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        三元復(fù)合驅(qū)油體系鈣硅混合垢形成特征研究

        2020-01-13 03:31:08
        石油地質(zhì)與工程 2019年6期
        關(guān)鍵詞:六面體硅酸晶型

        趙 千

        (中國(guó)石油大慶油田分公司第四采油廠,黑龍江大慶 163000)

        三元復(fù)合驅(qū)油技術(shù)(Alkali-Surfant-Polymer)作為一種重要的三次采油技術(shù),已被各大油田重視[1-2]。但是,該技術(shù)的應(yīng)用也會(huì)給油田生產(chǎn)帶來(lái)一系列的問(wèn)題,特別是堿的加入容易造成油井嚴(yán)重結(jié)垢,不僅使生產(chǎn)效率降低、成本增加,而且會(huì)大大限制三元復(fù)合驅(qū)油技術(shù)的推廣使用[3]。三元復(fù)合驅(qū)結(jié)垢產(chǎn)物多為CaCO3和SiO2,前期主要以CaCO3垢為主,中后期主要以SiO2垢為主[4-5]。目前,針對(duì)三元復(fù)合驅(qū)油體系中垢質(zhì)成分、成垢特點(diǎn)和成垢機(jī)理等方面研究較多,但大多局限于對(duì)現(xiàn)場(chǎng)垢質(zhì)進(jìn)行溫度、時(shí)間、pH 值等因素對(duì)成垢影響分析[6-7],而針對(duì)三元復(fù)合驅(qū)油體系中堿、表面活性劑和聚合物對(duì)成垢影響的研究極少。因此,本文針對(duì)三元復(fù)合驅(qū)油體系中注入液、采出液及垢樣的特點(diǎn),通過(guò)室內(nèi)模擬實(shí)驗(yàn),對(duì)三元復(fù)合驅(qū)油體系中聚合物(HPAM)、表面活性劑(HABS)及堿對(duì)鈣硅混合垢形成的影響進(jìn)行研究。

        1 實(shí)驗(yàn)設(shè)備與樣品制作

        1.1 主要試劑

        CaCl2,Na2CO3,Na2SiO3,NaOH,工業(yè)制品重烷基苯磺酸(HABS),工業(yè)制品部分水解聚丙烯酰胺(HPAM)。

        1.2 實(shí)驗(yàn)儀器

        H110 型電子天平,HH-1 型電熱恒溫水浴鍋,pHs-25 型數(shù)顯pH 計(jì),DZ-1BC 型真空干燥箱,∑IGMA 型掃描電子顯微鏡,F(xiàn)T-IR750 型傅里葉紅外光譜儀,D/MAX 2200PC 型X 射線衍射儀。

        1.3 鈣硅混合垢樣品制作

        室內(nèi)模擬三元復(fù)合驅(qū)油體系中鈣硅混合垢的形成。首先分別配制濃度為640 mg/L 的CaCl2、960 mg/L的Na2CO3及150 mg/L 的Na2SiO3水溶液。依次向Na2CO3溶液中加入一定量的Na2SiO3溶液、HPAM 溶液及HABS 溶液,再加入CaCl2溶液,并且邊加邊攪拌。再將混合后的溶液放于45 ℃烘箱中恒溫反應(yīng)48 h。然后用0.45μm 的濾膜進(jìn)行過(guò)濾,過(guò)濾所得的固體多次用蒸餾水洗滌,并將洗好的樣品放入45 ℃烘箱中烘干;最后得到白色粉末狀固體,即為鈣硅混合垢樣。

        1.4 鈣硅混合垢樣品表征

        采用KBr 壓片法對(duì)混合垢樣的結(jié)構(gòu)進(jìn)行測(cè)定,波長(zhǎng)為450~4 000 cm-1;采用D/max 2200PC 型X 射線衍射儀對(duì)混合垢的物相結(jié)構(gòu)進(jìn)行分析,掃描速度為10°/min,衍射角掃描為10°~80°,管壓為40 kV,管流為20 mA;采用Zeiss∑IGMA 場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡對(duì)混合垢的形貌進(jìn)行觀察,加速電壓為10 kV,放大倍數(shù)為2 000~50 000。

        2 實(shí)驗(yàn)結(jié)果與分析

        2.1 HPAM 對(duì)鈣硅混合垢形成的影響

        在pH 為11.0,溫度為45 ℃,時(shí)間為48 h 成垢條件下,觀察不同HPAM 濃度對(duì)鈣硅混合垢晶型的影響。紅外光譜(FTIR)測(cè)試結(jié)果:混合垢樣的紅外光譜在波數(shù)876 cm-1和712 cm-1處均出現(xiàn)方解石特征吸收峰,且隨著HPAM 濃度的增加,方解石特征吸收峰位置不發(fā)生變化。這說(shuō)明隨著HPAM 濃度的增加,混合垢的晶型不發(fā)生改變,均為方解石相碳酸鈣晶體。X 射線衍射(XRD)測(cè)試結(jié)果:混合垢樣在2θ為23.06°、29.40°、35.98°、39.42°、43.17°、47.49°及48.50°處均出現(xiàn)方解石衍射峰,分別對(duì)應(yīng)著方解石的(012)、(104)、(110)、(113)、(202)、(018)和(116)晶面,這說(shuō)明不同HPAM濃度下形成的混合垢均為方解石相碳酸鈣晶體。

