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        殼聚糖負(fù)載磁性納米零價(jià)銅的制備及其催化還原活性

        2021-06-17 08:07:12馬慧婕章耀鵬沈忱思
        化工環(huán)保 2021年3期
        關(guān)鍵詞:前驅(qū)投加量殼聚糖

        馬慧婕,李 豪,李 方,章耀鵬,沈忱思

        (東華大學(xué) 環(huán)境科學(xué)與工程學(xué)院 國家環(huán)境保護(hù)紡織工業(yè)污染防治工程技術(shù)中心,上海 201620)

        利用零價(jià)金屬處理環(huán)境污染物一直是污染治理領(lǐng)域的研究熱點(diǎn),其中,零價(jià)鐵(ZVI)的研究及應(yīng)用最為廣泛,ZVI可以有效還原多種有機(jī)污染物和金屬離子,同時(shí)在吸附還原污染物及污染原位修復(fù)技術(shù)中也極具應(yīng)用價(jià)值[1-3]。但在ZVI去除污染物時(shí),常因H+的消耗在顆粒表面形成鐵氧化物鈍化層而削弱其活性[4-5]。為了避免ZVI粒子過于活潑的問題,在水中相對穩(wěn)定的零價(jià)銅(ZVC)材料逐漸獲得關(guān)注[6]。相比一般的零價(jià)金屬而言,納米金屬具有特有的表面效應(yīng)和小尺寸效應(yīng),從而具有更優(yōu)越的吸附性能和還原活性,但需要注意的是,納米金屬的制備過程容易發(fā)生團(tuán)聚[7]。支撐介質(zhì)是減少納米金屬離子聚集、提高金屬離子穩(wěn)定性的重要因素之一[8]。在眾多支撐介質(zhì)中,天然高分子材料因資源豐富且生物相容性好而備受關(guān)注。殼聚糖(CS)是一種來自甲殼素不完全脫乙?;奶烊桓叻肿泳酆衔铮浣Y(jié)構(gòu)中含有豐富的—NH2、—OH基團(tuán),能夠與金屬離子發(fā)生配位作用,同時(shí)也具有優(yōu)異的可塑性和較強(qiáng)的穩(wěn)定性,常用作催化劑載體[9]。此外,也有研究表明,殼聚糖作為前驅(qū)體不但能夠提供大量成核位點(diǎn),在晶體的形成過程中還能起到限域作用,從而合成出尺寸均勻的納米材料[10-11]。

        本工作選用殼聚糖-鐵(Ⅱ)-銅(Ⅱ)絡(luò)合物作為前驅(qū)體,利用鐵銅間的氧化還原作用及殼聚糖作為還原性糖的特點(diǎn),通過水熱法一步制備出ZVC及Fe3O4的固載混合物。選用需要還原減毒的化工中間體4-硝基苯酚(4-NP)及常見的染料污染物亞甲基藍(lán)(MB)作為目標(biāo)污染物,對溶液pH、還原劑投加量、污染物及鹽離子濃度等因素進(jìn)行考察,評估ZVC材料的催化還原性能。

        1 實(shí)驗(yàn)部分

        1.1 試劑和儀器

        CS、四水合氯化亞鐵(FeCl2·4H2O)、乙酸銅((CH3COO)2Cu·H2O)、乙酸(CH3COOH)以及硼氫化鈉(NaBH4)均由國藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司提供。4-NP,MB均由上海麥克林生化有限公司提供。四氧化三鐵(Fe3O4)納米顆粒、納米零價(jià)銅(Cu0)均購于先豐納米科技有限公司。實(shí)驗(yàn)所用試劑均為分析純。

        紫外分光光度計(jì)(Specord 200型,德國耶拿公司);X射線衍射儀(Bruker AXSD8型,德國布魯克公司);X射線光電子能譜分析儀(ESCALAB 250XI型,美國賽默飛公司);掃描電子顯微鏡(TM-100型,日本日立公司),透射電子顯微鏡(H-7650型,日本日立公司)。

