李 燕

(廣東技術師范大學財經學院，廣州 510665)

0 引 言

黨的十八大明確提出“科技創(chuàng)新”是提高社會生產力和綜合國力的戰(zhàn)略支撐。在此背景下，各地政府和企業(yè)加大研發(fā)投入，專利申請及授權量增長迅猛，因此有學者質疑專利數量所代表的實質性創(chuàng)新[1]。研究珠三角制造業(yè)的創(chuàng)新活動對企業(yè)自我創(chuàng)新價值提升機制能為中國制造2025、粵港澳大灣區(qū)企業(yè)自主創(chuàng)新和政府創(chuàng)新激勵政策提供一定的借鑒意義，因此有較強的實踐意義和政策意義。

關于R&D投入對企業(yè)績效的影響研究得出的結論存在較大的差異。Griliches Z以美國大型制造企業(yè)為研究對象，結果發(fā)現R&D投入與企業(yè)生產率呈顯著正相關關系[2]。Hsu C等以118家美國跨國公司為研究樣本，得出了R&D投入與企業(yè)績效之間呈負相關[3]。也有學者的研究認為二者之間存在非線性關系，劉學之根據209家中美范圍內上市企業(yè)2009年至2015年相關數據，證明R&D投入具有動態(tài)邊際效應，它和企業(yè)績效之間呈“倒U型”的非線性關系[4]。

關于企業(yè)專利數量對企業(yè)價值的影響，Griliches研究發(fā)現，美國公司的專利擁有量與公司價值(Tobin’s Q)存在顯著的正相關[5]。黎文靖等發(fā)現非發(fā)明專利對企業(yè)市場價值影響不大，而發(fā)明專利能提高企業(yè)的市場價值[1]。米晉宏等通過對2000—2017年我國上市公司的專利數據，發(fā)現企業(yè)的專利數量對企業(yè)價值和營業(yè)總收入有顯著的正向影響[6]。

上述文獻分別就研發(fā)投入、專利數量與企業(yè)價值的關系進行了不同角度的研究，卻難以完整反映研發(fā)投入作用于企業(yè)自我創(chuàng)新價值提升的機理。本文以2009—2016年的珠三角制造業(yè)企業(yè)為樣本,以專利授權為中介,考察企業(yè)研發(fā)投入對企業(yè)自我創(chuàng)新價值提升的影響機制。本文希望回答以下3個問題：企業(yè)研發(fā)投入當期或是滯后幾期如何影響專利授權量(尤其是對發(fā)明專利授權量的影響)？專利被授權后是否真的帶來企業(yè)價值的提升？除了專利授權量,企業(yè)研發(fā)支出通過非專利創(chuàng)新部分能否帶來企業(yè)價值的提升？因此此研究通過專利授權量為中介來考察研發(fā)投入的創(chuàng)新機制具有一定的創(chuàng)新和理論意義。

1 理論分析與研究假設

1.1 研發(fā)投入與專利授權

企業(yè)研發(fā)投入的目的是通過創(chuàng)新活動提高自身的競爭力和企業(yè)價值，創(chuàng)新活動最直接的體現是專利。Griliches認為，即使專利數并不能完全代表企業(yè)研發(fā)的所有創(chuàng)新產出，但是它能夠良好的體現企業(yè)研發(fā)投入的效率[5]。

我國的專利分為發(fā)明專利、實用新型專利和外觀設計專利(本文將后兩種專利作為非發(fā)明專利)。其中發(fā)明專利從申請到授權的時間一般超過2年，而實用新型專利和外觀設計專利在6個月內即可完成申請到授權。因此，本文提出假設1。

H1a：企業(yè)的研發(fā)投入與發(fā)明專利授權量滯后2年或3年正相關。

H1b：企業(yè)的研發(fā)投入與非發(fā)明專利授權量當年或滯后1年正相關。

1.2 專利授權量與企業(yè)價值提升

專利被授權說明企業(yè)的研發(fā)投投入的創(chuàng)新成果得到法律的認可和保護，企業(yè)可以通過自己實施、轉讓或者許可來獲利。多數學者認為企業(yè)的專利擁有量能顯著提升企業(yè)價值。但專利數量成為企業(yè)或地方政府的創(chuàng)新業(yè)績或政績時，可能帶來的是專利數量的“粗放”式增長，張波濤等的研究證明了在我國存在這種現象[7]。相比非發(fā)明專利，發(fā)明專利能更多體現技術創(chuàng)新能力[1]。因此提出假設2。

