馮 琳, 項(xiàng)磊磊, 張加馳
(蘭州大學(xué) 物理科學(xué)與技術(shù)學(xué)院, 甘肅 蘭州 730000)
在當(dāng)下的信息時(shí)代,信息安全是一個(gè)日益重要的全球性問題,并對(duì)經(jīng)濟(jì)、軍事等重要領(lǐng)域以及普通人的日常生活有著巨大的影響[1]。通常,防偽和加密是兩種最常見保護(hù)信息的安全策略。目前,包括標(biāo)志、磁性、等離子體、全息以及發(fā)光在內(nèi)的多種技術(shù)已經(jīng)被用于信息的防偽和加密設(shè)計(jì)[2]。在這些技術(shù)中,發(fā)光由于其可視性、易于設(shè)計(jì)和便攜式光源普及等特點(diǎn),而被公認(rèn)為是最理想的防偽和加密技術(shù)[3-4]。近年來,人們也廣泛采用多種發(fā)光材料,包括半導(dǎo)體/碳量子點(diǎn)、金屬有機(jī)骨架化合物、有機(jī)染料以及熒光粉等[5-6],用于制作發(fā)光防偽和加密圖案,并在信息保護(hù)的實(shí)際應(yīng)用中取得了良好的效果[7]。
然而,目前傳統(tǒng)的發(fā)光防偽和加密技術(shù)主要是基于光致發(fā)光而設(shè)計(jì)的,其主要是利用365 nm紫外光激發(fā)熒光粉發(fā)光,屬于單模態(tài)發(fā)光,其安全特征不僅單一,也容易被用其他替代物偽造[8]。相比之下,如果一種熒光粉具有多模發(fā)光,也就是能在不同的激發(fā)模式下體現(xiàn)出不同特征的發(fā)光,其發(fā)光防偽和加密的技術(shù)安全性就會(huì)顯著提高。另一方面,目前防偽和加密特征圖案的發(fā)光特征都是不變的,也就是靜態(tài)的,這對(duì)于信息安全也是不利的;顯然,如果發(fā)光特征是可以動(dòng)態(tài)變化的,那么防偽加密的安全層級(jí)將會(huì)極大提高[9]。因此根據(jù)以上領(lǐng)域現(xiàn)狀,我們需要開發(fā)一種在不同激發(fā)下體現(xiàn)出多模態(tài)發(fā)光、且其發(fā)光特征可以動(dòng)態(tài)變化的新型發(fā)光材料,用于安全層級(jí)更高的防偽和加密設(shè)計(jì)[10-11]。
基于此,我們?cè)谶@篇論文中報(bào)道了一種稀土摻雜的新型硅酸鹽基熒光粉材料BaGa2Si2O8∶Eu2+,Eu3+,Pr3+,該熒光粉在254 nm或365 nm的光激發(fā)下,將發(fā)出不同顏色的光致發(fā)光和余輝發(fā)光(多模態(tài)發(fā)光);尤其是在關(guān)閉激發(fā)光源后,熒光粉還會(huì)呈現(xiàn)出不同衰減時(shí)間的余輝發(fā)光,從而使發(fā)光圖案呈現(xiàn)出動(dòng)態(tài)變化的重要特征(動(dòng)態(tài)發(fā)光)。根據(jù)這些重要的發(fā)光特性,我們將BaGa2Si2O8∶Eu2+,Eu3+,Pr3+融入到PDMS載體中,制作了一些柔性發(fā)光圖案,并應(yīng)用于發(fā)光防偽和加密。
