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        單晶SiC微切削機理分子動力學建模與仿真研究

        2018-08-29 08:15:00王超李淑娟柴鵬嚴俊超李言
        兵工學報 2018年8期
        關鍵詞:原子間切削速度切削力

        王超, 李淑娟, 柴鵬, 嚴俊超, 李言

        (西安理工大學 機械與精密儀器工程學院, 陜西 西安 710048)

        0 引言

        單晶SiC具有高熔點溫度、低熱膨脹系數(shù)和高導熱性等優(yōu)異性能,已被公認為高溫、大功率和高頻功率器件、渦輪發(fā)動機組件、光學器件、太空望遠鏡等的原材料。如美國國家航空航天局格倫研究中心正在努力開發(fā)單晶SiC作為先進半導體電子設備應用的未來材料[1]。單晶SiC應用于以上領域需具有良好的表面質(zhì)量,而傳統(tǒng)加工工序如切割、研磨和拋光等經(jīng)常導致切削加工時間長,材料浪費嚴重。20世紀90年代,大量研究人員開始研究SiC塑性域加工,如塑性研磨和金剛石刀具的塑性域切削。由于塑性域加工處在納米尺度,實驗費用高且加工時間長,許多研究人員開始考慮采用仿真的方法,如分子動力學(MD)模擬來解釋脆性材料的塑性域加工機理[2-4]。MD模擬是一個非常準確的模擬方法,在原子尺度和分子尺度上具有充分描述正在處理的材料演變微觀結(jié)構能力。目前MD模擬的計算能力最大規(guī)模僅為幾立方微米,使得模擬尺度受到很大限制,MD模擬主要應用于切削深度處于微納水平的切削[3]。MD模擬為在原子尺度和分子尺度研究材料分子構型與排列順序、體系熱力學性質(zhì)等的一種方法[5]。朱朋哲[6]采用耦合MD模擬和有限元二維多尺度模型研究了納米壓痕過程,將二維多尺度模型擴展到三維情形,實現(xiàn)了三維納米壓痕和刻劃過程的多尺度模擬,從而表明多尺度方法可有效地擴展所能研究的系統(tǒng)尺寸,并使用納米硬度和原子力顯微鏡對仿真結(jié)果進行了驗證,證明了其與多尺度模擬結(jié)果的一致性。羅熙淳等[7-8]研究了單點金剛石車刀磨損的MD模擬模型,使用徑向分布函數(shù)和配位數(shù)發(fā)現(xiàn)了金剛石刀具在加工過程中的石墨化。Chavoshi等[9-13]研究了單晶Si在納米切削過程中的位錯和堆積缺陷。Lin等[14]、Wang等[15]分別研究了單晶Cu、單晶Si的各向異性對切削力影響。Xiao等[16]研究了6H-SiC在塑性域加工時的加工機理,利用MD模擬仿真得到由位錯引起6H-SiC韌性響應的主要作用。唐玉蘭等[17-19]采用MD模擬研究了單晶Si等材料在納米尺度下表面質(zhì)量等切削機理。

        本文采用MD模擬方法,對單晶3C-SiC切削過程進行了建模和仿真,研究了在不同切削速度下切削力隨刀具移動的變化。

        1 MD模擬計算

        MD模擬通過牛頓運動方程將原子的相互作用勢能函數(shù)和相對位置聯(lián)系起來,選擇合適的系綜及溫度控制方法進行迭代計算,從而得到原子的坐標位置、速度和加速度等,進而可推導出熱力學量等。

        美國Sandia國家實驗室開發(fā)的大規(guī)模并行計算軟件Large-scale Atomic/Molecular Massively Parallel Simulator(LAMMPS)[20]為MD模擬開源軟件,其涵蓋了所有MD模擬仿真的應用領域,支持氣態(tài)、液態(tài)、固態(tài)下各種系綜及仿真規(guī)模的原子體系、分子體系模擬。通常采用Visual Molecular Dynamics(VMD)[21]、Open Visualization Tool(OVITO)[22]等可視化軟件對MD模擬數(shù)據(jù)進行處理,本文主要采用OVITO軟件進行數(shù)據(jù)處理和圖像渲染。

        1.1 MD模擬建模

        切削加工中,MD模擬仿真大都采用經(jīng)典牛頓運動方程:

        (1)