H2：專利授權量有助于企業(yè)價值提升，其中發(fā)明專利的影響更大一些。

1.3 研發(fā)投入、專利授權與企業(yè)價值提升

按照熊彼特創(chuàng)新的含義，創(chuàng)新是建立一種新的生產函數，將生產要素和生產條件的“新組合”引入生產體系，因此創(chuàng)新不僅僅是一個技術概念，而是與企業(yè)經濟效益緊密相連的，因此研發(fā)投入中有的創(chuàng)新并不是完全通過專利體現出來。專利是創(chuàng)新“活動”的較好指標，但不能反映創(chuàng)新活動導致的實際經濟產出，尤其是專利數量的“粗放”式增長的背景下[7]，專利作為創(chuàng)新的中間調節(jié)手段通過激勵企業(yè)研發(fā)投入來提升企業(yè)價值的作用較小。因此提出假設3。

H3：專利授權量能激勵企業(yè)研發(fā)投入來提升企業(yè)價值，但研發(fā)投入除了通過專利來提升企業(yè)價值外，還有其他非專利創(chuàng)新部分提升企業(yè)價值。

2 研究設計

2.1 樣本選擇與數據來源

本文以2009—2016年間滬深兩市所有珠三角A股制造業(yè)上市公司為初始樣本，剔除凈資產為負、研發(fā)投入數據缺失、被ST的上市公司，同時剔除上市不滿4年的上市公司。得到最終樣本為226家公司1 006個年度觀測值。本文樣本數據來自國泰安數據庫(CSMAR)。

2.2 變量定義

因變量。以資產收益率ROA(RETURN OF ASSET)作為企業(yè)價值的代理變量。企業(yè)資產收益率是全面反映一個企業(yè)資金運作的整體效果的指標，能夠較好地反映企業(yè)的當期價值，因此借鑒國內外學者對企業(yè)價值或績效的研究，本文以ROA作為因變量。

中介變量。選取發(fā)明專利授權量和非發(fā)明專利授權量為中介變量。發(fā)明專利授權量以INPAT表示，非發(fā)明專利授權量以NINPAT表示。之所以選專利授權量而不選專利申請量作為變量，是因為專利授權量更能代表企業(yè)實現的創(chuàng)新。

自變量。相比研發(fā)投入金額，研發(fā)投入強度能更好地反映企業(yè)研發(fā)上支出力度，是更有“含金量”的數據，本文選自研發(fā)強度作為自變量，即企業(yè)R&D投入占企業(yè)營業(yè)收入的百分比，以RD表示。

控制變量。國內外研究發(fā)現，企業(yè)規(guī)模(SIZE，總資產的對數)和資產負債率(LEV)也會在一定程度上影響研發(fā)投入及價值創(chuàng)造效應，因而對上述變量進行控制(見表1)。

表1 變量定義表

2.3 模型構建

為檢測研究假設H1a和H1b，即企業(yè)的研發(fā)投入是否影響專利授權量，基于理論分析及前人的計量模型形式構建模型(1)和模型(2)。為檢測H2，借鑒相關學者的計量模型構建模型(3)。為檢測H3，構建模型(4)，如果H2只有發(fā)明專利與企業(yè)價值正相關，則在模型(4)中剔除INPAT變量及其交叉項。

INPATit=β0+β1RDit-2+β2RDit-3+θCONTROLSit+Vi+ξit

(1)

INPATit=β0+β1RDit+β2RDit-1+θCONTROLSit+Vi+ξit

(2)

ROAit=β0+β1INPATit+β2NINPATit+θCONTROLSit+Vi+ξit

(3)

ROAit=β0+β1RDit+β2INPATit+β3NINPATit+β4INPATit×RDit+β5NINPATit×RDit+θCONTROLSit+Vi+ξit

(4)

其中，各模型中β0是常數項，Vi表示個體不可觀測效應，表示企業(yè)間的異質性，ξit是誤差項，β1、β2、β3、β4、β5均指系數項。ROAit、RDit、INPATit、NINPATit分別表示公司資產收益率、R&D投入強度、發(fā)明專利授權量和非發(fā)明專利授權量，CONTROLSit代表相關的控制變量。INPATit×RDit和NPATit×RDit作為發(fā)明專利和非發(fā)明專利授權量與研發(fā)投入的交互項，衡量當期的發(fā)明專利和非發(fā)明授權量對研發(fā)投入影響企業(yè)價值的調節(jié)效應，如果系數顯著為正(負)，說明專利授權量激勵(擠出)了研發(fā)投入對企業(yè)價值創(chuàng)造，有正(負)向調節(jié)作用，進而證明H3。