采用傳統(tǒng)高溫固相法制備BaGa2Si2O8∶Eu2+,Eu3+熒光粉,主要的原料包括Ba2CO3(99.9%)、Ga2O3(99.99%)、SiO2(99.9%)、Eu2O3(99.99%)以及Pr6O11(99.99%)。首先根據(jù)化學(xué)計(jì)量比稱取原料,在瑪瑙研缽中混合均勻并置入氧化鋁坩堝中,在管式爐溫度為1 200 ℃下(還原氣氛N2∶H2=9∶1) 反應(yīng)300~600 min或氧化條件下反應(yīng)360 min,自然冷卻后可得熒光粉樣品。采用PDMS作為熒光粉載體制作發(fā)光圖案。首先將PDMS樹脂和固化劑按照10∶1的比例混合均勻,然后將所得漿料填充到3D打印的模具中,再置入烘箱,并在60 ℃的溫度下熱烘3 h,最后可從模具上揭下發(fā)光圖案。
采用XRD衍射儀(Rigaku D/Max-2400)測量熒光粉的物相,采用掃描電鏡(FEI Apreo S)和透射電鏡(FEI Tecnai F30)測量熒光粉顆粒形貌,采用X射線光電光譜儀(PHI 5702)測量離子價(jià)態(tài),采用熱釋光譜儀(Beijing Nuclear FJ-427A)測量熒光粉的熱釋光性能,采用熒光光譜儀(Edinburgh FLS-920T)測量熒光粉的發(fā)射和激發(fā)光譜,采用長余輝熒光衰減測試儀(PR305)測量熒光粉的余輝性能,采用吸收光譜儀(Perkin-Elmer Lambda 950)測量基質(zhì)的反射光譜,采用單反照相機(jī)(Canon EOS 800D)拍攝發(fā)光圖案。
圖1給出了BaGa2Si2O8基質(zhì)的物相表征結(jié)果。由BaGa2Si2O8基質(zhì)的精修結(jié)果(圖1(a))可知,BaGa2Si2O8屬于單斜晶系,其空間點(diǎn)群為C2/c(No.15)。圖1(b)給出了BaGa2Si2O8的晶體結(jié)構(gòu)圖,由圖可見Ga和Si都與O構(gòu)成四面體,但分別具有兩種不同的格位(如圖1(b)右上所示);Ba與O構(gòu)成六配位的八面體結(jié)構(gòu),但只有一種格位(如圖1(b)右下所示)。圖1(c)給出了BaGa2Si2O8的能帶結(jié)構(gòu),可見計(jì)算所得的基質(zhì)帶隙寬度約為3.89 eV(圖1(c)),而根據(jù)反射光譜的結(jié)果為4.12 eV(圖1(d)),帶隙的計(jì)算值和實(shí)驗(yàn)值較為接近,但計(jì)算值略小,這主要源于GGA程序的計(jì)算誤差[12]。圖1(e)給出了BaGa2Si2O8的EDX分析結(jié)果,可見樣品含有Ba、Ga、Si和O元素的EDX特征峰,與BaGa2Si2O8基質(zhì)化學(xué)式的元素構(gòu)成一致。元素分布圖(圖1(f))則顯示樣品顆粒中的各種元素分布較為均勻。綜合以上物相表征信息,可以確認(rèn)樣品就是BaGa2Si2O8。
圖1 (a)BaGa2Si2O8基質(zhì)的精修結(jié)果;(b)BaGa2Si2O8的晶體結(jié)構(gòu)圖;(c)BaGa2Si2O8的能帶結(jié)構(gòu);(d)BaGa2Si2O8的反射光譜;(e)BaGa2Si2O8的EDX分析結(jié)果;(f)元素分布圖。