        1.2 實(shí)驗(yàn)方法

        1.2.1 催化劑的制備

        分別稱取殼聚糖0.200 0g及氯化亞鐵4.970 3g加入至100 mL 1%(w)的乙酸溶液中,攪拌至殼聚糖溶解形成殼聚糖-鐵(Ⅱ)溶液。稱取乙酸銅1.996 3g溶于50 mL 1%(w)的乙酸溶液中,再緩慢加入至殼聚糖-鐵(Ⅱ)溶液中,在室溫下持續(xù)攪拌4 h,配制成殼聚糖-鐵(Ⅱ)-銅(Ⅱ)絡(luò)合物前驅(qū)體。向前驅(qū)體中緩慢滴加0.1 mol/L氫氧化鈉溶液至pH大于11,穩(wěn)定1 h后離心分離沉淀物。沉淀使用超純水洗至中性后轉(zhuǎn)入反應(yīng)釜,并在釜內(nèi)加入超純水至100 mL,于180 ℃水熱反應(yīng)12 h,使用超純水再次洗凈,于60 ℃烘干后制得殼聚糖負(fù)載磁性納米零價(jià)銅(記為mZVC/CS)材料。

        為了方便對比,分別稱取納米級別的Fe3O43.026 0g及Cu00.640 0g(與mZVC/CS制備相同的Fe及Cu的物質(zhì)的量),將Fe3O4與Cu0加入至乙酸(1%(w))溶解的殼聚糖(0.200 0g)溶液(100 mL)中,緩慢滴加0.1 mol/L氫氧化鈉溶液至pH大于11,后續(xù)步驟同上,分別制得殼聚糖負(fù)載Fe3O4和殼聚糖負(fù)載Cu0,記為Fe3O4/CS和Cu0/CS。

        1.2.2 4-NP和MB的催化還原

        為了考察催化劑金屬組分對材料催化性能的影響,稱取干燥后的CS、Fe3O4/CS、Cu0/CS及mZVC/CS材料各0.05g,分別加入至100 mL質(zhì)量濃度為20 mg/L的4-NP溶液和質(zhì)量濃度為20 mg/L的MB溶液中,再各加入1.0 mol/L的NaBH4溶液0.2 mL,于室溫下攪拌(450 r/min)反應(yīng),每隔一定時(shí)間取樣,使用0.45 μm尼龍膜過濾后待測。在相同條件下,以單獨(dú)使用NaBH4實(shí)驗(yàn)組、單獨(dú)使用mZVC/CS實(shí)驗(yàn)組、mZVC/CS+H2O2實(shí)驗(yàn)組(H2O2加入量為40 mmol/L)進(jìn)行對比,考察mZVC/CS的催化性能。

        設(shè)定實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)條件為mZVC/CS投加量0.5g/L、NaBH4投加量2.0 mmol/L、不調(diào)節(jié)初始污染物溶液pH(需調(diào)節(jié)時(shí)使用0.1 mol/L的NaOH和HCl溶液)和初始污染物質(zhì)量濃度20 mg/L,分別改變單一因素,考察各因素對催化還原效果的影響。

        向兩種污染物溶液中分別加入20 mg/L的不同種類的鹽,其中含有污染物4-NP的溶液反應(yīng)30 min、含有污染物MB的溶液反應(yīng)5 min,考察共存離子對催化還原效果的影響。

        待反應(yīng)完成后(4-NP溶液反應(yīng)30 min,MB溶液反應(yīng)5 min),用磁鐵將mZVC/CS分離出來,用0.01 mol/L的HCl溶液洗凈烘干后,進(jìn)行循環(huán)實(shí)驗(yàn),考察mZVC/CS的重復(fù)使用性能。

        1.3 分析方法

        采用紫外分光光度計(jì)分別在405 nm和665 nm波長下測定4-NP和MB溶液的吸光度,用吸光度的變化表征污染物的去除效果。

        采用XRD、XPS、SEM和TEM技術(shù)對催化劑進(jìn)行表征。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 催化劑的表征結(jié)果

