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        有機發(fā)光二極管空穴傳輸層探究

        2022-04-29 05:36:40王志奇
        呂梁學(xué)院學(xué)報 2022年2期
        關(guān)鍵詞:激子傳輸層空穴

        王志奇

        (呂梁學(xué)院 物理系,山西 離石 033001)

        0 引言

        自從香港的美籍華裔教授鄧青云在實驗室中發(fā)現(xiàn)了有機發(fā)光二極管,也就是OLED,由此展開了對OLED的研究[1].OLED由于它具有輕薄、節(jié)能、環(huán)保、視角寬、響應(yīng)速度快、可卷曲和驅(qū)動電壓低等諸多優(yōu)點,與LCD相比主動發(fā)光且不需要背光源,因此受到業(yè)界人士的廣泛關(guān)注.目前全球有100多家的企業(yè)和研究單位已經(jīng)投入到OLED的研發(fā)和生產(chǎn)中,包括目前市場上的顯示巨頭,如飛利浦,索尼,三星,LG等公司.總體來講,OLED的產(chǎn)業(yè)化目前已經(jīng)開始應(yīng)用在生活中,如MP3、筆記本電腦、手機、電視和大型顯示屏等.

        OLED的器件結(jié)構(gòu)圖如圖1所示.

        圖1 OLED單層和多層器件結(jié)構(gòu)圖

        有機發(fā)光二極管又稱有機電致發(fā)光器件(organic light-emitting device,簡稱“OLED”),屬載流子雙注入型發(fā)光器件.OLED的基本結(jié)構(gòu)是由一薄而透明具半導(dǎo)體特性之銦錫氧化物(ITO),與電力之陽極相連,再加上另一個金屬陰極,包成如三明治的結(jié)構(gòu).整個結(jié)構(gòu)層中包括了:空穴傳輸層(HTL)、發(fā)光層(EL)與電子傳輸層(ETL)[1].OLED的發(fā)光原理為:在外加電壓的驅(qū)動下,空穴和電子分別從正極和負(fù)極注入到有機材料中,空穴與電子在發(fā)光層中相遇、復(fù)合,釋放出能量,將能量傳遞給有機發(fā)光物質(zhì)的分子,使其從基態(tài)躍遷到激發(fā)態(tài),激發(fā)態(tài)很不穩(wěn)定,受激分子從激發(fā)態(tài)回到基態(tài),輻射躍遷而產(chǎn)生發(fā)光現(xiàn)象,依其配方不同產(chǎn)生紅、綠和藍(lán)RGB三原色,構(gòu)成基本色彩[1,2].

        1 有機發(fā)光二極管(OLED)空穴傳輸層NPB

        1.1 空穴傳輸層NPB結(jié)構(gòu)

        理想的空穴傳輸材料應(yīng)具有:(1)熱穩(wěn)定性高;(2)能真空蒸鍍形成無針孔的薄膜;(3)與陽極形成小的勢壘[3].NPB是空穴傳輸材料萬千之中的一種,是一種帶有氮元素苯環(huán)結(jié)構(gòu)的材料.苯是一種穩(wěn)定的不飽和烴,氮原子具有很強的給電能力,容易氧化形成陽離子自由基而顯示出正電性,當(dāng)載流子空穴注入時,在電場的作用下,可以實現(xiàn)載流子的定向遷移從而達(dá)到傳輸電荷.

        NPB的苯環(huán)結(jié)構(gòu)圖如圖2所示.

        圖2 NPB苯環(huán)結(jié)構(gòu)圖

        1.2 空穴傳輸層NPB厚度對OLED的影響

        電致發(fā)光是一個雙分子注入的過程,發(fā)光的亮度與電子和空穴的濃度及激子復(fù)合概率的乘積成正比.要想獲得較大的發(fā)光效率,不僅需要電子和空穴有效地在設(shè)備中注入并能有效地運輸和復(fù)合,而且需要平衡電子和空穴的注入,因此空穴傳輸材料和工藝參數(shù)的合理選擇,有利于提高設(shè)備的性能[2].實驗過程中記錄數(shù)據(jù)并畫圖,以NPB厚度作為單一變量,在草稿紙上相繼畫出器件的電流-電壓,亮度-電壓和效率-電壓曲線圖.通過相繼分析三個曲線圖可知:當(dāng)NPB厚度為50 nm時,相同電壓下對應(yīng)的器件電流最大;當(dāng)NPB厚度為50 nm時,達(dá)到最高亮度,遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于其他器件;當(dāng)NPB厚度為50 nm 時,器件效率最高.綜上,當(dāng)NPB厚度為50 nm時器件的性能最好.空穴傳輸層NPB厚度對器件性能起著至關(guān)重要作用,太薄或太厚都會嚴(yán)重影響裝置的性能.主要原因在于:載流子的注入和遷移率與場強有關(guān),當(dāng)NPB厚度比較大時,相同的電壓,電流強度會降低,從而導(dǎo)致的Alq3的局部壓力被相應(yīng)地減少,電子注入水平和傳輸速度減少,激子復(fù)合速率下降,該裝置的亮度也隨之降低,因此發(fā)射所需的施加電壓的裝置,即啟亮電壓幅度應(yīng)增加.但是當(dāng)NPB厚度太小,則電子和空穴重組區(qū)將靠近陽極/有機層界面附近,這足以引起激子淬滅,從而減少發(fā)光亮度和發(fā)光效率[4].