圖2給出了BaGa2Si2O8∶Eu2+,Eu3+熒光粉的物相表征結(jié)果。圖2(a)為不同濃度銪元素?fù)诫s樣品的XRD譜圖,由圖可見,適量的銪元素?fù)诫s沒有導(dǎo)致雜相的產(chǎn)生。圖2(b)給出了不同還原時(shí)間的BaGa2Si2O8∶1.5%Eu樣品的XRD譜圖,可見反應(yīng)時(shí)間的變化也沒有導(dǎo)致雜相的產(chǎn)生。根據(jù)固溶原理,由于Ga3+和Si4+格位與銪離子在格位半徑和電負(fù)性方面不匹配,而銪離子的離子半徑(0.117 nm)與鋇離子(0.135 nm)最為接近,所以摻雜的銪元素(包括Eu2+和Eu3+)將進(jìn)入Ba2+唯一的八面體格位(圖2(c))[13]。圖2(d)給出了不同還原時(shí)間樣品的XPS圖譜,可以看出,所有樣品中均含有Eu2+和Eu3+;而隨著還原時(shí)間的增加,Eu2+在1 127 eV附近的特征峰逐漸變強(qiáng)(圖2(e))[14]。由于XPS主要測量樣品顆粒表面的元素及價(jià)態(tài)信息,因此這個(gè)結(jié)果說明:樣品顆粒表面同時(shí)含有Eu2+和Eu3+,至少在顆粒表面,Eu2+和Eu3+是共摻而非混合。
圖2 (a)不同濃度銪元素?fù)诫s樣品的XRD譜圖;(b)不同還原時(shí)間樣品的XRD譜圖;(c)摻雜格位示意圖;(d)不同還原時(shí)間樣品的XPS圖譜;(e)不同還原時(shí)間樣品的XPS強(qiáng)度統(tǒng)計(jì)圖。
圖3給出了BaGa2Si2O8∶1.5%Eu 系列樣品的發(fā)光性質(zhì)表征結(jié)果。其中,銪元素的最佳摻雜濃度(1.5%)是根據(jù)最佳發(fā)光強(qiáng)度確定的。由光致發(fā)射光譜(圖3(a)和圖3(b))可見:不同還原時(shí)間樣品的發(fā)射光譜都含有一個(gè)寬帶發(fā)射和一組線狀發(fā)射,其中寬帶發(fā)射歸屬Eu2+的5d→4f躍遷,而線狀發(fā)射則歸屬于Eu3+的4f→4f躍遷,這說明所有樣品均含有Eu2+和Eu3+[15],與XPS表征結(jié)果一致(圖2(d))。尤其是在氧化氣氛中制備的樣品也含有少量的Eu2+,這可能源于Eu3+在Ba2+格位的自還原效應(yīng)。其可能的還原機(jī)制為:Eu3+占據(jù)帶負(fù)電的Ba2+空位,Eu3+得到電子,被部分還原為Eu2+,由于反應(yīng)時(shí)顆粒表面富含氧氣氛,因此這些自還原生成的Eu2+應(yīng)更多存在于顆粒內(nèi)部。而在還原氣氛中制備的樣品被逐漸還原為Eu2+,這導(dǎo)致Eu2+的帶狀光譜逐漸加強(qiáng),而Eu3+的線狀光譜逐漸減弱。同時(shí),我們根據(jù)圖3(a)和圖3(b)繪制了不同還原時(shí)間樣品的發(fā)射光譜成像圖(圖3(d)),可以更清楚地展現(xiàn)兩種發(fā)光中心的光譜變化。此外,我們還可以看出:Eu3+的4f→4f發(fā)射在254 nm激發(fā)下的發(fā)射強(qiáng)度較強(qiáng),而Eu2+的5d→4f發(fā)射則在365 nm激發(fā)下的發(fā)射強(qiáng)度更強(qiáng)。為了更清楚地展示不同激發(fā)下的發(fā)射光譜區(qū)別,我們測試了還原反應(yīng)520 min BaGa2Si2O8∶1.5%Eu典型樣品在不同激發(fā)下的系列發(fā)射光譜,并進(jìn)行歸一化處理,得到了典型樣品的激發(fā)光譜成像圖(圖3(c))。也可以看出:Eu2+的寬帶發(fā)射主要由在250~400 nm范圍內(nèi)的4f→5d激發(fā),而Eu3+的線狀發(fā)射則主要通過200~300 nm范圍內(nèi)的電荷轉(zhuǎn)移躍遷激發(fā)[16]。