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        陽(yáng)離子引入對(duì)CsPF6:Mn4+紅色熒光粉發(fā)光性能的影響

        2020-11-08 10:03:50何盛安徐范范吳迪王智偉彭家慶葉信宇
        有色金屬科學(xué)與工程 2020年5期

        何盛安, 徐范范, 吳迪,2, 王智偉,彭家慶,2, 葉信宇,2,3

        (1.江西理工大學(xué),a.材料冶金化學(xué)學(xué)部,b.江西省稀土發(fā)光材料與器件重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,江西 贛州341000;2.國(guó)家離子型稀土資源高效開(kāi)發(fā)利用工程技術(shù)研究中心,江西 贛州341000;3.江西稀土功能材料科技有限公司,江西 贛州341000)

        熒光粉作為一種具有高附加值的功能材料,已廣泛用于現(xiàn)代照明和顯示產(chǎn)品領(lǐng)域,例如以白光發(fā)光二極管(WLED)為基礎(chǔ)的固態(tài)照明和液晶顯示(Liquid Crystal Display,LCD)[1-4]。目前,最常用的LED光源是用藍(lán)光InGaN芯片、綠色(或黃色)熒光粉和紅色熒光粉封裝而成[5-10]。高效的紅色熒光粉是降低色溫(Correlated Color Temperature,CCT)和提高顯色指數(shù)(Color-Rendering Index,CRI)的關(guān)鍵[11-13]。目前,Mn4+摻雜的氟化物由于其優(yōu)良的光致發(fā)光性能(PL),如在藍(lán)光區(qū)域的強(qiáng)吸收、高色純度的強(qiáng)發(fā)射等優(yōu)點(diǎn)[14-15],受到越來(lái)越多人的關(guān)注。因此,對(duì)Mn4+摻雜熒光粉進(jìn)行晶體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、新材料開(kāi)發(fā)和發(fā)光性能優(yōu)化的研究已引起學(xué)術(shù)界和工業(yè)界人士的高度重視。

        近年來(lái),Mn4+非等價(jià)摻雜的氟化物熒光粉,例如化學(xué)通式為A2AXF6∶Mn4+(A=Na+,K+,Rb+或Cs+;X=Al3+,Ga3+或Sc3+)[16-18],APF6∶Mn4+(A=K+,Rb+或Cs+)[19],以及AxZFx+5∶Mn4+(A=Na+或K+;Z=Ta5+或Nb5+)[20]等熒光粉成為了熒光粉領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)。然而,Mn4+非等價(jià)摻雜的氟化物紅色熒光粉,由于Mn4+與被取代離子的價(jià)態(tài)不同,使缺陷增加,無(wú)輻射躍遷概率增加,導(dǎo)致這類(lèi)氟化物熒光粉的發(fā)光效率和亮度顯著下降[21]。

        針對(duì)以上問(wèn)題,本文利用共沉淀方法合成了非等價(jià)摻雜的CsPF6:Mn4+紅色熒光粉,通過(guò)加入LiF、NaF、KF引入Li+、Na+、K+陽(yáng)離子,研究不同的陽(yáng)離子摻雜對(duì)CsPF6:Mn4+熒光粉發(fā)光性能的影響,以證明通過(guò)陽(yáng)離子引入提高M(jìn)n4+摻雜氟化物紅色熒光粉發(fā)光強(qiáng)度的可行性。

        1 實(shí) 驗(yàn)

        1.1 材料制備

        合成K2MnF6前驅(qū)體:將KMnO4和KHF2按照質(zhì)量比為20∶1加入到500 ml HF(40%)中攪拌制成混合溶液,采用H2O2(30%)作為還原劑將Mn7+還原為Mn4+,陳化4h后得到K2MnF6沉淀物,沉淀用無(wú)水乙醇(99.9%)洗滌后置于烘箱中在60℃下干燥3 h,即得到K2MnF6前驅(qū)體[15],反應(yīng)式如下:

        共沉淀法合成CsPF6∶Mn4+熒光粉:將3.8 mL的HF(40%)與1.2 mL的HPF6(60%)制成混合溶液,然后再將0.19 g的K2MnF6繼續(xù)攪拌(HPF6∶K2MnF6=10∶1),在磁力攪拌器上攪拌5 min后加入7.0 g CsF白色固體粉末,獲得黃色沉淀物,離心分離,用乙酸(99.9%)和無(wú)水乙醇(99.9%)洗2次,再將樣品在溫度為60℃的干燥箱內(nèi)干燥7 h,得到CsPF6∶10%Mn4+??刂破渌麠l件不變情況下,在共沉淀法加入K2MnF6的同時(shí)分別加入2%LiF,2% NaF,2%KF,獲得CsPF6:10%Mn4+,2%Li+、CsPF6∶10%Mn4+,2%Na+、CsPF6∶10%Mn4+,2%K+熒光粉,樣品制備流程見(jiàn)圖1。