        2.1.1 XRD譜圖

        mZVC/CS的XRD圖譜如圖1a所示,其衍射峰與Cu0標(biāo)準(zhǔn)卡片ICSD 85-1326和Fe3O4標(biāo)準(zhǔn)卡片ICSD 85-4319相符合。mZVC/CS材料中2θ為43.3°,50.4°,74.1°的特征峰分別對應(yīng)于Cu0的(111),(200),(220)晶面;2θ為30.1°,35.4°,53.4°,56.9°,62.5°的特征峰分別對應(yīng)于Fe3O4的(220),(311),(422),(333),(440)晶面。而當(dāng)前驅(qū)體中沒有殼聚糖時(shí),制備獲得的粉末材料mZVC(111)晶面衍射峰峰強(qiáng)相對Fe3O4(311)晶面較弱,且具有明顯的Fe2O3衍射峰(圖1b,標(biāo)準(zhǔn)卡片ICSD 33-0664)。由此可知,前驅(qū)體中的Cu2+與Fe2+在合成過程中會發(fā)生氧化還原反應(yīng),Cu2+還原為Cu0,F(xiàn)e2+則氧化為Fe3O4及Fe2O3[12]。mZVC/CS前驅(qū)體中含有的乙酸與殼聚糖均具有一定的還原作用[13-14],當(dāng)前驅(qū)體中沒有殼聚糖存在時(shí),如圖1b所示,F(xiàn)e(Ⅱ)及Cu(Ⅱ)也能在乙酸存在下生成Fe3O4及Cu2O,但Fe2O3含量較高;當(dāng)殼聚糖存在時(shí),由于殼聚糖對晶體成核的促進(jìn)作用及本身的還原作用,可避免更多的Fe2O3生成[15]。

        2.1.2 XPS譜圖

        mZVC/CS的XPS譜圖如圖2所示。Cu 2p譜圖中,位于結(jié)合能931.3 eV和951.2 eV處的特征峰峰值較大,分別對應(yīng)Cu0的Cu 2p3/2和Cu 2p1/2,而在932.1 eV和952.5 eV處的特征峰峰值較小,分別對應(yīng)Cu+的Cu 2p3/2和Cu 2p1/2,由此表明在材料中大部分的Cu元素以Cu0的形態(tài)存在[16]。Fe 2p譜圖中,位于結(jié)合能710.3 eV和724.1 eV處的峰為Fe2+特征峰,位于結(jié)合能712.4 eV和727.3 eV處的峰為Fe3+特征峰,與Fe3O4中鐵元素的價(jià)態(tài)組成一致[17]。

        圖1 mZVC/CS(a)及mZVC(b)的XRD譜圖

        圖2 mZVC/CS的XPS譜圖

        2.1.3 SEM和TEM照片

        圖3為mZVC/CS的TEM及SEM照片。由圖3a~3c可知,mZVC/CS由直徑約100 nm的大顆粒及直徑約9 nm的小顆粒組成。從不同放大倍數(shù)的SEM照片(圖3d~3f)可進(jìn)一步看出大顆粒近立方形態(tài),表面黏附數(shù)量較多的球形小顆粒。結(jié)合圖3g和圖3h的元素分布結(jié)果可知,近方形的大顆粒主要成分為Cu元素,而散布的小顆粒主要成分為Fe元素。由此可認(rèn)為,mZVC/CS中Cu0為100 nm左右的立方顆粒,F(xiàn)e3O4則為尺寸更小的球形顆粒。

        2.2 催化還原效果的影響因素

        2.2.1 催化劑金屬組分

        mZVC/CS的催化活性如圖4所示。當(dāng)NaBH4單獨(dú)作用時(shí),4-NP及MB的去除率約為10%及20%,遠(yuǎn)不及mZVC/CS存在時(shí)的效率。而添加氧化劑H2O2時(shí),這兩類污染物也較難去除,說明污染物用還原轉(zhuǎn)化的處理方式更為適用。同時(shí),在沒有氧化劑或還原劑存在下,mZVC/CS也幾乎無法去除污染物,說明催化劑對污染物的吸附效率或直接還原效率均非常低。由此得出,mZVC/CS對還原劑NaBH4具有顯著的催化作用。

