摘 要：Color Filter是TFT_LCD的重要組成部分，也是其性能參數(shù)的重要決定因數(shù)。Rework生產(chǎn)線是彩色過(guò)濾片（簡(jiǎn)稱CF）各段制程產(chǎn)生的不良基板回收處理設(shè)備。本文簡(jiǎn)單介紹了CF結(jié)構(gòu)及不同線體制程發(fā)生的NG Glass基板，回收至Rework設(shè)備時(shí)，對(duì)應(yīng)的Rework處理流程（Etch（蝕刻）處理流程、Strip（剝離）處理流程）及工藝。

關(guān)鍵詞：Rework；Glass基板；Strip

中圖分類號(hào)：TN873.93 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A 文章編號(hào)：1004-7344（2018）32-0324-01

1 Color Filter（簡(jiǎn)稱CF）的結(jié)構(gòu)

CF的材料包括：Black Resist（樹(shù)脂BM）、Color Resist（R·G·B）、ITO（透明電極）、Photo Spacer（PS材）。

2 CF Rework設(shè)備作業(yè)流程介紹

在CF產(chǎn)線中，Rework設(shè)備其實(shí)是Etch加Strip兩個(gè)設(shè)備的U形組合設(shè)備。它主要分為兩個(gè)制程流程：Etch蝕刻流程（酸液制程）、Strip剝離流程（堿液制程）。Rework設(shè)備Etch蝕刻流程是指：NG Glass基板在Rework時(shí)要先經(jīng)過(guò)Etch設(shè)備制程，在經(jīng)過(guò)Strip設(shè)備制程。Rework設(shè)備Strip剝離流程是指：NG Glass基板僅進(jìn)行Strip剝離設(shè)備制程。

3 Rework設(shè)備處理分類

3.1 Etch制程處理

在CF產(chǎn)線中，ITO（透明電極）、PS：Photo Spacer制程線體產(chǎn)出的NG Glass基板，會(huì)統(tǒng)一回收至Repair進(jìn)行修補(bǔ)，在Repair無(wú)法修補(bǔ)時(shí)，最后統(tǒng)一進(jìn)行Rework設(shè)備的Etch制程處理。Rework設(shè)備Etch制程原理是將PS、ITO NG的Glass進(jìn)行Etch制程處理，原理為NG Glass基板在腔體和酸液（主要成分為三氧化鐵Feo3+鹽酸HCL）在高溫，有效的制程時(shí)間、流量、濃度發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，去除Glass上的ITO（連帶PS柱），在經(jīng)過(guò)清洗，風(fēng)干等產(chǎn)出。

3.2 Strip制程處理

在CF產(chǎn)線中：Black Resist（樹(shù)脂BM）、Color Resist（R·G·B）制程產(chǎn)出NG Glass基板，在Repair無(wú)法修補(bǔ)時(shí)，最后統(tǒng)一進(jìn)行Rework設(shè)備的Strip制程處理。Rework設(shè)備Strip制程原理是將BM、R、G、B線體產(chǎn)出的NG Glass基板進(jìn)行Strip制程處理，原理為NG Glass基板在腔體和堿液（主要成分為氫氧化鉀KOH）在高溫，有效的制程時(shí)間、流量、濃度發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，去除Glass上的BM、R、G、B光阻，在經(jīng)過(guò)清洗，風(fēng)干等產(chǎn)出。

4 Strip處理工藝流程

BM、R、G、B線體NG的Glass在Rework Strip處理時(shí)，主要是通過(guò)強(qiáng)堿剝離、毛刷和M/J清洗、純水清洗以及A/K的CDA風(fēng)干等，產(chǎn)出后為素Glass的整體制程工藝，下面分別介紹主要處理工藝。

4.1 強(qiáng)堿剝離

線體產(chǎn)出固化后的NG光刻膠在Glass基板上的附著里較強(qiáng)。當(dāng)NG Glass基板在制程腔體與氫氧化鉀（KOH）在70℃高溫進(jìn)行化學(xué)剝離，化學(xué)剝離同時(shí)，在使用高速旋轉(zhuǎn)的毛刷（R/B）結(jié)合高壓堿液噴淋進(jìn)行剝離強(qiáng)化，在經(jīng)過(guò)多次反復(fù)作用，保證NG的光刻膠能夠快速的剝離。

