趙金航,李 博
(中航飛機(jī)起落架有限責(zé)任公司,陜西 漢中 723200)
鉻是一種微帶藍(lán)色的銀白色金屬,金屬鉻在空氣中極易鈍化,表面形成一層極薄的鈍化膜,從而顯示出貴金屬的性質(zhì)。鍍鉻層具有很高的硬度,根據(jù)鍍液成分和工藝條件不同,其硬度可在400~1200 HV 內(nèi)變化。另外鉻鍍層有較好的耐熱性,在500 ℃時(shí)才開始氧化變色。鍍鉻層的摩擦系數(shù)也較?。?],特別是干摩擦系數(shù)在所有金屬中最低,所以鉻鍍層具有較好的耐磨性。同時(shí),鍍鉻層具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性,與酸、堿、鹽及大多數(shù)有機(jī)物均不發(fā)生反應(yīng)。由于鍍鉻層具有優(yōu)良的機(jī)械性能和防護(hù)性能,已在飛機(jī)起落架上廣泛應(yīng)用[2]。為滿足某型號(hào)飛機(jī)起落架鍍鉻層質(zhì)量要求,開展了鍍硬鉻新工藝研究,制備的鍍層滿足質(zhì)量要求,具有一定的借鑒推廣價(jià)值[3]。
硬度、結(jié)合力試件材料為300M 鋼,尺寸為100 mm ×25 mm × 1 mm,鍍層厚度為80~100 μm;氫脆試件材料為AISI 4340,選用ASTM F 519 1a1型試棒,鍍層厚度為50±5 μm。
采用DUALSCOPE FMP40 型涂層測厚儀對(duì)各試件的鍍層厚度進(jìn)行測量;采用GW1-7 型7 mm 彎折實(shí)驗(yàn)器對(duì)試件進(jìn)行結(jié)合力檢測;用HMV-G-FA-D顯微維氏硬度計(jì)對(duì)鍍層硬度進(jìn)行檢測;采用QD-100氫脆實(shí)驗(yàn)專用實(shí)驗(yàn)機(jī)進(jìn)行試棒氫脆性檢測。
基體表面狀態(tài)檢查→蒸汽除油→吹氧化鋁→水洗→裝掛和保護(hù)→冷水洗(30 s,水膜連續(xù)性檢查)→預(yù)熱→陽極腐蝕→電鍍硬鉻→水洗→堿清洗→流動(dòng)冷水洗→拆卸夾具→壓縮空氣吹干→除氫→檢驗(yàn)。
各工序工藝配方與操作參數(shù)如下。
(1)蒸汽除油:介質(zhì)三氯乙烯、溫度86 ℃~92 ℃、時(shí)間3~5 min。
(2)吹氧化鋁:150 目白剛玉,風(fēng)壓0.2 MPa、距離250 mm。
(3)電鍍硬鉻:鍍液成分 CrO3270~310 g/L、Cr2O31~15 g/L 、H2SO4/CrO30.4% ~ 0.8% 、Fe<15 g/L、F-3~4 g/L。
電鍍過程包括陽極腐蝕、沖擊電鍍、正常電鍍?nèi)剑鞑降墓に噮?shù)如表1所示。
表1 電鍍過程工藝參數(shù)表Tab.1 Process parameter of electroplating process
(4)堿清洗:堿洗液成分Oakite 90型 45~90 g/L,堿洗溫度82~93 ℃,時(shí)間3~5 min。
(5)除氫:溫度190±5 ℃,時(shí)間> 23 h,需在電鍍后3 h內(nèi)開始除氫處理。
(1)厚度:硬度、結(jié)合力試片鉻層厚度80~100 μm,氫脆試棒鉻層厚度45~55 μm。
(2)結(jié)合力:待測試件反復(fù)彎曲180°直到發(fā)生斷裂,斷裂處鍍層應(yīng)無裂紋或脫落。
(3)硬度:在結(jié)合力試件上進(jìn)行硬度測試,鍍層硬度值800~1200 HV。
(4)氫脆性:按照ASTM-F-519 要求進(jìn)行試棒加載,在75 %荷載拉伸力下至少200 h 不發(fā)生斷裂。
將鍍槽清洗干凈,使用配制溶液的水作為最后一遍的清洗水。計(jì)算鉻酐、硫酸和氟硅酸的用量,向鍍槽注入約三分之二體積的水,打開抽風(fēng),再將計(jì)量的鉻酐加入鍍槽,攪拌至鉻酐完全溶解,然后加水至規(guī)定的體積,攪拌均勻。取樣分析,按分析結(jié)果邊攪拌邊加入計(jì)量的硫酸,攪拌均勻。待溶液冷卻后向槽內(nèi)加入計(jì)量的氟硅酸。重新取樣分析,根據(jù)分析結(jié)果,通電處理以獲得要求的三價(jià)鉻濃度,并作好配制記錄。