        HPAM 濃度對(duì)混合垢形貌的影響如圖1 所示??梢钥闯?,未加入HPAM 的混合垢形貌為大小不一的花生狀。當(dāng)HPAM 濃度較低時(shí),混合垢形貌為表面粗糙的花生狀,隨著HPAM 濃度的增加,部分花生狀消失,形成了六面體或球狀垢樣。這是因?yàn)槲醇尤際PAM 的混合垢樣在生長(zhǎng)過(guò)程中,硅垢是以低聚硅酸的形態(tài)存在的,低聚硅酸鏈以碳酸鈣為核進(jìn)行吸附,促進(jìn)兩個(gè)碳酸鈣晶核的連接,形成了中間細(xì)兩頭粗的花生狀結(jié)構(gòu)。加入HPAM 后,由于其黏性較大,HPAM 上的羧基與碳酸鈣之間的作用更強(qiáng),故促進(jìn)了六面體或球狀碳酸鈣垢樣的形成。

        圖1 不同HPAM 濃度下垢樣的形貌

        2.2 HABS 對(duì)鈣硅混合垢形成的影響

        在pH 值為11.0、溫度為45 ℃、時(shí)間為48 h 成垢實(shí)驗(yàn)條件下,觀察不同HABS 濃度對(duì)鈣硅混合垢晶型的影響。FTIR 的測(cè)試結(jié)果表明,混合垢樣的紅外光譜在波數(shù)為872 cm-1、712 cm-1處均出現(xiàn)方解石特征吸收峰。隨著HABS 濃度的增加,在波數(shù)為2 925 cm-1、2 850 cm-1處出現(xiàn)—CH2—的特征吸收峰;在波數(shù)為1 180 cm-1及1 054 cm-1處出現(xiàn)磺酸鹽的—S=O 鍵伸縮振動(dòng)吸收峰,并且吸收峰強(qiáng)度不斷增加;這說(shuō)明HABS 的加入對(duì)混合垢的晶型不產(chǎn)生影響,但隨著HABS 濃度的增加,HABS 會(huì)參與混合垢的形成。XRD 測(cè)試結(jié)果表明,不同HABS 濃度下均出現(xiàn)方解石的(012)、(104)、(110)、(113)、(202)、(018)和(116)晶面衍射峰,這說(shuō)明在不同HABS濃度下所得到的混合垢樣均為方解石。

        測(cè)定不同HABS 濃度下混合垢的形貌(圖2),可以看出,當(dāng)HABS 濃度較低時(shí),HABS 不參與混合垢的形成,形貌為大小不一的花生狀;隨著HABS 濃度的增加,花生狀逐漸消失,混合垢逐漸向蠕蟲(chóng)狀轉(zhuǎn)變。這是因?yàn)殡S著HABS 濃度的不斷增加,硅酸縮合物會(huì)與HABS 形成膠束,HABS 分子中磺酸根離子與鈣離子相互作用,為碳酸鈣晶核的形成提供位點(diǎn),同時(shí)與吸附在不同HABS 膠束表面的硅酸縮合物進(jìn)一步縮合,從而促進(jìn)了蠕蟲(chóng)狀的形成。

        圖2 不同HABS 濃度下垢樣的形貌

        2.3 堿對(duì)鈣硅混合垢形成的影響

        加入堿會(huì)使三元復(fù)合驅(qū)油體系pH 值發(fā)生變化。為此,可通過(guò)改變體系pH 值的方法,觀察堿對(duì)鈣硅混合垢形成的影響。實(shí)驗(yàn)溫度45 ℃,時(shí)間為48 h,HPAM 和HABS 的濃度分別為100 mg/L 和600 mg/L。FTIR 測(cè)試結(jié)果表明,三元復(fù)合驅(qū)油體系pH 值小于10.5 時(shí),混合垢樣的紅外光譜在波數(shù)為745 cm-1處出現(xiàn)吸收峰,說(shuō)明有球霰石的形成;隨著體系pH 值的不斷增加,在波數(shù)為745 cm-1處的吸收峰消失,而在波數(shù)為872 cm-1和712 cm-1處出現(xiàn)吸收峰,說(shuō)明有方解石的形成,同時(shí)說(shuō)明了隨著堿加入量的增加,混合垢晶型由球霰石向方解石轉(zhuǎn)變。當(dāng)體系pH 值小于10.5 時(shí),XRD 測(cè)試結(jié)果中也出現(xiàn)了球霰石(110)、(112)、(114)、(304)、(118)及(224)晶面衍射峰,這與紅外譜圖測(cè)試結(jié)果一致。

