā)展為有癥狀可塑性扁平足[8]。
1.2 扁平足的體征表現(xiàn) 可塑性扁平足的體征表現(xiàn)為非負重位時足弓形態(tài)正常, 負重位時足弓塌陷消失;僵硬性扁平足的體征表現(xiàn)為非負重位和負重位時足弓均低平消失。
1.3 扁平足的診斷依據(jù) 足縱弓低平塌陷, 伴或不伴足部疼痛;足印檢查弓狀空缺部分消失;X線檢查足弓消失, 跟骨縱軸與距骨縱軸角度變大[9]。
扁平足主要通過足印法、X線片、足底壓力分析法等輔助檢查, 進行扁平足的診斷及嚴重程度的評估。
2.1 足印法 足印法是診斷扁平足最原始的方法, 具體方法是給受試者足底涂抹有色顏料, 使其踩在白色的紙張上留下足印, 觀察足印中部內(nèi)側緣所在的位置, 若足印中部內(nèi)側緣未超過足中趾, 則屬于正常足;若足印中部內(nèi)側緣超過足中趾, 即為扁平足。此方法雖然操作簡單, 但檢測結果比較粗糙, 只能對扁平足進行粗略的判斷。
2.2 足印比例法 足印比例法是對足印法的一種更新。如圖1所示, 在足印法的基礎上, 在拇趾內(nèi)側至足跟內(nèi)側作一條切線, 再在足印內(nèi)側緣中點作一條與該切線垂直的線, 得到的足印圖分為空白區(qū)和實心區(qū)兩部分, 對兩部分區(qū)域寬度進行比較。正常足其空白區(qū)ab與實心區(qū)bc的比例為2:1;輕度扁平足空白區(qū)與實心區(qū)的比例為1:1;中度扁平足空白區(qū)與實心區(qū)的比例為1:2;重度扁平足沒有空白區(qū), 甚至實心區(qū)可超出拇趾內(nèi)側至足跟內(nèi)側的連線[10]。足印比例法較足印法有所細化和改善, 已經(jīng)能對扁平足進行粗略的輕度、中度、重度等分型, 然而由于此方法在確定拇趾內(nèi)側緣和足跟內(nèi)側緣時缺乏統(tǒng)一的標準, 故只能較為粗略地進行扁平足嚴重程度的評估, 不能精確地進行量化評估。因此在一般情況下, 足印比例法常作為判斷是否為扁平足的初步診斷手段。
圖1 足印比例法
2.3 足印三線法 足印三線法是對足印法的另一種改進。如圖2所示, 在足印法的基礎上, 先分別在拇趾內(nèi)側至足跟內(nèi)側、足中趾至足跟中心劃線, 再在兩線中間劃等分線, 這三條線便將足印由內(nèi)至外分為內(nèi)側區(qū)、中間區(qū)、外側區(qū)。正常足的足印內(nèi)側緣在外側區(qū)域;輕度扁平足的足印內(nèi)側緣在中心區(qū);中度扁平足的足印內(nèi)側緣在內(nèi)側區(qū);重度扁平足的足印內(nèi)側緣超過內(nèi)測區(qū)[11]。同樣, 此方法在確定拇趾內(nèi)側緣、足跟內(nèi)側緣及足跟中心時缺乏統(tǒng)一的標準, 因此只能較為粗略地進行扁平足嚴重程度的評估, 不能精確地進行量化評估;且與足印比例法相比, 由于其在操作過程中不僅需要確定拇趾內(nèi)側緣和足跟內(nèi)側緣, 還需要確定足跟中心, 準確性更差, 故一般情況下常用足印比例法。
圖2 足印三線法
2.4 X線片法X線法是拍攝足部負重時的側立位X線片, 通過測量內(nèi)側縱弓角和外側縱弓角等來診斷、檢測扁平足。如圖3所示, 先找到距舟關節(jié)下方的標志點標記為“1”, 再找到第1跖骨下方的標志點標記為“3”, 以及根骨結節(jié)下方標志點標記為“2”, 連接“1”至“3”和“1”至“2”, 得到內(nèi)側縱弓角。其次, 找到骰骨關節(jié)下方的標志點標記為“5”, 以及第5跖骨關節(jié)下方的標志點標記為“4”, 連接“5”至“4”和“5”至“2”得到外側縱弓角[12]。一般情況下[13], 內(nèi)側縱弓角的正常范圍為113°~130°, 外側縱弓角的正常范圍為130°~150°, 隨著扁平足嚴重程度的增加, 內(nèi)側縱弓角和外側縱弓角也會隨之增加。這種測量方法不僅麻煩, 而且在確定這些標志點時也無統(tǒng)一的標準, 因此X線片及MRI雖然能夠清晰看到足骨的形態(tài)及足弓的高度, 但在測量內(nèi)側縱弓角、外側縱弓角及足弓高度時, 也會有誤差的存在而影響其評估效果。