        1.3 空穴傳輸層NPB性能的分析

        有機發(fā)光二極管(OLED)的材料通常包括聚合物和小分子化合物,發(fā)光二極管由電子傳輸層、發(fā)光層和空穴傳輸層構(gòu)成.根據(jù)功能的不同,有機發(fā)光二極管材料又可以分為電子傳輸材料,空穴傳輸材料和發(fā)光材料.陽極材料是相對穩(wěn)定的高功函數(shù),是更廣泛使用的材料,目前的陽極接口處理技術(shù)相對比較更成熟,空穴注入比電子注入更容易.NPB作為大量空穴傳輸層材料之中的一種,帶有氮元素的苯環(huán)結(jié)構(gòu),結(jié)構(gòu)相對穩(wěn)定,當(dāng)載流子的空穴注入時,在電場的作用下,可以實現(xiàn)載流子的定向遷移從而達(dá)到傳輸電荷.NPB是近年來工業(yè)生產(chǎn)機制中涉獵到比較多的材料,它很少拿出來單獨使用,一般都是通過對其摻雜、改良以后才投入使用,體現(xiàn)了它的局限性.由于科技的不斷發(fā)展,空穴傳輸層的材料也在不斷改朝換代,NPB是萬千材料的一種,主要是通過摻雜以至于和其他材料互相取長補短地使用.

        2 向NPB中分別摻雜MgF2、Alq3、SrF2,改善OLED器件性能

        有機材料的特性深深地影響著OLED器件的光電特性表現(xiàn),在研究了空穴傳輸層NPB厚度對OLED性能的影響后,分析可知,空穴傳輸層NPB不論太厚或太薄,都不利于OLED發(fā)光的性能,所以空穴傳輸層NPB作為單個材料選擇的厚度是至關(guān)重要的.隨著科技的不斷發(fā)展,OLED得到了很大的優(yōu)化,OLED已經(jīng)不再局限于一種材料,可以對空穴傳輸層材料NPB中進行摻雜,以此來提高OLED器件的特性.

        2.1 向NPB摻雜Alq3(8-羥基喹啉鋁)

        與紅光和綠光OLED相比,藍(lán)光的OLED還有很多缺陷需要改進和完善,比如效率低、壽命相對短和發(fā)光亮度低等,為了提高藍(lán)光OLED的發(fā)光效率和發(fā)光亮度,所以向NPB中摻雜8-羥基喹啉鋁(Alq3)來提高藍(lán)光OLED的性能.因為有機發(fā)光器件中空穴占多數(shù)載流子的不平衡狀態(tài),這種不平衡必將影響OLED器件的光電特性,為了達(dá)到空穴和電子傳輸?shù)钠胶?使激子的復(fù)合率更高,在器件其他設(shè)備完全一樣的情況下,在空穴傳輸層材料NPB中摻雜Alq3,Alq3的濃度分別為0%、3%和5%.

        實驗表明,隨著摻雜濃度的提高,Alq3對空穴的阻擋作用逐漸增強,亮度也逐漸提高,并且啟亮電壓也隨之降低.Alq3的HOMO能級比NPB高,能級相差約0.3eV,空穴比較難躍遷到Alq3的HOMO能級上,摻雜劑Alq3分子對空穴有散射作用,從而阻擋了空穴的傳輸,以至于降低了空穴的遷移率[5].從微觀方面講,在NPB中摻雜Alq3,使摻雜器件內(nèi)部空穴,電子注入數(shù)目更加平衡,激子無輻射衰減數(shù)目減少,輻射性復(fù)合概率提高,因而器件具有更高的效率,在空穴傳輸層內(nèi)部,激子沒有全部以光輻射的形式釋放能量,也許是以熱能或者其他形式的能量猝滅,影響到了器件的流明效率.當(dāng)器件啟亮后,隨著電壓的不斷升高,激子的數(shù)目也不斷地增加,同時輻射性衰減的概率也大大增加.Alq3在NPB中的摻雜使得器件內(nèi)部復(fù)合區(qū)域的空穴數(shù)目與電子數(shù)目相匹配,因而提高了空穴和電子發(fā)生輻射性復(fù)合的概率,改變了器件的亮度和流明效率[2,5].由于Alq3具有良好的電子傳輸能力,因此常常被選用為電子傳輸層的材料,在空穴傳輸層中參雜Alq3對空穴有散射作用,阻擋了部分空穴的傳輸,降低了空穴遷移率.Alq3摻雜提高了空穴和電子在發(fā)光層中的注入平衡,有利于激子的形成,從而提高了器件的性能.