        對(duì)不同堿濃度三元復(fù)合驅(qū)油體系中形成的混合垢形貌進(jìn)行電子顯微鏡(SEM)測(cè)定(圖3)。從圖3 可以看出,當(dāng)體系pH 值為8.5 時(shí),混合垢形貌為不規(guī)則的球狀;隨著體系pH 值的增加,混合垢形貌向六面體狀轉(zhuǎn)變;當(dāng)體系pH 值達(dá)11.0 時(shí),混合垢整體呈六面體狀,這表明在三元復(fù)合驅(qū)油體系中隨著堿濃度的增加,混合垢形貌由不規(guī)則球狀向六面體狀結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變。

        2.4 鈣硅混合垢形成機(jī)理分析

        實(shí)驗(yàn)得到的混合垢晶體形貌與現(xiàn)場(chǎng)混合垢樣形貌進(jìn)行對(duì)比分析,現(xiàn)場(chǎng)三元復(fù)合驅(qū)油體系中形成疊層六面體、片層、球狀、蠕蟲(chóng)狀、花生狀等多種形貌的混合垢;室內(nèi)模擬三元復(fù)合驅(qū)油體系也以花生狀、球狀、六面體狀、蠕蟲(chóng)狀等多種形貌的混合垢存在,與現(xiàn)場(chǎng)垢樣的形貌幾乎一致。為此,對(duì)三元復(fù)合驅(qū)油體系中鈣硅混合垢形成機(jī)理進(jìn)行分析。

        當(dāng)體系中HPAM 濃度不同,其對(duì)混合垢形貌的影響機(jī)理也不相同。當(dāng)HPAM 濃度較小時(shí),其分子鏈會(huì)分散在水溶液中,對(duì)混合垢的形貌影響較小,形成花生狀形貌。隨著HPAM 濃度的增加,HPAM 會(huì)發(fā)生聚集,其分子鏈上的羧基使分子鏈間相互排斥,導(dǎo)致分子鏈間具有一定的間隔,同時(shí)低聚硅酸剛好插入HPAM 分子鏈間發(fā)生縮合反應(yīng),加上HPAM 聚集體間的重組作用,促進(jìn)六面體狀及棒狀混合垢的形成(圖4a)。 當(dāng)體系中HABS 濃度不同,其對(duì)混合垢的影響機(jī)理也不相同。當(dāng)HABS 濃度較低時(shí),其對(duì)混合垢的形貌幾乎沒(méi)有影響。當(dāng)HABS 濃度較高時(shí),會(huì)形成棒狀的膠束,同時(shí)低聚硅酸會(huì)插入到膠束的內(nèi)部,對(duì)混合垢的形貌造成影響。由于HABS 膠束的進(jìn)一步重組作用,促進(jìn)蠕蟲(chóng)狀混合垢的形成(圖4b)。

        在三元復(fù)合驅(qū)油體系HPAM、HABS 和堿共同作用下,會(huì)促進(jìn)六面體狀及球狀混合垢的形成。這是因?yàn)镠PAM 和HABS 都具有負(fù)電性,不同的聚集體間存在斥力,使HPAM 分子鏈的剛性增強(qiáng),對(duì)混合垢的形貌控制作用增強(qiáng),形成了六面體狀混合垢。當(dāng)HPAM 濃度較高(pH 較低)時(shí),其黏性增加,會(huì)包裹部分HABS,使HPAM 的水解程度降低。HPAM及HABS 聚集體間的靜電斥力降低,低聚硅酸鏈的縮合程度增強(qiáng),分布在聚集體中的低聚硅酸鏈會(huì)減少。在多因素共同作用下,HPAM 及HABS 聚集體間會(huì)發(fā)生重組,促進(jìn)球狀混合垢的形成[8-9](圖4c)。

        圖4 三元復(fù)合驅(qū)油體系中鈣硅混合垢的形成機(jī)理

        3 結(jié)論

        (1)向成垢體系中加入HPAM 對(duì)混合垢的晶型產(chǎn)生影響,低濃度HPAM 促進(jìn)花生狀混合垢的形成,隨著HPAM 濃度的增加,混合垢晶型由花生狀向六面體狀轉(zhuǎn)化。

        (2)不同濃度HABS 會(huì)對(duì)混合垢的晶型產(chǎn)生影響,當(dāng)HABS 濃度較低時(shí),對(duì)混合垢晶型幾乎無(wú)影響,HABS 濃度較高時(shí),會(huì)促進(jìn)蠕蟲(chóng)狀混合垢的形成。

        (3)在三元復(fù)合驅(qū)油體系中,當(dāng)堿濃度較低時(shí),形成球狀混合垢;隨著堿濃度的增加,形成六面體狀混合垢。

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