        圖1 K2MnF6前驅(qū)體和CsPF6∶10%Mn4+、CsPF6∶10%Mn4+,2%Li+、CsPF6∶10%Mn4+,2%Na+、CsPF6∶10%Mn4+,2%K+樣品的制備流程Fig.1 Synthesis process diagram of K2MnF6 and CsPF6:10%Mn4+;CsPF6:10%Mn4+,2%Li+;CsPF6∶10%Mn4+,2%Na+;CsPF6∶10%Mn4+,2%K

        1.2 材料結(jié)構(gòu)和形貌表征

        樣品采用X射線單晶衍射儀(德國(guó)Bruker,SMART APEX)對(duì)粉末進(jìn)行物相分析,測(cè)試條件為:Cu Kα輻射,掃描范圍10°~90°。掃描電鏡(日立公司,TM3030)觀察樣品形貌。熒光光譜儀(日立公司,F(xiàn)-7000),激發(fā)光源為150 W氙燈。量子效率測(cè)定采用北京卓立漢光儀器公司的SENS-9000穩(wěn)態(tài)熒光光譜儀,激發(fā)光源是500 W氙燈。熱猝滅性能測(cè)試(杭州遠(yuǎn)方光電公司EX-1000),測(cè)試溫度點(diǎn)為298、323、348、373、398、423、448、473 K。

        2 結(jié)果與討論

        2.1 結(jié)構(gòu)與形態(tài)

        圖2 所示為所合成的CsPF6:10%Mn4+熒光粉的X射線衍射圖。Mn4+通過(guò)取代離子半徑相近的P5+進(jìn)入主晶格,CsPF6:10%Mn4+熒光粉的衍射峰與立方晶相CsPF6的標(biāo)準(zhǔn)圖譜 (JCPDS No.34-0506;a=b=c=0.822 8 nm;V=0.557 nm3;Z=4)相匹配。因此,CsPF6:10%Mn4+熒光粉與相應(yīng)的CsPF6基質(zhì)具有相同的立方結(jié)構(gòu),空間群為Fm3m,α=β=γ=90°),Mn4+摻入CsPF6基質(zhì)后,晶體結(jié)構(gòu)沒(méi)有發(fā)生明顯變化,所制得的CsPF6:10%Mn4+熒光粉為單一相。CsPF6:10%Mn4+的微觀形貌如圖3所示,CsPF6:10%Mn4+的顆粒分布均勻,顆粒表面光滑,平均粒徑約為20μm,有利于獲得出光更加均勻的白光LED器件。

        圖2 CsPF6:10%Mn4+樣品的X射線衍射(XRD)圖譜Fig.2 X-ray diffraction(XRD)pattern of CsPF6:10%Mn4+

        圖3 CsPF6:10%Mn4+樣品的的SEM圖像Fig.3 Scanning electron microscopy(SEM)image of CsPF6:10%Mn4+

        2.2 CsPF6:10%Mn4+熒光粉的發(fā)光性能

        CsPF6:10%Mn4+的激發(fā)和發(fā)射光譜如圖4(a)所示,在468 nm激發(fā)下,CsPF6:10%Mn4+樣品在約600~660 nm處呈現(xiàn)出一系列的窄帶發(fā)射峰,其中最強(qiáng)發(fā)射峰約位于634 nm,這歸因于Mn4+的自旋禁阻的躍遷:2Eg→4A2g[22]。在634 nm監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)下,其激發(fā)光譜分別約在365 nm和468 nm處存在2個(gè)寬的激發(fā)帶,其中,365 nm處的寬激發(fā)帶歸因于Mn4+的自旋允許的躍遷:4A2g→4T1g,而在468 nm處的激發(fā)帶來(lái)源于4A2g→4T2g,另外,450 nm附近的一系列銳線峰可能來(lái)源于Xe燈,文獻(xiàn)[23-25]中也報(bào)道過(guò)類(lèi)似現(xiàn)象。468 nm處的激發(fā)帶的強(qiáng)度遠(yuǎn)高于365 nm處的激發(fā)帶強(qiáng)度,表明所制備的CsPF6:10%Mn4+紅色熒光粉的吸收峰與商業(yè)化的藍(lán)光LED芯片匹配;450 nm激發(fā)時(shí)其內(nèi)量子效率為50.1%,在白光LED器件中具有潛在的應(yīng)用前景。圖4(a)中插圖為CsPF6:10%Mn4+紅色熒光粉在468 nm激發(fā)下的圖像。圖4(b)所示為CsPF6:10%Mn4+紅色熒光粉的CIE色坐標(biāo)圖,坐 標(biāo) 點(diǎn) (0.697 6,0.302 3)位 于 紅 光 區(qū) 域,與Sr4Al14O25:Mn4+(0.722,0.278),Sc0.82Lu0.05VO4:Eu3+0.07,Li+0.06(0.6629,0.3341),LiGd0.6Eu0.4(Mo0.6W0.4)2O7.7F0.6(0.645,0.346)等相比[26-28],更接近于美國(guó)國(guó)家電視標(biāo)準(zhǔn)委員會(huì) (NTSC,National TV Standard Committee)的紅色標(biāo)準(zhǔn)值(0.67,0.33)[12]。

