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        下一代存儲技術RRAM專利技術發(fā)展綜述

        2018-08-29 17:05:56曾偉濤
        科技傳播 2018年16期

        曾偉濤

        摘 要 隨著晶體管的尺寸不斷縮小,當前存儲器發(fā)展的瓶頸已凸現(xiàn),在后摩爾時代,對下一代存儲器的研究日益重要。文章研究了下一代存儲技術中的重要代表阻變存儲器(RRAM)的專利申請、布局分析,并結合美國Crossbar和我國主要申請人的技術功效分析,為我國相關產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供參考意見。

        關鍵詞 阻變存儲器;RRAM;專利;下一代存儲器

        中圖分類號 G3 文獻標識碼 A 文章編號 1674-6708(2018)217-0155-02

        存儲器是信息產(chǎn)業(yè)的重要支柱,但我國每年芯片進口額超過2 000億美元,其中存儲芯片大約占600億美元,這是我國信息安全的一個隱患。中興事件之后,更是引發(fā)了芯片行業(yè)的舉國大討論。2015年全球前五大存儲芯片公司,包括三星、鎂光、SK海力士、東芝和閃迪,總營收已占整個市場的95%,這一比例遠超2008年全球前五強的市場總份額(75%),全球存儲市場已進入寡頭壟斷時代,而我國在存儲市場的競爭力還很薄弱。

        隨著云存儲、大數(shù)據(jù)、工業(yè)4.0、物聯(lián)網(wǎng)及移動互聯(lián)網(wǎng)時代的到來,如今90%的數(shù)據(jù)產(chǎn)生于過去兩年,未來的數(shù)據(jù)存儲需求還會進一步加大。可見發(fā)展存儲器產(chǎn)業(yè),是保障我國信息安全的需要,是順應未來信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展形勢的需要,也是我國搶占國際創(chuàng)新陣地成為創(chuàng)新型國家的歷史需要。

        RRAM是具有高讀寫速度(10-30ns)、高存儲密度、高耐受性(109)、持久性、可以3D集成的低功耗非易失存儲器,并且重要的是可使用常規(guī)的CMOS工藝制造,閃存代工廠幾乎不需要改變設備即可生產(chǎn)。除此之外,RRAM最有希望取代DRAM,這將突破現(xiàn)有計算機CPU—內(nèi)存—非易失存儲器的架構,極大提升計算機性能。由于具有突出的存儲性能,因此RRAM是學術界和企業(yè)界的重點研究方向。

        本次檢索分析基于德溫特專利數(shù)據(jù)庫,針對主要涉及RRAM/memristor存儲的專利技術,其主要的關鍵詞是RRAM、memristor及其常見拓展,并排除非G-H部和其它明顯無關分類、MRAM等主題以及memristor在非存儲方面應用的干擾,共計3 252項(檢索時間:2018年6月底)。

        1 申請分析

        參考圖1,該領域的專利申請量在持2000年后持續(xù)攀升,從2011年以后基本穩(wěn)定在300~400件之間,其中2016—2017的申請量出現(xiàn)下降的原因是專利申請后自申請日起18個月后公開(PCT國際申請需要更長時間),因此最后的數(shù)據(jù)量并不代表該年的真實申請量。美國對于該領域的申請量占據(jù)絕對優(yōu)勢,中日韓總量相差不大,但日本在該領域的申請量呈減小趨勢,表明日本或已專攻其它方向而有意放棄該領域,韓國的較為平穩(wěn),中國申請人的申請量則平穩(wěn)上升。該領域最早的申請可以追溯自EPIR效應的發(fā)現(xiàn)者:休斯頓大學的Liu S Q等。

        中國市場的主要申請人為北京大學、中科院微電子所、三星、臺積電、宏旺電子、鎂光、索尼、復旦大學、惠普、松下、SK海力士、東芝等。我國在該領域的重要申請人為中科院微電子所(劉明、龍世兵等)、北京大學(康晉鋒、劉力鋒等)、復旦大學(林殷茵)和華中科技大學(繆向水)。但是我國的主要申請人約75%的是高校及科研單位,企業(yè)申請不足25%,也反應了我國在該領域的研發(fā)主要停留在實驗室里,所申請專利可能并不能適應市場的需要。北京、上海是RRAM領域我國在該領域申請人來源地最大的兩個城市,浙江、湖北、山東次之,其它省份申請量均較低。