圖3 內(nèi)側縱弓角、外側縱弓角以及足弓高度
2.5 足底壓力測量法 目前, 診斷扁平足的方法主要依靠足印比例法、足印三線法及X線法。比例法和三線法在確定足印內(nèi)側緣中心位置和足跟中心位置時, 難免會出現(xiàn)誤差;而X線法在拍攝過程中的拍攝角度及參照物等缺乏統(tǒng)一的定位;且這三種方法均只能測定在靜止狀態(tài)下足部的二維情況。然而, 足弓屬于三維立體結構, 靜態(tài)下測量的足弓情況不能代表動態(tài)時的足弓情況, 因此扁平足的診斷檢測方法需要向三維、動態(tài)的方向發(fā)展。足底壓力測量方法可對足底進行3D掃描, 是國內(nèi)外診斷檢測扁平足的最新方法, 目前的足底壓力研究均在使用足底壓力測量儀器[14]。研究證明[15], 運用3D激光掃描技術來檢測和診斷扁平足, 不僅能夠精確地檢測扁平足的情況, 對足弓進行3D測量, 而且其操作簡單方便, 能夠更好地為臨床服務。
根據(jù)文獻資料顯示, 高校扁平足的發(fā)病率無男女統(tǒng)計學差異, 因此本試驗為了方便數(shù)據(jù)采集, 僅對西安市兩所高校女大學生進行足形篩查, 通過足印比例法將所采集的足印按照正常足、可塑性輕度扁平足、可塑性重度扁平足進行分類, 詳見表1。
表1 某高校足印采集情況
如表1所示, 本試驗共采集426人足印, 其中輕度扁平足101人, 占總人數(shù)的23.7%;重度扁平足39人, 占總人數(shù)的9.2%。輕度、重度扁平足共140人, 占總人數(shù)的32.9%。根據(jù)2015年大學生扁平足發(fā)生率數(shù)據(jù)所示[3], 扁平足發(fā)生率為29.77%, 男生扁平足發(fā)生率為31.39%、女生為29.01%, 男女差異無統(tǒng)計學意義, 本試驗結果與文獻報道的統(tǒng)計數(shù)據(jù)相吻合。
通過對高校大學生足印的采集, 可對扁平足患者進行初步篩查, 同時通過足印比例法可大致將扁平足按照嚴重程度分為輕度和重度兩組。然而, 足印比例法僅能作為扁平足初步診斷的簡單方法, 不能對扁平足嚴重程度進行量化分析, 若需進一步分析輕、重度扁平足具體指標如何變化, 還應依靠足底壓力分析系統(tǒng), 將足底壓力進行分區(qū)后比較分析。
目前扁平足的診療評估方法主要包括足印比例法、X線法和足底壓力分析方法。X線法操作較為復雜, 且費時較多;與此相比, 足印法則簡單易行, 但其僅能定性分析, 不能量化分析, 因此僅用于扁平足的初步篩查。足底壓力分析系統(tǒng)雖可對扁平足的足底進行分區(qū)測量, 并可量化分析具體情況, 然而儀器設備較貴, 尚未完全普及。因此在一般情況下, 可先用足印比例法進行扁平足的初步判斷, 再通過足底壓力測量分析進行系統(tǒng)量化分析。然而通過文獻資料查閱發(fā)現(xiàn), 目前進行足底壓力分析的研究僅針對有癥狀扁平足, 且未對扁平足進行嚴重程度的區(qū)分比較, 輕、度扁平足的足底壓力特點有何不同, 仍需進一步研究。此外, 通過本試驗發(fā)現(xiàn)大學生扁平足發(fā)生率較高, 然而目前許多患者對自己是否扁平足尚不清楚, 說明人們對扁平足的重視程度不足。即便是無癥狀性扁平足, 若足弓塌陷程度較低, 長此以往仍會造成踝部甚至膝部關節(jié)的病變, 因此扁平足患者需提早進行運動康復并配合按摩治療, 避免將無癥狀扁平足發(fā)展為有癥狀扁平足。