        圖4 在468 nm激發(fā)下CsPF6:10%Mn4+樣品的激發(fā)發(fā)射光譜和CIE色坐標(biāo)Fig.4 the PLE and PL spectrum,and the CIE color coordinate of CsPF6:10%Mn4+sample excited at 468 nm

        2.3 陽(yáng)離子引入對(duì)CsPF6:10%Mn4+發(fā)光性能的影響

        為了探究陽(yáng)離子對(duì)CsPF6:10%Mn4+發(fā)光性能的影響,通過(guò)共沉淀方法加入KF、NaF、LiF,分別合成了CsPF6:10%Mn4+;CsPF6:10%Mn4+,2%Li+;CsPF6:10%Mn4+,2%Na+;CsPF6:10%Mn4+,2%K+的樣品。圖5所示為樣品的X射線衍射(XRD)圖譜,加入LiF、NaF和KF后,樣品的衍射峰與所制備的未引入陽(yáng)離子的CsPF6:10%Mn4+樣品一致,并且樣品的X射線衍射圖譜中沒(méi)有出現(xiàn)額外的衍射峰,說(shuō)明Li+、Na+、K+的摻入沒(méi)有改變晶體的結(jié)構(gòu)。

        圖5 CsPF6:10%Mn4+;CsPF6:10%Mn4+,2%Li+;CsPF6:10%Mn4+,2%Na+;CsPF6:10%Mn4+,2%K+樣品的X射線衍射(XRD)圖譜Fig.5 X-ray diffraction(XRD)pattern of CsPF6:10%Mn4+;CsPF6:10%Mn4+,2%Li+;CsPF6:10%Mn4+,2%Na+;CsPF6:10%Mn4+,2%K+

        通過(guò)熒光光譜儀測(cè)試了CsPF6:10%Mn4+;CsPF6:10%Mn4+,2%Li+;CsPF6:10%Mn4+,2%Na+;CsPF6:10%Mn4+,2%K+樣品在468 nm激發(fā)下的發(fā)射光譜。如圖6(a)所示,引入了陽(yáng)離子的樣品(CsPF6:10%Mn4+,2%Li+;CsPF6:10%Mn4+,2%Na+;CsPF6:10%Mn4+,2%K+)與未引入陽(yáng)離子樣品(CsPF6:10%Mn4+)發(fā)射峰的位置和峰型一致,但是在相同的測(cè)試條件下,不同的離子對(duì)熒光粉的發(fā)光強(qiáng)度有著顯著的影響。如圖6(b)所示,在3種陽(yáng)離子中,引入K+和Li+后發(fā)光強(qiáng)度增強(qiáng),加入Na+后發(fā)光強(qiáng)度降低。通常來(lái)說(shuō),過(guò)渡金屬離子的f-f躍遷屬于宇稱(chēng)禁戒躍遷,受周?chē)木w場(chǎng)對(duì)稱(chēng)性影響較大,離子周?chē)木钟蚓w場(chǎng)對(duì)稱(chēng)性越低,其譜線強(qiáng)度就越強(qiáng),4f禁戒躍遷就解除得越徹底,輻射躍遷的可能性將大大增加[29]。晶體場(chǎng)的晶格畸變主要受到了離子的電負(fù)性和半徑大小影響。加入Li+后,由于Li+電負(fù)性較大,產(chǎn)生的晶格收縮較大,降低了晶格對(duì)稱(chēng)性,而低的晶格對(duì)稱(chēng)性被證明是有利于發(fā)光的。加入K+后,由于K+的離子半徑大,位于間隙位置引起的晶格膨脹大,從而增強(qiáng)發(fā)光。而加入Na+后,在上述2種因素的共同作用下,晶體場(chǎng)對(duì)稱(chēng)性相比原有的更趨近于對(duì)稱(chēng),發(fā)光強(qiáng)度降低。

