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        鍍覆孔內(nèi)鍍銅異常原因分析與改善

        2021-12-08 01:20:38謝慈育宗高亮王擴(kuò)軍李得志冉光武
        印制電路信息 2021年11期
        關(guān)鍵詞:鍍錫孔內(nèi)鍍銅

        謝慈育 宗高亮 王擴(kuò)軍 李得志 冉光武

        (深圳市板明科技股份有限公司,廣東 深圳 518127)

        1 圖形電鍍通孔鍍銅異常背景

        印制電路板(PCB)生產(chǎn)過(guò)程中的圖形電鍍,是在完成全板鍍銅和圖形轉(zhuǎn)移后,帶干膜抗蝕圖形的在制板進(jìn)行二次鍍銅,以達(dá)到產(chǎn)品的總銅厚要求,并在線路銅面鍍錫,作為后工序堿性蝕刻的抗蝕層。相比一次性全板鍍銅完成總銅厚的酸性蝕刻流程,圖形電鍍和堿性蝕刻工藝具有適應(yīng)線寬、線距小,線路寬度控制精度高和鍍銅成本低的優(yōu)勢(shì),目前仍是PCB精細(xì)線路生產(chǎn)的主流工藝。

        然而,有客戶向我們咨詢,圖形電鍍工序不時(shí)發(fā)現(xiàn)有通孔孔內(nèi)二次銅電鍍異常的情況??字虚g的二次銅完全沒(méi)有鍍上,孔中間的總銅厚遠(yuǎn)沒(méi)有達(dá)到標(biāo)準(zhǔn),如圖1所示。而且經(jīng)過(guò)堿性蝕刻后孔中間沒(méi)有形成斷銅,在線和終檢電測(cè)均無(wú)法準(zhǔn)確發(fā)現(xiàn),給終端產(chǎn)品帶來(lái)嚴(yán)重可靠性隱患。急需找出出現(xiàn)問(wèn)題的原因所在,并進(jìn)行相應(yīng)的改善和預(yù)防措施,避免造成終端產(chǎn)品重大可靠性問(wèn)題。

        圖1 抽查發(fā)現(xiàn)的二次鍍銅孔內(nèi)電鍍異常切片圖

        2 通孔鍍銅異常因素分析

        圖形電鍍工序流程為:除油—一、二級(jí)水洗—微蝕—一二級(jí)水洗—酸浸—鍍銅—一二級(jí)水洗—預(yù)浸—鍍錫—一二級(jí)水洗—烘干。

        對(duì)通孔鍍銅異常的進(jìn)行收集、整理,有以下特點(diǎn):

        (1)圖形電鍍的二次在孔口附近位置的孔銅是正常的,在距離板面1/4左右位置開(kāi)始銅厚快速變薄,直至完全沒(méi)有鍍上二次銅;

        (2)鍍銅異常切片情況很像電鍍過(guò)程孔內(nèi)有氣泡導(dǎo)致孔中間接觸不到鍍液而造成的鍍銅異常。之前生產(chǎn)線做過(guò)多次對(duì)比測(cè)試,從打氣、搖擺、震動(dòng)等參數(shù),確認(rèn)不是氣泡造成的該產(chǎn)線鍍銅異常的主要原因;

        (3)主要發(fā)生異常的板厚集中在1.4~1.6 mm,孔徑在0.25~0.30 mm之間。同時(shí),此類板厚/孔徑也是該生產(chǎn)線的主流生產(chǎn)設(shè)計(jì);

        (4)因?yàn)殄冦~異??自谖g刻后孔內(nèi)完全沒(méi)有受到蝕刻藥水的攻擊,說(shuō)明鍍錫層是正常的。

        3 試驗(yàn)設(shè)計(jì)與驗(yàn)證

        找出可能造成通孔鍍銅異常的各種因素,為圖形電鍍生產(chǎn)改善通孔鍍銅異常提供指導(dǎo)方向,設(shè)計(jì)一系列試驗(yàn)方案見(jiàn)表1所示。

        表1 初步試驗(yàn)過(guò)程

        試驗(yàn)設(shè)計(jì)說(shuō)明如下。

        (1)測(cè)試前把全部前處理槽清洗并重新開(kāi)缸,分析前處理、鍍銅槽確認(rèn)各藥水濃度在控制范圍內(nèi),排除藥水濃度控制超范圍的影響因素;

        (2)測(cè)試板板厚/孔徑按同行反饋的出現(xiàn)鍍銅異常頻率較高1.6 mm/0.25 mm;

        (3)每組試驗(yàn)切片分析300個(gè)通孔以上。

        從表1測(cè)試結(jié)果可以看出如下幾點(diǎn)。

        (1)在圖形電鍍銅的電鍍過(guò)程中,陰極不同搖擺頻率沒(méi)有對(duì)鍍銅異常產(chǎn)生影響。在試驗(yàn)設(shè)置的搖擺頻率范圍內(nèi),均可趕出孔內(nèi)氣泡,并進(jìn)行正常鍍銅;

