邱心宇，王丹，徐燦，郭云，劉惠濤，高原

（1.煙臺(tái)大學(xué) 化學(xué)化工學(xué)院，山東 煙臺(tái) 264005；2.蘭州空間技術(shù)物理研究所真空技術(shù)與物理國(guó)防科技重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，蘭州 730000）

聚酰亞胺（Polyimide，PI）是綜合性能最佳的聚合物材料之一。自20 世紀(jì)50 年代出現(xiàn)以來(lái)，因其良好的柔韌性、優(yōu)異的機(jī)械和熱穩(wěn)定性、較高的玻璃化溫度和較小的質(zhì)量而被廣泛應(yīng)用于航空航天領(lǐng)域[1-3]。然而，地面模擬和星載試驗(yàn)表明，航天器材料長(zhǎng)期暴露在空間環(huán)境中，受超高真空（UHV）、原子氧（AO）、紫外（UV）輻射、電離輻射（高能電子和質(zhì)子等）以及微流星體和碎片的侵蝕和作用，會(huì)導(dǎo)致材料的熱、電、機(jī)械和光學(xué)系統(tǒng)的性能下降，對(duì)航天器正常運(yùn)行產(chǎn)生嚴(yán)重的危害，并可能導(dǎo)致航天任務(wù)的失敗[4-5]。其中，AO 對(duì)有機(jī)聚合物材料的危害最大。低地球軌道（LEO）是AO 存在最豐富的區(qū)域，當(dāng)航天器在200～700 km 的LEO 環(huán)境運(yùn)行時(shí)，能量為4.2～4.5 eV的AO 會(huì)逐漸降解聚合物材料的共價(jià)鍵和分子鏈，導(dǎo)致材料降解[6-8]。

解決LEO 環(huán)境中AO 侵蝕問(wèn)題的有效方法之一是在聚合物表面沉積結(jié)構(gòu)均勻的AO 耐蝕涂層[9-10]。二氧化硅等含硅氧化物已被證明是有效的抗AO 涂料，可防止AO 對(duì)底層聚合物的侵蝕[11-14]。采用溶膠-凝膠、磁控濺射等化學(xué)或物理的方法可在PI 表面沉積結(jié)構(gòu)均勻致密的SiO2涂層，提高聚合物抗侵蝕能力[15-16]。然而，當(dāng)航天器飛向太陽(yáng)或背向太陽(yáng)時(shí)，表面溫度可以從100 ℃變化到–100 ℃。由于SiO2涂層與PI 基體的熱膨脹系數(shù)差異較大，反復(fù)的熱循環(huán)易導(dǎo)致涂層開裂，機(jī)械穩(wěn)定性受損，使用壽命縮短[17]。為提高涂層與聚合物基體間的界面粘附性，研究者采用離子轟擊、等離子體氧化、紫外輻照和濕化學(xué)等方法對(duì)聚合物表面進(jìn)行活化和改性處理，去除表面鈍化層或使表面產(chǎn)生極性官能團(tuán)[18-20]。相對(duì)于物理方法，一般來(lái)講，濕化學(xué)法設(shè)備簡(jiǎn)單、成本低。處理PI 常采用的方法有：一是利用PI 溶于堿性溶液的特點(diǎn)，去除表面鈍化層；二是利用偶聯(lián)劑的雙官能團(tuán)“橋接”作用，在涂層與基體之間構(gòu)筑良好的界面結(jié)合[21-22]。研究者根據(jù)聚合物基體的性質(zhì)，選取極性相似的SCA對(duì)基體進(jìn)行處理或改性，在此基礎(chǔ)上制備各種無(wú)機(jī)或無(wú)機(jī)有機(jī)雜化涂層。很多研究報(bào)道重點(diǎn)關(guān)注涂層的狀態(tài)與性能，但對(duì)這種“橋接”作用以及對(duì)涂層穩(wěn)定性產(chǎn)生的影響，相對(duì)關(guān)注較少。王丹等人[23]研究發(fā)現(xiàn)，經(jīng)過(guò)紫外輻照試驗(yàn)和溫度交變?cè)囼?yàn)，涂層保持完好的SiO2/Kapton 樣品，在水汽輻照綜合試驗(yàn)后出現(xiàn)涂層脫落現(xiàn)象。陸地環(huán)境中的水汽對(duì)聚酰亞胺表面的無(wú)機(jī)涂層具有很強(qiáng)的破壞作用，對(duì)涂層樣品的存儲(chǔ)帶來(lái)不便。