3 實證分析

3.1 變量的描述性統(tǒng)計

模型(3)和模型(4)中相關變量是當年數據，得到最終樣本為216家公司1 006個年度觀測值；模型(2)需要連續(xù)兩年的數據，經篩選得到756個年度觀測值；模型(1)需連續(xù)4年的數據，經篩選得到383個年度觀測值。表2為變量的描述性統(tǒng)計，珠三角上市公司研發(fā)投入強度的均值為4.54%，最小投入強度為0.01%，最大則達到27.58%。

表2 2009—2016年變量的描述性統(tǒng)計

為了體現研發(fā)投入強度、發(fā)明專利授權量和非發(fā)明專利授權量的變化趨勢，以2009—2016年的上述變量的年平均值作出如圖1所示的趨勢分析圖。由圖1可見，珠三角上市公司對研發(fā)創(chuàng)新信息披露的家數呈現顯著上升態(tài)勢，說明近年來創(chuàng)新驅動意識增強，研發(fā)投入強度的平均值在2009—2016年間呈現緩慢上升趨勢，發(fā)明專利及非發(fā)明專利的授權量的平均數均出現上升態(tài)勢，非發(fā)明專利上升更為顯著。

圖1 2009—2016年RD、INPAT和NINPAT年均值變化趨勢

3.2 研發(fā)投入與專利授權

如表3所示，因變量INPAT和NINPAT分別代表了模型(1)和模型(2)的回歸結果。從模型(1)的結果來看，滯后2期的研發(fā)投入RDt-2在10%顯著水平與發(fā)明專利授權量INPAT正相關，相關系數為95.841，滯后3期的研發(fā)投入RDt-3在1%顯著水平與發(fā)明專利授權量INPAT正相關，相關系數為198.23，驗證了假設H1a，結果還表明研發(fā)投入滯后3期RDt-3對發(fā)明專利授權量INPAT的相關系數更大，且影響更為顯著。從模型(2)的結果來看，無論是當期RD還是滯后一期的研發(fā)投入RDt-1對非發(fā)明專利授權量NINPAT均沒有顯著的影響，說明非發(fā)明專利授權量近年大幅度的增長并不是由于研發(fā)投入強度的增強，否定了假設H1b，這一點印證了非發(fā)明專利“粗放”式增長可能是由于產業(yè)政策激勵的影響[1]。兩個模型的控制變量中只有企業(yè)規(guī)模SIZE均呈現1%顯著水平的正相關，說明規(guī)模越大的企業(yè)，兩類專利的授權量越多，其中模型2中的相關系數為151.17，模型(1)中的相關系數為23.93，進一步說明規(guī)模大的企業(yè)更有動機追求非發(fā)明專利的申請與授權。

3.3 專利授權與企業(yè)價值提升

如表4所示，發(fā)明專利授權量INPAT在10%顯著水平與企業(yè)的資產收益率ROA正相關，相關系數為0.001 5，而NINPAT非發(fā)明專利授權量與企業(yè)資產收益率相關性不顯著。兩個控制變量即企業(yè)資產規(guī)模SIZE與資產負債率LEV均與資產收益率ROA在1%水平上顯著相關，其中在企業(yè)規(guī)模為正相關，資產負債率為負相關。模型3的回歸結果部分驗證了假設H2，即專利中僅有發(fā)明專利對企業(yè)價值提升有正向影響，但影響系數較?。环前l(fā)明專利則對企業(yè)價值提升無明顯影響。

表3 研發(fā)投入對專利授權的回歸結果

注:***、**和*分別表示顯著性水平為1%、5%和10%,下同

表4 專利授權與企業(yè)價值提升的回歸結果

3.4 研發(fā)投入、發(fā)明專利授權與企業(yè)價值提升

為了進一步探索研發(fā)投入是如何影響企業(yè)價值提升的機理，在前面理論分析和回歸結果的基礎上，下面分別以研發(fā)投入一元回歸、加入發(fā)明專利授權的多元回歸及再引入兩者交叉項的回歸的多元回歸進行分析。