        為了驗(yàn)證mZVC/CS中不同組分對NaBH4的催化作用,分別利用CS、Fe3O4/CS、Cu0/CS和mZVC/CS進(jìn)行比較。如圖5所示,MB較4-NP更易被還原,在mZVC/CS作用下,5 min內(nèi)即可被NaBH4還原脫色,而4-NP在5 min時(shí)的去除率約為90%,30 min內(nèi)可完全轉(zhuǎn)化。相同條件下,CS、Fe3O4/CS和Cu0/CS催化NaBH4還原污染物的效率均遠(yuǎn)不及mZVC/CS。其中,Cu0/CS對較容易還原的MB有一定的轉(zhuǎn)化效率,而CS和Fe3O4/CS催化下的污染物去除率均不足20%。因此推測,在污染物的還原過程中,mZVC/CS中的Cu0組分對還原劑NaBH4的催化占主導(dǎo)作用。由于購買的Fe3O4及Cu0的粒徑與mZVC/CS中的相同組分粒徑存在差異,且非原位合成的納米顆粒在制備過程中易團(tuán)聚,由此造成的效率差異也不可忽視。

        圖4 mZVC/CS的催化活性

        圖5 催化劑金屬組分對污染物去除效果的影響

        2.2.2 mZVC/CS投加量

        圖6為催化劑mZVC/CS在不同投加量下催化NaBH4還原4-NP和MB的去除效果。從圖6可以看出,隨著催化劑投加量的增加,污染物的去除效率也隨之增加,當(dāng)催化劑的投加量為0.5g/L時(shí),對4-NP和MB的去除率均達(dá)99%以上,幾乎被完全去除。這是由于mZVC/CS含量的增加導(dǎo)致生成的活性組分Cu0的含量增加,從而增加了電子轉(zhuǎn)移數(shù)量和催化活性位點(diǎn),提高了NaBH4的還原效率。而當(dāng)催化劑的投加量繼續(xù)增加時(shí),污染物的去除效率無明顯提高。綜合考慮藥劑成本和去除效果,本研究選用0.5g/L作為催化劑的最佳投加量。

        圖6 mZVC/CS投加量對污染物去除效果的影響

        2.2.3 NaBH4投加量

        mZVC/CS催化不同濃度NaBH4還原4-NP和MB的效果如圖7所示。

        隨著NaBH4投加量從0.2 mmol/L增至2.0 mmol/L,5 min時(shí)的4-NP去除率由2.5%增至85.9%,MB去除率由37.4%增至99.7%。這是由于濃度增加時(shí)NaBH4提供電子的能力顯著上升,使得污染物的還原速率大幅增加[18]。

        圖7 NaBH4投加量對污染物去除效果的影響

        2.2.4 初始溶液pH

        從圖8可以看出,在mZVC/CS催化去除4-NP和MB過程中,溶液的初始pH對污染物的去除效果幾乎沒有影響,在pH為3.0~9.0的范圍內(nèi)均能保持較高的去除率。

        2.2.5 污染物初始濃度

        不同污染物初始濃度下,mZVC/CS催化NaBH4還原4-NP和MB的效果如圖9所示。

        圖8 初始溶液pH對污染物去除效果的影響

        圖9 污染物初始濃度對其去除效果的影響

        當(dāng)污染物增至100 mg/L時(shí),其去除率輕微下降,但30 min內(nèi)4-NP的去除率在90%以上,5 min內(nèi)MB幾乎完全去除,由此可以得出mZVC/CS材料對高濃度的污染物也能維持較高的去除效率。

        2.2.6 共存離子

        實(shí)際的染料廢水中經(jīng)常會有高濃度的鹽存在,因此為了驗(yàn)證催化劑的抗干擾能力,本研究首先固定Cl-作為陰離子,考察了NaCl,KCl,CaCl2,MgCl2鹽溶液中陽離子對污染物去除效果的影響。此后,固定Na+作為陽離子,考察了Na2SO4,Na3PO4,NaCl鹽溶液中陰離子對污染物去除效果的影響。如圖10所示,鹽溶液中不同的陽離子和陰離子對MB的去除率幾乎沒有影響,但是對4-NP的還原卻有較大的抑制作用,使得4-NP的去除率只有50%左右。這可能是由于4-NP的催化還原過程需要先得電子產(chǎn)生硝基酚離子,再得電子生成還原產(chǎn)物4-硝基苯胺[8],相比MB而言,該還