因此，本文首先采用堿液處理去除PI 表面鈍化層，選取3 種不同結(jié)構(gòu)的硅烷偶聯(lián)劑（SCA），將SCA構(gòu)筑于SiO2涂層和PI 基體界面之間，形成PI 基體-SCA-SiO2涂層的結(jié)合層，改善無(wú)機(jī)涂層和聚合物基體的粘合性能。研究不同SCA 官能團(tuán)以及制備過(guò)程對(duì)涂層穩(wěn)定性產(chǎn)生的影響，同時(shí)利用SCA 的碳鏈減緩因溫度變化造成的內(nèi)應(yīng)力，延長(zhǎng)涂層的使用壽命。

1 實(shí)驗(yàn)

1.1 主要實(shí)驗(yàn)材料

聚酰亞胺（PI）薄膜（型號(hào)Kapton 200HN，厚度為50 μm，DuPont 公司），氫氧化鈉（NaOH，AR，天津市紅巖化學(xué)試劑廠），鹽酸（HCl，AR，國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司），無(wú)水乙醇（EtOH，AR，天津市大茂化學(xué)試劑廠），γ-氨丙基三乙氧基硅烷（KH-550，AR，國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司），γ-(2,3-環(huán)氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷（KH-560，AR，國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司），γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷（KH-570，AR，國(guó)藥集團(tuán)化學(xué)試劑有限公司）和正硅酸乙酯（TEOS，AR，天津市博迪化工股份有限公司），均為市購(gòu)。

1.2 樣品制備

1.2.1 Kapton 表面處理

將Kapton 薄膜依次用去離子水和無(wú)水乙醇超聲清洗20 min，再用去離子水沖洗，晾干備用。

進(jìn)行NaOH 溶液水熱處理。將清洗后的Kapton薄膜放入裝有0.1 mol/L NaOH 溶液的水熱釜中，120 ℃處理1 h 后，取出，用去離子水洗滌3 次[22]。

進(jìn)行KH-550（KH-560，KH-570）/EtOH 溶劑熱處理。將NaOH 水熱處理后的Kapton 薄膜放入裝有KH-550/EtOH（體積比1∶4）的水熱釜中，180 ℃處理1 h 后，取出，用無(wú)水乙醇洗滌。將KH-550 替換為KH-560 或KH-570，實(shí)驗(yàn)過(guò)程同上[23]。

1.2.2 SCA 處理效果評(píng)價(jià)

用水汽輻照綜合試驗(yàn)評(píng)價(jià)SCA 對(duì)Kapton 表面的處理效果。將樣品放入紫外線老化試驗(yàn)箱（RK-UV，上海榮珂檢測(cè)儀器有限公司）中，試驗(yàn)條件為：輻照強(qiáng)度（280～320 nm）1 W/m2，溫度40 ℃，時(shí)間72 h，淋雨時(shí)間5 min，冷凝時(shí)間4 h，此作為1 個(gè)循環(huán)[23]。

1.2.3 Sol-gel 法制備SiO2涂層

5 mL 正硅酸乙酯（TEOS）加入50 mL 無(wú)水EtOH中，攪拌5 min，記為A；2 mL 去離子水和0.04 mL HCl加入另一份50 mL 無(wú)水EtOH 中，記為B。將溶液B緩慢滴加到溶液A 中，30 ℃，攪拌1 h 后，70 ℃陳化6 h，得到SiO2溶膠鍍膜液。將SCA 處理后的Kapton 薄膜放入鍍膜液中，以4 cm/min 的速度提拉鍍膜，重復(fù)5 次，晾干[24]。圖1 為實(shí)驗(yàn)中樣品制備過(guò)程示意圖。3 種硅烷偶聯(lián)劑的分子結(jié)構(gòu)式見(jiàn)圖2。