        2.2 向NPB摻雜SrF2(氟化鍶)

        OLED開發(fā)階段,空穴傳輸層的混合材料最多使用強電子受體材料,但由于這些電子材料的化學(xué)性質(zhì)不夠穩(wěn)定,因而器件的性能也大打折扣.為了克服穩(wěn)定性差的缺點,故要使用穩(wěn)定性好的金屬氧化物作為空穴傳輸層的摻雜物,例如氧化鉬,氧化鎢等.通過實驗發(fā)現(xiàn),通過選擇的這些金屬氧化物層可以有效地減少界面的勢壘高度,并提高空穴注入傳輸能力[6].如加強對電鍍使用氫等離子體的氟化鋰蒸發(fā)法處理ITO表面,空穴傳輸和注射能夠得到增強.此外,如果NPB作為空穴傳輸層還可以摻雜金屬材料,這樣不僅可以增強時間穩(wěn)定性,還可以延長該裝置的組件,并能增強空穴的注入和傳輸.因此,金屬鹵化物摻雜的器件性能影響已經(jīng)被廣泛研究.實驗結(jié)果表明:SrF2作為空穴傳輸層摻雜系統(tǒng)可以顯著提高空穴注入和空穴傳輸能力.通過調(diào)整SrF2的摻雜比例制造的OLED器件非常突出,通過改變SrF2的蒸鍍速率來控制摻雜比例,其余各層的制備過程和摻雜比例均相同,其準(zhǔn)確度靠蒸發(fā)源上獨立的石英膜厚探頭控制,為了系統(tǒng)研究SrF2對 OLED 器件空穴注入、傳輸特性及器件性能,設(shè)計了3%、6%和8%濃度的SrF2[6].最終實驗證明:3%和6%所設(shè)計的結(jié)構(gòu)性能太低,無法起到增強載流子傳輸?shù)淖饔?8%濃度的SrF2所設(shè)計的結(jié)構(gòu)性能相比之下能較好地增強載流子的傳輸.SrF2摻雜在空穴傳輸層NPB中,攻克了空穴注入不足的問題,改善了OLED器件的性能.

        2.3 向NPB中摻雜MgF2(氟化鎂)

        經(jīng)過多年的研發(fā),OLED得到了很大的發(fā)展,但是器件的啟亮電壓偏高,發(fā)光效率較低的關(guān)鍵問題還需要解決.OLED屬于注入式發(fā)光器件,在電壓的驅(qū)動下,空穴和電子分別從正電極和負(fù)電極注入到發(fā)光層,然后復(fù)合形成激子使發(fā)光分子激發(fā),后者經(jīng)過輻射后發(fā)出可見光.為了提高器件的發(fā)光效率,必須提高正負(fù)載流子的復(fù)合幾率,這就要求向空穴注入層注入的空穴和電子注入層注入的電子數(shù)目相當(dāng),空穴和電子在發(fā)光層中的傳輸相平衡[2].傳統(tǒng)的OLED是三明治結(jié)構(gòu)ITO/NPB/ Alq3/Al,由于電子的注入勢壘大于空穴的注入勢壘,而且N,N ′-bis-(1-Naphthy1) -N,N ′-bipheny1,1 ′-bipheny1-4,4 ′-diamine(NPB)的空穴傳輸性能要比Alq3的電子傳輸性能強,導(dǎo)致空穴和電子的注入、傳輸不平衡,因而導(dǎo)致器件的發(fā)光效率偏低.此次試驗以傳統(tǒng)的OLED三明治結(jié)構(gòu)ITO/NPB/ Alq3/Al為基礎(chǔ),通過在器件的空穴傳輸層NPB層中分別嵌入厚度為0.0、0.5、1.0、1.5 nm的MgF2超薄層,通過實驗數(shù)據(jù)得知:MgF2為0.5 nm時,啟亮電壓與沒有嵌入MgF2時相比明顯降低,隨著嵌入層厚度的增加,器件啟亮電壓逐漸提高,當(dāng)嵌入層為1.5 nm時低于普通器件[7].

        3 結(jié)語

        從以上分析中可以看出,空穴傳輸層NPB的厚度對器件性能起著至關(guān)重要作用,當(dāng)NPB厚度為50nm時器件的性能最好,NPB應(yīng)考慮匹配的有機層的厚度和水平,因為載流子注入層太薄或太厚都會影響裝置的性能.NPB作為空穴傳輸層的材料也可以單獨使用,但效果并不理想,發(fā)光效率不高,需要加以改進.在NPB中分別摻雜MgF2、Alq3、 SrF2,這樣既可以提高激子的復(fù)合幾率,又能使器件的光電特性更加穩(wěn)定[8].此外,還降低了啟亮電壓,提高了裝置的發(fā)光效率和發(fā)光亮度.

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