圖3(e)給出了BaGa2Si2O8∶1.5%Eu分別在619 nm和504 nm監(jiān)控下的激發(fā)光譜,可見兩部分激發(fā)光譜幾乎沒有光譜重疊,而且Eu2+的發(fā)射與Eu3+的激發(fā)光譜也幾乎沒有光譜重疊,因此該樣品內(nèi)部很可能不存在Eu2+和Eu3+之間的能量傳遞。此外,我們將樣品進(jìn)行了仔細(xì)研磨,發(fā)現(xiàn)其研磨前后的發(fā)射光譜也沒有明顯變化。這些事實(shí)都說明:樣品中的Eu2+和Eu3+同時(shí)存在于顆粒表面和內(nèi)部,雖然缺乏確鑿的實(shí)驗(yàn)證據(jù),但樣品中的Eu2+和Eu3+更可能屬于共摻而非混合。圖3(f)給出了不同還原時(shí)間典型樣品的發(fā)光照片,可以看出:在氧化氣氛中制備的樣品在254 nm激發(fā)下是紅色發(fā)光,在365 nm下卻呈現(xiàn)出偏藍(lán)色發(fā)光;而在還原氣氛中制備的樣品,隨著還原時(shí)間增加,在254 nm激發(fā)下的發(fā)光顏色從紫紅色變?yōu)榍嗵m色,而365 nm激發(fā)下的發(fā)光顏色則由藍(lán)色變?yōu)榍嗵m色。
圖3 (a)在254 nm激發(fā)下,不同還原時(shí)間BaGa2Si2O8∶1.5%Eu樣品的發(fā)射光譜;(b)在365 nm激發(fā)下,不同還原時(shí)間BaGa2Si2O8∶1.5%Eu樣品的發(fā)射光譜;(c)還原520 min BaGa2Si2O8∶1.5%Eu樣品的激發(fā)光譜成像圖;(d)分別在365 nm和254 nm激發(fā)下,不同還原時(shí)間BaGa2Si2O8∶1.5%Eu樣品的發(fā)光成像圖;(e)不同監(jiān)控波長下BaGa2Si2O8∶1.5%Eu樣品的激發(fā)光譜;(f)不同還原時(shí)間樣品的發(fā)光照片。
為了增強(qiáng)熒光粉的余輝發(fā)光性能,我們?cè)贐aGa2Si2O8∶1.5%Eu樣品中又摻入了適量的Pr3+,圖4給出了系列樣品的余輝發(fā)光表征結(jié)果。由圖4(a)的余輝光譜可見,樣品的余輝發(fā)光是青蘭色的,其余輝發(fā)射光譜是一個(gè)覆蓋在400~650 nm范圍的寬帶,可歸屬于Eu2+的5d→4f躍遷,沒有觀察到Eu3+的余輝發(fā)射光譜。隨著Pr3+摻雜濃度的增加,樣品的余輝發(fā)光強(qiáng)度也逐漸增加,并可確定樣品的最佳Pr3+摻雜濃度為1.1%(圖4(a)插圖)。由圖4(b)可見,根據(jù)0.32 mcd/m2的常用余輝閾值,沒有摻雜Pr3+樣品的余輝時(shí)間不到2 500 s,而當(dāng)摻入Pr3+后其最長余輝時(shí)間超過了16 000 s(4.4 h)。圖4(c)給出了摻入1.1%Pr3+前后樣品在365 nm激發(fā)后的余輝發(fā)光照片,可見Pr3+的摻雜顯著增加了樣品的余輝發(fā)光強(qiáng)度和時(shí)間。圖4(d)給出了樣品的余輝激發(fā)光譜成像圖,可看出BaGa2Si2O8∶1.5%Eu,1.1%Pr樣品的余輝發(fā)光可被250~420 nm的較寬范圍的紫外光激發(fā),其最佳激發(fā)波長為391 nm,因此適用于便攜式紫外燈(365 nm)。