圖1 實(shí)驗(yàn)過(guò)程示意圖Fig.1 Schematic diagram of experimental process

圖2 3 種硅烷偶聯(lián)劑的分子結(jié)構(gòu)式Fig.2 Molecular structural formulas of three silane coupling agents

1.3 性能測(cè)試

采用S-4800 型場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡（日本日立公司）表征PI 表面形貌。采用DM2700M 型Leica材料分析顯微鏡（德國(guó)徠卡儀器有限公司）表征樣品表面的宏觀形貌。采用JC2000DI 接觸角測(cè)量?jī)x（上海中晨數(shù)字技術(shù)設(shè)備有限公司）測(cè)試樣品表面的水接觸角，以2 μL 的水滴做接觸角測(cè)試，每個(gè)樣品測(cè)試3次。采用TU-1901 型UV-Vis 分光光度計(jì)（北京普析通用儀器有限公司）表征樣品的透光率。

2 結(jié)果及分析

2.1 SCA 處理分析

圖3 為采用KH-550、KH-560 和KH-570 等3 種SCA 在乙醇溶劑中于180 ℃處理1 h 后的表面形貌。對(duì)比圖3a 未經(jīng)任何處理的原始Kapton 表面，可以看出，經(jīng)過(guò)120 ℃、0.1 mol/L NaOH 水熱處理1 h 后的樣品（圖3b），低濃度堿液與Kapton 表面發(fā)生了反應(yīng)，刻蝕去除了表面鈍化層，表面更加平整。將NaOH處理后的Kapton 樣品，進(jìn)一步用SCA 在180 ℃的EtOH 溶液中進(jìn)行1 h 的溶劑熱處理。由于3 種SCA碳鏈端的官能團(tuán)不同（KH-550 為氨基，KH-560 為環(huán)氧基，KH-570 為丙烯酰氧基），NaOH 處理后的Kapton表面產(chǎn)生羧基官能團(tuán)[25]，易與KH-550 的氨基發(fā)生反應(yīng)，從圖3c 可以看出，這種反應(yīng)有利于形成顆粒均勻、粒徑小的SCA 水解層。含有環(huán)氧端基的KH-560和含有丙烯酰氧基的KH-570，其烷氧基水解后也形成了致密的水解層，但都出現(xiàn)了不同程度的顆粒聚集體（圖3d、e）。顆粒的聚集說(shuō)明SCA 中與硅原子相連的烷氧基更易發(fā)生反應(yīng)形成—O—Si—O—[26-27]。圖3d 中KH-560 水解產(chǎn)生較大的顆粒聚集體，主要與其反應(yīng)活性有關(guān)。KH-560 在過(guò)熱、光照或過(guò)氧化物存在的條件下，易水解縮合形成聚硅氧烷[28]，180 ℃的溶劑熱溫度加速了水解縮合反應(yīng)的進(jìn)行。此外，由于聚合物長(zhǎng)鏈具有明顯的幾何不對(duì)稱性，聚酰亞胺（Kapton）薄膜的聚集態(tài)結(jié)構(gòu)在通常條件下可分為無(wú)定形和結(jié)晶形二部分[25]。無(wú)定形區(qū)域的分子堆砌比較松散，分子間相互作用力較弱，溶劑分子較易進(jìn)入分子鏈間隙，因此在這些區(qū)域形成較大的顆粒聚集。