(1)按要求對(duì)溶液進(jìn)行分析,并按照分析結(jié)果調(diào)整各組分到控制范圍內(nèi)。
(2)通電處理:將溶液加熱至工作溫度,通電至溶液含Cr3+(按Cr2O3計(jì))3~8 g/L,通電工藝參數(shù)如下:溫度40~60 ℃、陰極電流密度1~2 A/dm2、陰極面積/陽極面積≥10。
(3)每次工作前,將溶液調(diào)整到工作液面并攪拌均勻。
(4)電鍍?nèi)芤褐辛蛩岣窟^高時(shí),可用碳酸鋇或氫氧化鋇除去多余的硫酸,每多1 g 硫酸,需添加碳酸鋇2.5 g 或氫氧化鋇2 g。處理時(shí),從鍍鉻槽中取出計(jì)量的溶液于沉淀槽中,并在攪拌條件下緩慢加入計(jì)量的碳酸鋇或氫氧化鋇溶液,經(jīng)過4~5 h 反應(yīng)后,停止攪拌并使鍍鉻溶液靜置沉降,然后過濾除去硫酸鋇沉淀,再將上清液倒回鍍鉻槽,并攪拌均勻。
(5)電鍍?nèi)芤褐新入x子超標(biāo)時(shí),按下述參數(shù)通電處理,以達(dá)到控制要求:溫度60~70 ℃、陰極電流密度80~100 A/dm2。
(6)當(dāng)電鍍?nèi)芤褐械牧蛩帷r3+超標(biāo)時(shí),允許采用稀釋方法調(diào)整:從鍍鉻槽中取出計(jì)量的溶液存放于儲(chǔ)備槽中,加水稀釋鍍鉻槽液并依據(jù)分析結(jié)果加入計(jì)量的鉻酐,攪拌至完全溶解,重新分析、調(diào)整,合格后即可使用[4]。
采用涂層測厚儀對(duì)硬度、結(jié)合力試件和氫脆試棒的鍍層厚度進(jìn)行測量,結(jié)果見表2。測試結(jié)果表明各試件的鍍層厚度均符合要求,但存在試件邊緣及棱邊部位鍍層較其他部位偏厚的現(xiàn)象。[5]
表2 不同試件的鍍層厚度Tab.2 Coating thickness of different test pieces
電鍍硬鉻試件照片如圖1 所示,可以看出鍍層表面光滑、無毛刺、結(jié)合力良好,而且無氣泡、麻點(diǎn)、結(jié)瘤、空隙及尖角部位過厚和燒焦的現(xiàn)象,外觀檢測合格。在溶液中添加氟硅酸,它兼有活化鍍層表面的作用,且可在電流中斷或二次鍍鉻時(shí)仍得到光亮的鍍層。
圖1 電鍍硬鉻試件的照片F(xiàn)ig.1 Photograph of the electroplated hard chromium specimen
采用彎曲法進(jìn)行結(jié)合力檢驗(yàn),將試件用彎折器夾緊,反復(fù)彎曲180°,直至基體金屬折斷,目視或在五倍放大鏡條件下檢查斷口,結(jié)果如圖2 所示。可以看出,鍍層與基體無脫落或剝離的現(xiàn)象,鍍層結(jié)合力檢測合格。
圖2 試片結(jié)合力檢測結(jié)果Fig.2 Test result of test piece binding force
采用顯微維氏硬度計(jì)進(jìn)行鉻鍍層硬度檢測,測點(diǎn) 1 檢測結(jié)果為硬度 841 HV0.2,測點(diǎn) 2 為 859 HV0.2?;究梢酝茢啵嚇鱼t鍍層硬度滿足800~1200 HV要求,鉻層硬度檢測合格。
隨著鉻酐和硫酸含量的增加,槽液濃度升高,電鍍鉻后鉻層更加致密,且在電鍍槽液中用氟離子作為催化劑(氟硅酸)后,鉻層硬度較大。
采用QD-100型號(hào)拉伸試驗(yàn)機(jī)按ASTM F519要求對(duì)試棒氫脆性進(jìn)行檢測,氫脆試棒在75%荷載拉伸力下200 h未發(fā)生斷裂,氫脆測試合格。槽液中游離的F-可與電鍍過程中產(chǎn)生的H+結(jié)合,生成弱酸性的HF,進(jìn)而減少氫離子與電子結(jié)合成原子氫的機(jī)會(huì),使?jié)B透到金屬中的氫原子減少,從而改善了鍍層的氫脆性[6]。
(1)新配方的鍍鉻溶液穩(wěn)定,分散能力和覆蓋能力與原溶液相當(dāng),維護(hù)方便。
(2)新鍍鉻工藝制備的鍍層外觀、硬度、鉻層致密性優(yōu)于原鍍鉻溶液,氫脆性能與原鍍鉻工藝相當(dāng),產(chǎn)品性能不亞于原鍍鉻工藝。
(3)新鍍鉻工藝與原鍍鉻工藝均適用于抗拉強(qiáng)度σb≥1300 MPa的鋼鐵零件的電鍍鉻。