        圖6 CsPF6:10%Mn4+;CsPF6:10%Mn4+,2%Li+;CsPF6:10%Mn4+,2%Na+;CsPF6:10%Mn4+,2%K+在468 nm激發(fā)下的發(fā)射圖譜和相對(duì)發(fā)光強(qiáng)度Fig.6 Emission spectrum and relative intensity of CsPF6:10%Mn4+;CsPF6:10%Mn4+,2%Li+;CsPF6:10%Mn4+,2%Na+;CsPF6:10%Mn4+,2%K+under 468 nm excitation

        熱猝滅性能是衡量白光LED用熒光粉的一個(gè)重要參數(shù)。LED器件的制造和工作溫度時(shí)溫度可達(dá)到150℃(423 K),LED芯片的工作溫度通常會(huì)削弱熒光粉的熒光[30]。圖7(a)和圖7(b)分別為CsPF6:10%Mn4+和CsPF6:10%Mn4+,2%K+紅色熒光粉在468 nm藍(lán)光激發(fā)下,298~473 K溫度范圍內(nèi)的溫度依賴(lài)性發(fā)射光譜。隨著溫度升高,發(fā)射峰沒(méi)有發(fā)生明顯的偏移,最強(qiáng)發(fā)射峰位于634 nm。有趣的是,如圖7(c)所示,隨著溫度的升高,發(fā)射強(qiáng)度都呈現(xiàn)出先增加,在423 K達(dá)到最大值,然后出現(xiàn)溫度猝滅發(fā)光強(qiáng)度下降。發(fā)光強(qiáng)度降低是由于在升溫過(guò)程中4T2激發(fā)態(tài)和4A2基態(tài)之間的熱活化交叉產(chǎn)生的非輻射躍遷增強(qiáng),熒光粉的發(fā)射強(qiáng)度隨測(cè)量溫度的升高而逐漸降低[30]。溫度為423 K時(shí)的發(fā)射強(qiáng)度約為初始發(fā)射強(qiáng)度(298 K)的1.4倍,這種隨著溫度的升高發(fā)光強(qiáng)度增加的可能解釋是由于樣品在高溫下對(duì)激發(fā)光的吸收增加和反斯托克振動(dòng)發(fā)射的增強(qiáng),Chen等也報(bào)道過(guò)這種現(xiàn)象[19]。另外,相較于CsPF6:10%Mn4+熒光粉,在298~423 K溫度范圍內(nèi),引入陽(yáng)離子后的CsPF6:10%Mn4+,2%K+熒光粉的發(fā)射強(qiáng)度顯著增加,增強(qiáng)幅度約為40%,這可能是由于熒光粉引入合適的陽(yáng)離子,減少晶格缺陷,降低了非輻射躍遷的幾率[20],進(jìn)一步說(shuō)明了引入K+對(duì)于CsPF6:10%Mn4+熒光粉發(fā)光性能有顯著的提升效果。

        圖7 在468 nm激發(fā)下CsPF6:10%Mn4+和CsPF6:10%Mn4+,2%K+紅色熒光粉的溫度依賴(lài)性發(fā)射光譜及在升溫過(guò)程中發(fā)射強(qiáng)度的變化趨勢(shì)Fig.7 Under 468 nm excitation,CsPF6:10%Mn4+and CsPF6:10%Mn4+,2%K+red phosphor's temperaturedependent emission spectra,and the trend of emission intensity during 298~473 K

        3 結(jié) 論

        采用共沉淀法分別制備了CsPF6:10%Mn4+熒光粉和CsPF6:10%Mn4+,2%Li+;CsPF6:10%Mn4+,2%Na+;CsPF6:10%Mn4+,2%K+熒光粉。研究表明,所制備的熒光粉具有立方結(jié)構(gòu),空間群為Fm3m。在藍(lán)光激發(fā)下,在紅光區(qū)域呈現(xiàn)出一系列銳利的紅色發(fā)射,其中最強(qiáng)發(fā)射峰位于634 nm處,色坐標(biāo)為(0.697 6,0.302 3)。引入K+和Li+后,發(fā)光強(qiáng)度增強(qiáng),加入Na+后,發(fā)光強(qiáng)度減弱,K+對(duì)熒光粉的改善效果較好,可能是由于K+的離子半徑大,位于間隙位置引起的晶格膨脹大,從而增強(qiáng)發(fā)光。CsPF6:10%Mn4+,K+熒光粉的發(fā)射強(qiáng)度隨著溫度的上升先增強(qiáng)然后由于非輻射躍遷的增加而降低。423 K時(shí)CsPF6:10%Mn4+,2%K+熒光粉的發(fā)射強(qiáng)度為初始發(fā)射強(qiáng)度(298 K)的1.4倍,相較于未引入陽(yáng)離子的熒光粉發(fā)射強(qiáng)度增強(qiáng)40%。以上結(jié)果表明,陽(yáng)離子的引入可以有效提升CsPF6:10%Mn4+熒光粉的發(fā)光性能。

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