圖4 (a)不同濃度Pr3+摻雜樣品余輝光譜;(b)不同濃度Pr3+摻雜樣品余輝衰減曲線;(c)摻入1.1%Pr3+前后樣品的余輝發(fā)光照片;(d)BaGa2Si2O8∶1.5%Eu,1.1%Pr樣品的余輝激發(fā)光譜成像圖。
為了解釋Pr3+摻雜增強(qiáng)樣品余輝發(fā)光的原因,我們給出了摻入1.1%Pr3+前后樣品的熱釋光譜圖(圖5(a)),可見Pr3+的摻雜顯著增加了樣品的淺陷阱數(shù)量,這直接導(dǎo)致了樣品余輝強(qiáng)度和時(shí)間的增加。根據(jù)經(jīng)典的多峰擬合方法[17],我們將Pr3+摻雜樣品的熱釋光譜進(jìn)行了擬合(圖5(b)),得到了位于340 K和448 K的兩個(gè)熱釋子峰,分別對(duì)應(yīng)于數(shù)量較多的淺陷阱和數(shù)量較少的深陷阱。根據(jù)對(duì)比,可以推測兩種陷阱均源自樣品的固有缺陷,Pr3+摻雜并沒有引入新陷阱,但是卻導(dǎo)致了固有陷阱數(shù)量的增加。目前,固有陷阱的具體歸屬還難以確定,推測可能與高溫合成過程中形成的氧空位或陽離子空位有關(guān)。
為了證實(shí)淺陷阱對(duì)余輝發(fā)光的具體作用,我們分別測量了摻入Pr3+前后樣品的釋能熱釋光譜,也就是樣品在統(tǒng)一充能后放置不同的時(shí)間,然后分別測量其熱釋光譜,由圖可見:沒有摻入Pr3+樣品的熱釋光譜強(qiáng)度在300 s后就幾乎降到零(圖5(c)),而摻入Pr3+樣品的熱釋光譜在5 h后仍然保持約10%的強(qiáng)度(圖5(d)),這個(gè)結(jié)果充分說明:淺陷阱是樣品呈現(xiàn)出余輝發(fā)光的主要原因,而摻入Pr3+會(huì)顯著增加樣品中的淺陷阱數(shù)量,從而顯著增強(qiáng)樣品的余輝發(fā)光性能。
圖5 (a)摻入1.1%Pr3+前后樣品的熱釋光譜圖;(b)BaGa2Si2O8∶1.5%Eu,1.1%Pr樣品熱釋光譜的多峰擬合結(jié)果;(c)BaGa2Si2O8∶1.5%Eu樣品的釋能熱釋光譜;(d)BaGa2Si2O8∶1.5%Eu,1.1%Pr樣品的釋能熱釋光譜。
為了進(jìn)一步研究樣品的陷阱性能,我們接下來對(duì)陷阱性質(zhì)進(jìn)行了表征。首先,我們將所有樣品統(tǒng)一充能后在不同溫度下進(jìn)行熱處理,并測量樣品的熱釋光譜,得到了不同溫度激發(fā)的系列熱釋光譜(圖6(a))[18];同時(shí),根據(jù)初升法對(duì)光譜曲線進(jìn)行處理后(圖6(b))[19],可以計(jì)算得到陷阱的分布柱狀圖(圖6(c))。由圖6(d)的統(tǒng)計(jì)結(jié)果可見:樣品中主要包括兩類陷阱,其中深度在0.4~0.6 eV的是淺陷阱,而深度在0.7~0.8 eV的主要是深陷阱。樣品中的淺陷阱占多數(shù),這個(gè)實(shí)驗(yàn)計(jì)算結(jié)果與之前采用多峰擬合的模擬計(jì)算結(jié)果(圖5(b))是一致的。