4.2 R/B毛刷清洗

剝離后的Glass表面附著了較多的微小顆粒物，在通過(guò)水區(qū)間的毛刷與Glass上下表面接觸，并以400rpm的轉(zhuǎn)速及高壓的循環(huán)純水噴淋進(jìn)行Glass正反面的有機(jī)物去除，主要清除5um以上的Particle，從而達(dá)到清洗效果。

4.3 M/J清洗（二流體清洗）

在R/B去除Glass表面的大量有機(jī)物后，再次使用M/J的二流體結(jié)合循環(huán)純水壓力對(duì)Glass上下表面進(jìn)行噴淋，進(jìn)行1～5um的Particle除去，利用空氣與水的混合后，在Glass基板表面生產(chǎn)氣體爆炸，從而達(dá)到清洗效果。

4.4 純水清洗及A/K干燥

在R/B清洗、M/J清洗結(jié)束后，Glass表面仍會(huì)存在小量的浮游Particle，為了更好的保證Rework后的素玻璃表面的潔凈度，最后會(huì)進(jìn)行純水制程，主要是通過(guò)液刀沖洗，及高壓噴嘴清洗，對(duì)Glass表面的浮游Particle進(jìn)行反復(fù)清洗，最后在經(jīng)過(guò)A/K風(fēng)刀對(duì)Glass基板表面的液進(jìn)行高壓分離，從而到達(dá)干燥效果。

5 Strip工藝優(yōu)化

在初始Rework Strip設(shè)備量產(chǎn)時(shí)，發(fā)現(xiàn)Rework良率低，并經(jīng)常發(fā)生NG Glass反復(fù)Rework的情況。經(jīng)過(guò)多次調(diào)查測(cè)試，確認(rèn)在進(jìn)行BM NG Glass重新Rework后，Glass上存在大量約為10um左右的可擦拭異物（少量伴有光阻殘留的情況）。經(jīng)過(guò)反復(fù)調(diào)查驗(yàn)證，確認(rèn)Rework清洗機(jī)區(qū)間的清洗效果存在很大的問(wèn)題（少量光阻殘留為，強(qiáng)堿剝離工藝參數(shù)異常）。初始時(shí)Rework Strip NG Glass基板在水區(qū)間清洗純水系統(tǒng)不合理：R/B循環(huán)過(guò)濾水到M/J循環(huán)過(guò)濾水，再到直供超純水，因?yàn)镸/J循環(huán)的過(guò)濾水為多次使用的后過(guò)濾水，再次Return至Tank進(jìn)行M/J清洗，導(dǎo)致Tank內(nèi)的純水潔凈度越來(lái)越差，M/J的清洗失效，影響良率。

經(jīng)過(guò)多次測(cè)試確認(rèn)，少量光阻殘留的問(wèn)題，在加長(zhǎng)強(qiáng)堿制程時(shí)間、增大Glass上表面流量、減少下表面流量，提高制程R/B轉(zhuǎn)速后強(qiáng)堿剝離工藝得到解決。而對(duì)于清洗機(jī)區(qū)間清洗效果差的問(wèn)題，也得到了有效的改善：將初始R/B毛刷清洗機(jī)區(qū)間出口增加一組M/J裝置，并將原M/J清洗區(qū)間的過(guò)濾水改造為純水供應(yīng)清洗使用。

6 結(jié) 語(yǔ)

對(duì)于Rework后的Glass基板上的光阻殘留，考慮到節(jié)能減材，采用了成本低的優(yōu)化方式，并未采取提高藥劑濃度或增加剝離去除機(jī)構(gòu)，增加公司成本的處理方式，也有效的解決了問(wèn)題。而對(duì)于Rework產(chǎn)出Glass基板清洗效果不合格，也是未進(jìn)行大項(xiàng)目的改造，未變更造價(jià)較大的超聲波清洗等。都是采用局部改造供水管道，增加成本較低，效果較佳的M/J等。

參考文獻(xiàn)

[1]楊南超.基于Color Filter的Rework流程優(yōu)化研究[D].金上海交通大學(xué)，2014.

收稿日期：2018-9-16

作者簡(jiǎn)介：鐘義順（1988-），男，江蘇南京人，工程師，主要從事產(chǎn)品的ITO技術(shù)生產(chǎn)管理工作。