許宛媚 朱華

摘要：運(yùn)用射頻磁控濺射技術(shù)，改變?yōu)R射溫度（50℃-300℃）在玻璃襯底上生長ZnO：Sn透明導(dǎo)電樣品，采用XRD、紫外-可見分光光度計(jì)對薄膜進(jìn)行光電性能表征。結(jié)果發(fā)現(xiàn)：隨著溫度的增大，樣品XRD曲線由多峰轉(zhuǎn)變?yōu)椋?02）單峰，晶粒尺寸從21.9增大到31.7。紫外可見光光譜在400在760nm波長區(qū)間平均透射率均在89%以上，薄膜帶隙寬度隨壓強(qiáng)變化不明顯，基本維持在3.33eV-3.34eV左右。

關(guān)鍵詞：磁控濺射;ZnO：Sn薄膜;濺射溫度;光電特性

1 引言

氧化鋅（ZnO）是一種Ⅱ-Ⅵ族寬禁帶直接帶隙半導(dǎo)體材料，具有六角纖鋅礦結(jié)構(gòu)，室溫下禁帶寬度約為3.37eV，決定了其在可見光及近紅外光的高透過率。錫摻雜氧化鋅（TZO）報(bào)道較少，Sn相對于Al來說，其非金屬性增強(qiáng)，Sn⁴⁺替代Zn²⁺的位置產(chǎn)生兩個(gè)自由電子，與同摻雜濃度的Ⅲ族元素相比，能獲得更高的載流子濃度，且Zn²⁺和Sn⁴⁺離子半徑相近（rZn²⁺=0.074nm，rSn4⁺=0.069nm），Sn能夠容易的替代Zn位置而不會(huì)有大的晶格畸變。

2實(shí)驗(yàn)

實(shí)驗(yàn)采用JSD-300高真空磁控濺射鍍膜機(jī)，運(yùn)用13.6MHz射頻電源，純度99.999%的氬氣為濺射源。實(shí)驗(yàn)靶材為直徑2英寸的ZnO：Sn陶瓷靶材，其采用化學(xué)純的ZnO和SnO₂粉末（質(zhì)量比為99：1）經(jīng)鼓風(fēng)干燥箱烘干。濺射室本底真空9×10﹣4pa，氬流量9sccm，靶基距7cm，濺射功率160W，壓強(qiáng)1pa，預(yù)濺射10min，濺射時(shí)間1.5h。實(shí)驗(yàn)過程改變?yōu)R射溫度分別50℃，100℃，150℃，200℃，250℃及300℃獲得樣品為a、b、c、d、e及f樣品。

3結(jié)果與討論

3.1 XRD結(jié)果及分析

結(jié)果顯示ZnO：Sn薄膜在300℃只有34?附近的（002）衍射峰，在50℃-250℃除了（002）衍射峰，還有74°附近的（004）衍射峰.這說明SnO₂的摻入既沒有出現(xiàn)二氧化錫的物相，也沒有改變ZnO的六角鉛鋅礦晶體結(jié)構(gòu)，即其垂直襯底方向的C軸擇優(yōu)生長性能.

晶粒尺寸隨溫度升高呈現(xiàn)線性增加趨勢，開始濺射溫度較低時(shí)，氬離子分子數(shù)密度低，雖然其分子自由程大，氬離子能量高，但其濺射產(chǎn)額低，晶粒尺寸并不大。隨著濺射溫度的進(jìn)一步增大，被濺射出的原子或原子團(tuán)數(shù)目增多，其形成的晶核數(shù)目增多，但同時(shí)其具有較高的能量，會(huì)使遷移、晶核融合進(jìn)而晶粒長大_[2]。

3.2薄膜光學(xué)性能分析

3.21紫外-可見光譜及分析

測試了紫外可見光譜，根據(jù)結(jié)果顯示，所有樣品在400-900nm波長范圍都有較高的透光率，平均透光率分別為92.1%、94.1%、93.4%、93%、94%和94.9%。但在420-900nm波長區(qū)間樣品平均透光率均在92.4%- 94.9% 之間波動(dòng)，這是工作溫度變化使薄膜紫外吸收邊峰發(fā)生移動(dòng)的結(jié)果。所有樣品在400nm波長以下透光率急劇下降，樣品a、b、c、d、e及f透過率曲線有多峰出現(xiàn)，但所有樣品峰值波長位置不同，這是薄膜厚度不同帶來的干涉條紋級次不同的結(jié)果，薄膜厚度可以根據(jù)薄膜干涉理論求出。

參考文獻(xiàn)

[1]Mahmood， Khalid， Munir， Rahim， Kang， Hyun Wook， et al.. An atmospheric pressure-based electrospraying route to fabricate the multi-applications bilayer （AZO/ITO） TCO films[J]. Rsc Advances， 3（48）：25741.

[2] ?諶夏.Sn摻雜ZnO透明導(dǎo)電薄膜的制備與性能研究[D].重慶理工大學(xué)

[3]王何美，朱華，張金艷， 等.硼摻雜氧化鋅透明導(dǎo)電薄膜性能的研究[J].功能材料，2016，47（2）：2100-2103

作者簡介：許宛媚（1995-），女，漢，江西樂平，德鎮(zhèn)陶瓷大學(xué)在讀研究生，研究方向：納米光電薄膜材料與器件