如表5所示，第2列為單獨對當期的研發(fā)投入RD與企業(yè)資產收益率ROA進行回歸的結果，表明當期的研發(fā)投入并不能顯著提升企業(yè)的價值；列3在列2的基礎上加上了自變量發(fā)明專利授權量INPAT，與前面結論一樣，INPAT在10%顯著水平正向影響ROA；列4單獨對滯后一期的研發(fā)投入RDt-1與企業(yè)資產收益率ROA進行回歸，結果表明滯后1期的研發(fā)投入在10%顯著水平正向影響ROA；列5的自變量有發(fā)明專利授權量、滯后2期的研發(fā)投入RDt-2和滯后3期的研發(fā)投入RDt-3，回歸結果表明3個自變量均與ROA正相關，INPAT和RDt-1在10%顯著水平上顯著，RDt-2在5%顯著水平上顯著，說明滯后2期的研發(fā)投入相比滯后1期和滯后3期對ROA的影響更顯著；列6在列5的基礎上添加了INPAT與RDt-2和RDt-3的兩個交叉項，結果顯示兩個交叉項分別在1%和10%的水平上顯著，且系數均為正，說明變量INPAT加強了RDt-2和RDt-3對ROA的正向影響，驗證了H3的前面內容，即發(fā)明專利授權量能激勵企業(yè)研發(fā)投入來提升企業(yè)價值。通過表4和表5的一系列回歸結果，還表明研發(fā)投入滯后1期RDt-1顯著提升企業(yè)價值，這種提升即沒有通過發(fā)明專利和非放專利的中介傳導效應，驗證了H3的后面內容，即研發(fā)投入除了通過專利來提升企業(yè)價值外，還有其他非專利創(chuàng)新部分提升企業(yè)價值。

3.5 穩(wěn)健性檢驗

為了保證實證結果的科學性和準確性，本文采用2種替換變量的方法對上述各個回歸進行了穩(wěn)健性檢驗。首先，對各模型中的自變量取每兩年均值，替代原自變量進行回歸分析，所得結果與原自變量結果基本一致；其次，本文將表4和表5回歸中的因變量ROA用TobinQ替代進行回歸分析，所得結果與原因變量結果基本一致。限于篇幅，穩(wěn)健性結果未在文中列示。

表5 研發(fā)投入、發(fā)明專利授權與企業(yè)價值提升的回歸結果

4 結論與啟示

本文利用珠三角制造業(yè)上市公司2009—2016年的研發(fā)投入強度、發(fā)明專利數據、非發(fā)明專利數據和財務數據，對研發(fā)投入、專利授權和企業(yè)價值提升之間的相互關系進行了研究，嘗試探索研發(fā)投入對提升企業(yè)價值的內在機理。相關研究結果回答了前文的問題，結論如下：第一，近年來非發(fā)明專利授權量的顯著增長并不是源于研發(fā)投入的加強，可能更多是由于產業(yè)政策激勵的企業(yè)短期追求專利數量的結果。第二，研發(fā)投入的加強能顯著提高發(fā)明專利的授權量，但需要滯后2期和3期才有顯著效果。第三，在專利中，僅發(fā)明專利授權量能顯著提升企業(yè)價值，且能激勵企業(yè)加強研發(fā)投入來提高企業(yè)價值。第四，研發(fā)投入除了通過發(fā)明專利的創(chuàng)新提升企業(yè)價值外，還有其他創(chuàng)新成果也促進了企業(yè)價值的提升。

本文的分析結果為企業(yè)通過研發(fā)投入達到價值創(chuàng)新的內在機理補充了新的證據和解釋，也為珠三角制造業(yè)上市公司創(chuàng)新發(fā)展提供了證據，分析結果可為政府和企業(yè)提供如下建議：第一，政府在倡導創(chuàng)新理念和出臺相關創(chuàng)新產業(yè)激勵政策的同時，除了數量的要求更要注重質量，我國不僅要成為專利大國，更要向專利強國邁進。具體到珠三角制造業(yè)，作為全國制造業(yè)的重要基地，更是粵港澳大灣區(qū)的科技創(chuàng)新的主力軍，政府應制定政策引導企業(yè)提高專利的質量，推動企業(yè)實質性創(chuàng)新。第二，發(fā)明專利更能體現創(chuàng)新價值，但發(fā)明專利需要更多的投入及更長的研發(fā)周期，企業(yè)應從市場需求和自身企業(yè)特征制定專利戰(zhàn)略，切實地從提高企業(yè)創(chuàng)新價值的角度考慮加大發(fā)明專利的研發(fā)投入。第三，由于發(fā)明專利申請授權過程較長，企業(yè)研發(fā)投入不一定通過專利形式達到企業(yè)價值的創(chuàng)新，因此政府應營造良好的市場環(huán)境，為企業(yè)研發(fā)投入提供便利條件，引導企業(yè)多方面提高創(chuàng)新質量。珠三角制造業(yè)企業(yè)則更應該通過有效地加大研發(fā)投入，以多種形式的創(chuàng)新來取得自身的創(chuàng)新優(yōu)勢進而對標世界三大灣區(qū)。