圖4 為SCA 溶劑熱處理后Kapton 表面的水接觸角。未處理的原始Kapton 表面的水接觸角為77°（圖4a），用NaOH 處理后Kapton 表面產(chǎn)生羧基，親水性增強(qiáng)，接觸角下降為53°（圖4b）。進(jìn)一步用3 種SCA溶劑熱處理，沉積SCA 水解層后，樣品表面的接觸角介于50°～60°之間（圖4c—e），與圖4b 表面相似或相近，說(shuō)明SCA 水解層與堿處理后的Kapton 基體潤(rùn)濕性一致，有利于改善沉積顆粒與基體之間的界面粘附性，二者結(jié)合性能將更好。KH-550 處理后的樣品表面的水接觸角略小于KH-560 和KH-570，對(duì)比圖3 樣品表面形貌可以看出，KH-550 水解沉積的SiO2顆粒粒徑小，真實(shí)表面積與相同體積的平滑表面積之比r 大，表面粗糙[29]。由Wenzel 方程式可知，當(dāng)接觸角小于90°時(shí)，表面粗糙使接觸角變小，潤(rùn)濕性變好。因此，KH-550 處理后的樣品表面有利于后續(xù)SiO2涂層的沉積。

圖3 SCA 溶劑熱處理后Kapton 表面的SEM 形貌Fig.3 SEM morphologies of Kapton surface after SCA solvothermal treatment: (a) original Kapton; (b) NaOH solution under hydrothermal condition; (c) KH-550; (d) KH-560; (e) KH-570

圖4 SCA 溶劑熱處理后Kapton 表面的水接觸角Fig.4 Water contact angle of Kapton surface after SCA solvothermal treatment: (a) original Kapton; (b) NaOH solution under hydrothermal condition; (c) KH-550; (d) KH-560; (e) KH-570

2.2 SCA 處理效果評(píng)價(jià)

前期研究了溫度、濕度、紫外輻照等環(huán)境因素對(duì)PI 表面涂層產(chǎn)生的影響，發(fā)現(xiàn)水汽的存在對(duì)SiOx類涂層的破壞作用最大，易造成涂層剝離脫落[23]。因此，本研究用水汽輻照綜合試驗(yàn)評(píng)價(jià)SCA 對(duì)Kapton 表面的處理效果。用德國(guó)徠卡DM2700M 材料分析顯微鏡觀察Kapton 表面SCA 水解層。試驗(yàn)前，KH-550（圖5a）、KH-560（圖5c）和KH-570（圖5e）都形成了均勻致密的涂層，且可覆蓋Kapton 表面原有的瑕疵。相對(duì)來(lái)講，KH-550 的水解層呈現(xiàn)出網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)。試驗(yàn)后，由于水汽對(duì)涂層和界面的入侵，KH-560（圖5d）和KH-570（圖5f）所形成的SCA 水解層都發(fā)生了不同程度的脫落。仔細(xì)觀察脫落層出現(xiàn)的區(qū)域，圖5d 水解層脫落后，所暴露的樣品底部區(qū)域光滑、平整，在不同的脫落區(qū)域幾乎都看不到Kapton 基體表面原有的瑕疵點(diǎn)，反而在脫落區(qū)域的邊界有一些瑕疵點(diǎn)（圖中白色箭頭），未脫落區(qū)域的瑕疵點(diǎn)及其周邊也沒(méi)有出現(xiàn)變化（圖中白色箭頭）。繼續(xù)觀察圖5f 的水解層，水汽輻照試驗(yàn)后，脫落區(qū)域暴露出一些瑕疵點(diǎn)，但在未脫落的區(qū)域（保存完好的水解層），其瑕疵點(diǎn)沒(méi)有發(fā)生變化。圖5b 沒(méi)有發(fā)生脫落，瑕疵點(diǎn)及其周邊也沒(méi)發(fā)生大的變化。因此，可以初步判斷水解層的脫落與Kapton 基體表面原有的瑕疵點(diǎn)沒(méi)有直接的關(guān)聯(lián)，不是造成水解層脫落的主要原因，瑕疵點(diǎn)的存在對(duì)Kapton 表面處理沒(méi)有產(chǎn)生影響。SCA 水解層的脫落間接說(shuō)明了KH-560 含有的端環(huán)氧基和KH-570 含有的端丙烯酰氧基與Kapton 表面結(jié)合不牢固，或者沒(méi)有發(fā)生有效的反應(yīng)與鍵合。試驗(yàn)后的KH-550（圖5b）水解層，受水汽侵蝕后沒(méi)有發(fā)生脫落，但出現(xiàn)很多皺褶。對(duì)于這種“皺褶”現(xiàn)象，又平行做了多次實(shí)驗(yàn)，發(fā)現(xiàn)不是每次KH-550 處理后的Kapton 表面的水解層都能出現(xiàn)這種“皺褶”，且水解層不脫落。只有當(dāng)所用試劑、儀器和制備過(guò)程都保持干燥無(wú)水時(shí)，用KH-550 處理Kapton 的效果最佳。若空氣中濕度較大，或操作過(guò)程在環(huán)境中暴露的時(shí)間較長(zhǎng)時(shí)，所形成的水解層與Kapton 結(jié)合不牢固，也會(huì)出現(xiàn)脫落現(xiàn)象。這也間接證明了KH-550 端氨基與堿處理后Kapton 表面的羧基發(fā)生了反應(yīng)，結(jié)合較牢固。另外，這種皺褶有利于減緩熱效應(yīng)引起的內(nèi)應(yīng)力對(duì)涂層和基體界面產(chǎn)生的破壞作用。