        原過程需要更多的電子傳遞。當(dāng)陰離子種類固定陽離子種類不同時(shí),NaCl、KCl、CaCl2、MgCl2對4-NP還原的負(fù)面影響程度沒有明顯差異;但固定陽離子不變時(shí),不同鹽類對4-NP還原的抑制規(guī)律表現(xiàn)為PO43->Cl->SO42-。根據(jù)唐次來等[19]的報(bào)道,PO43-等陰離子可通過吸附作用占據(jù)Fe0粒子表面的活性位點(diǎn)影響污染物的還原。這與本實(shí)驗(yàn)的研究結(jié)果相似。因此,本研究認(rèn)為4-NP還原受到的負(fù)面影響主要來源于陰離子,且SO42-、PO43-與Cl-等陰離子易通過占據(jù)活性位點(diǎn)而導(dǎo)致還原過程中電子傳遞效率下降,影響了污染物的還原。此類催化材料的抗鹽離子干擾能力還需在今后的工作中進(jìn)一步加強(qiáng)。

        2.3 催化劑的重復(fù)使用性能

        mZVC/CS重復(fù)使用10次的污染物去除效果以及使用前和重復(fù)使用10次后的XRD譜圖分別如圖11和圖12所示??梢钥闯?,mZVC/CS材料重復(fù)使用10次之后,對4-NP和MB的去除率均維持在一個(gè)較高的水平,且在重復(fù)使用10次之后材料中Cu0組分的衍射峰強(qiáng)度幾乎沒有減弱。由此可以證明,mZVC/CS在NaBH4還原污染物的過程中始終能夠保持較高的催化活性。

        圖10 共存離子對污染物去除率的影響

        圖11 mZVC/CS的重復(fù)使用性能

        圖12 mZVC/CS使用前和重復(fù)使用10次后的XRD譜圖

        2.4 催化機(jī)理分析

        催化劑被認(rèn)為是電子給體BH4-和電子受體分子4-NP、MB之間的電子轉(zhuǎn)移媒介,其電子轉(zhuǎn)移效率和速率在催化還原過程中起著決定性的作用[20]。負(fù)載于殼聚糖上的Cu0納米顆粒傳遞來自BH4?的電子給4-NP及MB分子實(shí)現(xiàn)催化過程,從而實(shí)現(xiàn)了污染物的還原反應(yīng)。其中殼聚糖乙酸溶液在前驅(qū)體中不但能有效促進(jìn)Cu(Ⅱ)至Cu0的還原,還能為Cu0及Fe3O4晶體的生長提供成核位點(diǎn)、對晶體的尺寸起到限制作用,使得金屬顆粒能夠以納米尺寸均勻生長并均勻分布在介質(zhì)上。另一方面,F(xiàn)e3O4的形成不但能夠賦予Cu0材料較強(qiáng)的磁性,使催化劑在使用后能夠通過外加磁場與水有效分離,也是污染物還原過程中的電子來源之一。

        3 結(jié)論

        a)表征結(jié)果顯示,本研究合成的mZVC/CS主要由CS負(fù)載的Fe3O4及Cu0納米顆粒組成。Cu0為100 nm左右的立方顆粒,F(xiàn)e3O4則為尺寸更小的球形顆粒。

        b)在污染物的還原過程中,mZVC/CS對還原劑NaBH4具有顯著的催化作用,且mZVC/CS中的Cu0組分對催化起主導(dǎo)作用。

        c)當(dāng)mZVC/CS投加量為0.5g/L、NaBH4投加量為2.0 mmol/L、初始溶液pH為3.0~9.0時(shí),初始質(zhì)量濃度為20 mg/L的4-NP(30 min內(nèi))和MB(5 min內(nèi))幾乎可被完全去除。

        d)鹽溶液中的陽離子和陰離子對MB的去除率幾乎沒有影響,但陰離子對4-NP的還原卻有較大的抑制作用。

        e)mZVC/CS材料重復(fù)使用10次后依然具有較高的催化活性。

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