        (2)試驗(yàn)中未發(fā)現(xiàn)降低顯影后水洗效果會(huì)造成鍍銅異常。試驗(yàn)過(guò)程發(fā)現(xiàn)其它由于顯影后水洗不凈造成的外觀不良,因與本試驗(yàn)?zāi)康臒o(wú)關(guān),不做描述;

        (3)試驗(yàn)(3)模擬加大纏繞式過(guò)濾棉芯的用量,結(jié)果說(shuō)明過(guò)濾棉芯造成了鍍液污染,引起電鍍銅異常。并且不同品牌的過(guò)濾棉芯對(duì)鍍液的污染程度不同;

        (4)在制板在較差的環(huán)境存放時(shí)間過(guò)久會(huì)造成孔內(nèi)深度氧化或污染,并且正常的圖形電鍍除油、微蝕前處理無(wú)法去除干凈,在二次鍍銅時(shí)孔內(nèi)存在抗鍍現(xiàn)象,從而形成鍍銅異?,F(xiàn)象。

        從以上試驗(yàn)發(fā)現(xiàn),過(guò)濾棉芯和電鍍前通孔孔內(nèi)抗鍍層都會(huì)形成鍍銅異常。接下來(lái)針對(duì)這兩方面的改善措施進(jìn)行一些試驗(yàn)驗(yàn)證(見(jiàn)表2所示),以確保改善措施的有效性。

        從表2可知,纏繞式過(guò)濾棉芯確實(shí)附帶污染物,此污染物可以通過(guò)堿泡、酸泡的方式去除干凈,再投入使用,未發(fā)現(xiàn)有鍍銅異常。

        表2 改善和預(yù)防措施驗(yàn)證表

        對(duì)比加強(qiáng)電鍍前處理和除膠渣。加強(qiáng)前處理后仍發(fā)現(xiàn)有通孔鍍銅異常,而做過(guò)除膠渣的測(cè)試板則未發(fā)現(xiàn)有通孔鍍銅異常。說(shuō)明通孔孔內(nèi)不單是氧化問(wèn)題,而且存在油脂類的抗鍍層存在,此抗鍍層無(wú)法簡(jiǎn)單通過(guò)加強(qiáng)前處理以去除。雖然可以通過(guò)增加除膠渣工藝來(lái)消除異常的抗鍍層,但不能作為正常生產(chǎn)常規(guī)流程。所以合理控制在線待電鍍板的存放環(huán)境和時(shí)間才是解決問(wèn)題的有效方法。

        從生產(chǎn)情況分析,待電鍍孔內(nèi)的抗鍍層會(huì)引起二次銅抗鍍,但是在接著的鍍錫過(guò)程中沒(méi)有出現(xiàn)類似的抗鍍情況。鍍錫藥水的濕潤(rùn)效果和在低電位的電鍍能力可以克服此類輕微抗鍍問(wèn)題。說(shuō)明抗鍍層很薄或者說(shuō)是輕微,有可能可以通過(guò)電鍍添加劑的改良來(lái)克服。板明公司針對(duì)此以上情況現(xiàn)象,對(duì)電鍍添加劑做了調(diào)整。

        為驗(yàn)證添加劑的調(diào)整效果,取多種添加劑進(jìn)行試驗(yàn)對(duì)比。有板明A(調(diào)整前)、板明B(調(diào)整后)、市商C(外資供應(yīng)商)和市商D(國(guó)內(nèi)供應(yīng)商)四種添加劑,進(jìn)行同等條件:待鍍板走正常除油-水洗-微蝕-水洗-酸浸前處理流程,鍍液濃度按正常生產(chǎn)控制中值進(jìn)行電鍍,情況如表3所示。

        表3 不同添加劑試驗(yàn)對(duì)比表

        對(duì)比試驗(yàn)的結(jié)果說(shuō)明,目前市場(chǎng)上幾個(gè)在用的電鍍添加劑對(duì)待鍍板孔內(nèi)有抗鍍層的,正常條件下生產(chǎn),均出現(xiàn)通孔鍍銅異常情況,其中板明B添加劑對(duì)抗鍍有明顯的改善作用。

        4 結(jié)論

        通孔孔內(nèi)電鍍異常,除了常見(jiàn)的通孔內(nèi)停留氣泡造成孔內(nèi)電鍍不良外,過(guò)濾棉芯等造成的電鍍藥水污染,和待鍍板存放不當(dāng)造成的孔壁銅抗鍍,都會(huì)造成通孔孔內(nèi)鍍銅異常。可以通過(guò)過(guò)濾棉芯堿泡、酸泡,控制待鍍板的存放條件,保證通孔電鍍的正常進(jìn)行。同時(shí),板明新的電鍍添加劑濕潤(rùn)性良好,可很大程度上避免出現(xiàn)通孔電鍍不良。

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