用德國(guó)徠卡DM2700M 材料分析顯微鏡進(jìn)一步觀察水汽輻照試驗(yàn)前后Kapton 表面SCA 水解層的截面形貌，取樣品不同區(qū)域觀察其水解層厚度。SCA/EtOH 溶劑熱處理后在Kapton 表面所形成的水解層厚度一般在1.0～1.6 μm 之間。圖6 為水汽輻照試驗(yàn)前后Kapton 表面KH-550 水解層的截面形貌，圖片下部的黑色部分為Kapton 基體，圖6a 放大圖中水解層的厚度為1.2 μm。水汽輻照試驗(yàn)后的圖6b 顯示水解層出現(xiàn)起伏，對(duì)應(yīng)于圖5b 樣品表面出現(xiàn)的“皺褶”。從實(shí)驗(yàn)過(guò)程可以看出，這種微米級(jí)的水解層，其厚度的微小變化對(duì)水解層脫落產(chǎn)生的影響非常小。對(duì)水解層脫落生產(chǎn)影響的主要因素還是 SCA 與Kapton 基體的相互作用。為進(jìn)一步驗(yàn)證在水汽輻照試驗(yàn)中，水的存在對(duì)SCA 水解層產(chǎn)生了破壞作用，影響了水解層與Kapton 基體的界面粘附性能，同時(shí)這種破壞作用對(duì)后續(xù)沉積SiO2涂層產(chǎn)生的影響，設(shè)計(jì)了下列試驗(yàn)：將3 種SCA 溶劑熱處理后的Kapton樣品，放入50 ℃熱水中漂洗1 min，去除結(jié)合不牢固的SCA 水解層，然后取出晾干，用SiO2溶膠鍍膜5 次。

圖5 水汽輻照試驗(yàn)前后Kapton 表面SCA 水解層的形貌Fig.5 Morphologies of SCA hydrolyzed layer on Kapton surface before and after water vapor irradiation test: (a, b) KH-550; (c,d) KH-560; (e, f) KH-570.