        2 功效分析

        Crossbar是來自美國加州的創(chuàng)業(yè)企業(yè),在RRAM領域頗有建樹。材料、工藝、結構、控制方法是其研發(fā)的主要改進手段,存儲密度、低制造成本、耐久性、抑制串擾等是主要的解決問題,并且Crossbar已在提高產(chǎn)品良品率上下功夫,可見其在著手考慮量產(chǎn)問題,這表明其已達到接近實際投產(chǎn)的研發(fā)能力。

        針對我國主要技術團隊(北京大學、中科院微電子所、復旦大學、華中科技大學)的技術功效,其主要的改進手段在于材料、工藝、結構,這也是存儲器研發(fā)的重中之重。研發(fā)關注的問題較多,大多均有涉及,并且還關注到了柔性存儲這一方向,但不同于企業(yè),很少有人關注良品率的提高這一問題。

        在2016年,Crossbar技術公司正式宣布進軍中國阻變式存儲器市場,并在中國的上海設立辦事處,進而促使企業(yè)發(fā)展?,F(xiàn)階段,Crossbar RRAM已經(jīng)實現(xiàn)在較小的芯片上進行太節(jié)字(terabyte)存儲,并利用其自身的性能為當前的大規(guī)?;ヂ?lián)網(wǎng)運行提供能耗,滿足當前的需求,被廣泛的應用。例如,在不斷的發(fā)展過程中,其經(jīng)歷了可穿戴的SOC嵌入式存儲、云數(shù)據(jù)中心超高密SSD等,滿足不斷提升的需求。例如,Crossbar公司的首席執(zhí)行官George Minassian博士曾經(jīng)說過:“中國電子行業(yè)市場發(fā)展最為迅速,也是大多數(shù)產(chǎn)品的生產(chǎn)源地,我們企業(yè)憑借自身企業(yè)雄厚的實力,利用自身具備的資源,”在中國進行有效的企業(yè)建設,并積極進行創(chuàng)新,通過現(xiàn)金的技術水平,促使中國的企業(yè)、消費電子、物聯(lián)網(wǎng)、工業(yè)等市場,掀起大規(guī)模的新一輪電子創(chuàng)新浪潮,迎合時代發(fā)展。

        與此同時,Crossbar企業(yè)積極與中芯國際進行合作,通過互利互惠,將當前其的嵌入式技術用于中芯國際40mm甚至是更高的工藝,進而滿足當前的需求,并促使新技術創(chuàng)新開發(fā)。

        通過合理的集成更大的片上非易失性阻變式存儲器(RAMM)到機頂盒、智能卡、監(jiān)視器以及IP相機等相關技術的有效應用,可以合理的促使當前的技術進行創(chuàng)新,并通過不斷的研究與發(fā)展,促使當前的高安全性與低功耗的設計方案被制定。

        George Minassian博士曾表示,在當前的時代背景下,物聯(lián)網(wǎng)技術的發(fā)展與可穿戴市場需求的變化,促使當前的市場需求逐漸發(fā)生變化,要求微控制器自身需要以安全、節(jié)能以及低成本為基礎,在不斷的發(fā)展過程中進行技術創(chuàng)新,以滿足當前的需求。

        而Crossbar RRAM技術的應用,可以有效促使當前的內(nèi)存模塊得到創(chuàng)新,提供片上編成與數(shù)據(jù)存儲嵌入式模塊,滿足當前的需求,與此同時,該技術還可以充分發(fā)揮出自身的優(yōu)勢,甚至單獨將其作為當前的EEPORM內(nèi)存,通過制定合理的方案,滿足當前市場的需求。

        3 結論

        本文通過對RRAM專利申請基本情況進行了整理和分析,結果表明該領域受到了國外存儲巨頭的青睞,美國韓國該領域的研究還在穩(wěn)步進行,日本在該領域的投入逐年遞減,而我國的申請人還主要集中在高校和研究所。我國還須高校緊密聯(lián)系企業(yè),引進國外頂尖技術人才,解決器件級變化性等關鍵問題,才能實現(xiàn)在下一代存儲器領域彎道超車。

        參考文獻

        [1]王源,等.新一代存儲技術:阻變存儲器[J].北京大學學報(自然科學版),2011,47(3):565-572.

        [2]Memristor - The Missing Circuit Element [J]. Chua Leon O. IEEE Transactions on Circuits Theory. 1971,18 (5).

        [3]The missing memristor found [J]. Dmitri B. Strukov,etal. Nature. 2008, 453(7191).

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