根據(jù)所得樣品的優(yōu)異發(fā)光性質(zhì),我們采用質(zhì)地透明、且機(jī)械性能良好的PDMS硅橡膠作為熒光粉載體,設(shè)計(jì)制作了一些典型的發(fā)光防偽圖案[20]。其中所采用的典型熒光粉包括:A代表氧化氣氛下制備的BaGa2Si2O8∶1.5%Eu樣品,B代表還原370 min的BaGa2Si2O8∶1.5%Eu,1.1%Pr樣品,C代表還原520 min的BaGa2Si2O8∶1.5%Eu,1.1%Pr樣品,D代表還原470 min的BaGa2Si2O8∶1.5%Eu, 1.1%Pr樣品。圖7(a)是一幅太極圖,由圖可見:在燈光下不能看到發(fā)光圖案,但在365 nm激發(fā)下可以看到由藍(lán)色和青蘭色構(gòu)成的太極圖,而在254 nm激發(fā)下則可以看到由紅色和青蘭色構(gòu)成的太極圖;當(dāng)關(guān)掉激發(fā)光源,還可看到太極圖的余輝發(fā)光圖案,也就是多模態(tài)發(fā)光防偽圖案。圖7(b)則給出了一幅游魚圖,其靜態(tài)發(fā)光特征與圖7(a)相似,不過這幅游魚圖還可以講述一個(gè)動(dòng)態(tài)防偽過程(圖7(c))。隨著時(shí)間推移,圖案在不斷改變。這個(gè)示例說明采用該熒光粉制作的發(fā)光圖案,可以利用其差異化的余輝發(fā)光性質(zhì)表達(dá)出動(dòng)態(tài)含義,因此該熒光粉具有很好的動(dòng)態(tài)防偽應(yīng)用潛力。
圖6 (a)BaGa2Si2O8∶1.5%Eu,1.1%Pr樣品在不同溫度激發(fā)下的熱釋光譜;(b)根據(jù)初升法對(duì)熱釋光譜曲線進(jìn)行處理的結(jié)果;(c)計(jì)算得到的陷阱分布柱狀圖;(d)陷阱分布的統(tǒng)計(jì)結(jié)果。
圖7 (a)太極圖示例及其多模態(tài)發(fā)光防偽應(yīng)用;(b)游魚圖示例及其多模態(tài)發(fā)光防偽應(yīng)用;(c)游魚圖呈現(xiàn)的動(dòng)態(tài)故事。
圖8則給出了基于該熒光粉的一些典型加密示例。根據(jù)需要我們采用粉體為白色但沒有光致發(fā)光的Na2CO3作為圖案背地。由圖8(a)的設(shè)計(jì)概念可知:該發(fā)光圖案在燈光下不顯示數(shù)字,但其在254 nm激發(fā)下顯示551,在365 nm激發(fā)下顯示986,而其余輝則顯示125,由此我們可以得到一個(gè)9位數(shù)的發(fā)光密碼(551-986-125)。類似地,我們還可以利用該熒光粉制作加密迷宮地圖,如圖8(b)所示。該地圖在日光下顯示沒有路能走出迷宮,但在254 nm激發(fā)下指示可以從下面的小門出去(誤導(dǎo)項(xiàng)),在365 nm激發(fā)下指示也無法走出迷宮,而根據(jù)余輝指示則可以從上面的近路走出去。這個(gè)示例說明,基于該熒光粉制作的簡單發(fā)光圖案,可以在不同激發(fā)下展現(xiàn)出不同的信息,具有良好的加密應(yīng)用前景。
圖8 (a)數(shù)字加密示例;(b)地圖加密示例。
本文采用高溫固相法成功制備了BaGa2Si2O8∶Eu2+,Eu3+,Pr3+熒光粉,其在254 nm和365 nm激發(fā)下,具有不同顏色的光致發(fā)光和余輝發(fā)光;通過摻入適量Pr3+離子,可以調(diào)節(jié)熒光粉的余輝發(fā)光時(shí)間。發(fā)光圖案的示例表明,該熒光粉的多模發(fā)光特征可應(yīng)用于多模發(fā)光防偽,而其差異化的余輝發(fā)光特征可應(yīng)用于動(dòng)態(tài)發(fā)光圖案的設(shè)計(jì),從而顯著提高防偽加密的安全層級(jí)。