圖7 為SCA 處理后的Kapton 樣品漂洗前后SiO2溶膠鍍覆涂層的透光率。取2 片Kapton 樣品，一片直接提拉鍍 SiO2涂層，另一片用 50 ℃熱水漂洗1 min，去除附著不牢固的SCA 水解層后再鍍SiO2涂層。從圖7 中可以看出，KH-550 的水解層與Kapton基體附著牢固，熱水漂洗沒(méi)有對(duì)其產(chǎn)生影響，間接驗(yàn)證了KH-550 端氨基與Kapton 表面羧基發(fā)生了鍵合反應(yīng)。漂洗前后所鍍涂層的透光率幾乎一致，說(shuō)明采用KH-550 處理Kapton 表面，在改善涂層與基體界面潤(rùn)濕性的同時(shí)，提高了二者之間的粘附性（圖7a）。與前面水汽輻照試驗(yàn)結(jié)果相似，KH-560 和KH-570 的水解層與Kapton 基體附著不牢固，表面不平整，平均透光率分別下降了4.4%和9.3%（圖7b、c）。

圖6 水汽輻照試驗(yàn)前后Kapton 表面KH-550 水解層的截面形貌Fig.6 Cross-sectional morphologies of KH-550 hydrolyzed layer on Kapton surface before and after water vapor irradiation test:(a) before; (b) after

圖7 SCA 粘附力對(duì)SiO2 溶膠涂層透光率的影響Fig.7 Influence of SCA adhesion on light transmittance of SiO2 sol coating

圖8 熱水漂洗前后對(duì)SiO2 溶膠涂層的影響Fig.8 Influence of hot water rinsing on SiO2 sol coating before and after: (a, b) KH-550; (c, d) KH-560; (e, f) KH-570

圖8 為SCA 處理后的Kapton 樣品熱水漂洗前后SiO2溶膠鍍覆涂層的表面形貌。KH-550 漂洗前（圖8a）與漂洗后（圖8b）的表面形貌幾乎沒(méi)有發(fā)生變化。從圖8a 和圖8b 中還可以看出，涂層與Kapton基材表面原有的瑕疵點(diǎn)有機(jī)結(jié)合，涂層均勻平滑。與之相似，KH-560（圖8c、d）和KH-570（圖8e、f），SiO2溶膠在漂洗前后的樣品表面也都能形成均勻的涂層，但不同點(diǎn)是，在圖8d 和圖8f 中，可以清晰地看到涂層下面SCA 水解層漂洗后脫落的痕跡。圖8的形貌表征與圖7 樣品的透光率測(cè)試結(jié)果相一致。從中可以闡明一個(gè)問(wèn)題，很多研究希望通過(guò)SCA 對(duì)聚合物表面的處理或修飾，增強(qiáng)涂層與聚合物基體的界面粘附力。但在SCA 的選取上一定要考慮SCA 端位官能團(tuán)是否與聚合物基體發(fā)生反應(yīng)，只依靠有機(jī)物的相容性，雖然可以改善無(wú)機(jī)涂層與有機(jī)聚合物基體的界面潤(rùn)濕性，獲得均勻致密的涂層，但SCA 與聚合物基體的結(jié)合不牢固，反而更易造成涂層開裂、脫落，成為潛在的不穩(wěn)定因素。

3 結(jié)論

1）用低濃度NaOH 溶液在水熱條件下120 ℃處理1 h，可以刻蝕去除PI 基材表面的鈍化層，同時(shí)生成羧基，表面潤(rùn)濕性得到提高。

2）采用KH-550 在溶劑熱環(huán)境中處理Kapton 表面，干燥無(wú)水是整個(gè)實(shí)驗(yàn)過(guò)程中確保KH-550 端氨基與堿處理后的聚酰亞胺表面羧基發(fā)生有效作用的關(guān)鍵因素。

3）水汽侵蝕后，KH-550 的水解層與聚酰亞胺基體結(jié)合依然牢固，沒(méi)有發(fā)生脫落，表面呈現(xiàn)的皺褶有利于減緩內(nèi)應(yīng)力對(duì)涂層和基體產(chǎn)生的破壞作用。

4）SCA 雖然可以有效改善聚合物基體的潤(rùn)濕性，提高無(wú)機(jī)涂層與基體的界面粘附性，但在SCA 選取上，必須考慮其與聚合物表面是否可以發(fā)生有效作用。