        式中:aix為第i(i=1,2,…,118 853)個原子x軸方向的加速度(?/ps2);mi為第i個原子質(zhì)量(g/mol);Fix為第i個原子受到第j(j=1,2,…,118 853,j≠i)個原子對其x軸方向的作用力(eV/?);xij為第i個原子與第j個原子之間的距離(?);Vij為第i個原子和第j個原子之間的成鍵能量(eV)。

        熱量和動能之間轉(zhuǎn)換通過(2)式進行計算:

        (2)

        式中:vi為第i個原子的瞬時速度(?/ps);n為原子個數(shù);kB為玻爾茲曼常數(shù);Ti為第i個原子的溫度(K)。

        仿真工件和刀具采用的三維模型如圖1所示。刀具在仿真過程中被設定為剛體,為了研究工件原子在切削過程中的位移、溫度等變化,采用了經(jīng)典切削3層模型:牛頓層、恒溫層和邊界層。

        1.2 勢能函數(shù)選取

        原子間的作用力是通過對勢能函數(shù)的求導獲得的,勢能函數(shù)描述了原子距離和鍵角。對于不同材料,要選擇相應的勢能函數(shù)來描述原子之間的作用力。單晶3C-SiC呈金剛石型晶體結(jié)構,原子間有較強的共價鍵作用,故采用三體勢中的Tersoff勢能函數(shù)[23-24]來描述共價體系的原子間作用力。

        第i個原子和第j個原子間的勢能函數(shù)為

        (3)

        Vij=fc(rij)[fr(rij)+bijfa(rij)],

        (4)

        fr(rij)=Aijexp(-λijrij),

        (5)

        fa(rij)=-Bijexp(-μijrij),

        (6)

        (7)

        仿真過程中,單晶SiC材料不同原子間作用的Tersoff勢能函數(shù)參數(shù)如表1所示。

        表1 單晶SiC材料不同原子間作用的Tersoff勢能函數(shù)參數(shù)Tab.1 Tersoff potential energy function parameters due to the interaction between different atoms in single crystal SiC

        1.3 仿真參數(shù)

        MD模擬計算適用于研究小于10-9s的運動,如蛋白質(zhì)的折疊運動等。需要注意的是:劃痕實驗時,采用的切削速度只有幾百微米每秒,無法達到仿真實驗幾百米每秒的速度要求,原因在于MD模擬自身的局限性,即僅在切削仿真實驗中,MD模擬目前只適合計算較快的原子運動。另外,在模擬中材料通過較高的變形率來保證計算時間的準確,但在實驗狀態(tài)下物質(zhì)的變形率是很低的[16],因此利用MD模擬研究材料在納米尺度下的狀態(tài),為宏觀上研究脆性材料的切削機理提供了理論依據(jù)。仿真模型的切削參數(shù)如表2所示。

        表2 仿真模型的切削參數(shù)Tab.2 Cutting parameters of simulation model

        2 仿真實驗

        2.1 系綜選擇

        微正則(NVE)系綜(即具有確定的粒子數(shù)、體積、總能量)被廣泛應用于MD模擬中。假定N個粒子處在體積一定的盒子內(nèi),并固定總能量,此時,系統(tǒng)溫度和系統(tǒng)壓強可能在某一平均值附近起伏變化。該平衡體系為孤立系統(tǒng),與外界既無能量交換,也無粒子交換。邊界條件為x軸切削方向和工件的z軸方向采用固定邊界條件,y軸方向采用周期性邊界條件。

        2.2 系統(tǒng)弛豫

        在一個經(jīng)典穩(wěn)定系統(tǒng)中,整個仿真過程中系統(tǒng)動能和勢能的和,即總能量必須遵循能量守恒定律。單晶3C-SiC結(jié)構模型是根據(jù)(靜態(tài))Si原子和C原子間的相對位置建立空間坐標系的,而實際晶體結(jié)構中,系統(tǒng)原子處于動態(tài)平衡中。故為了使模型更具有現(xiàn)實意義,需要使系統(tǒng)中的原子在原子間作用力下自由運動一段時間,使原子位置坐標和原子速度都有所調(diào)整,即先進行一段時間的迭代計算,使系統(tǒng)達到動態(tài)平衡。通常情況下,模型建好后無法立即給出十分精確的初始條件,此時只需給出一個適當?shù)某跏紬l件,對系統(tǒng)進行定時弛豫,使模型迭代到原子間勢能達到穩(wěn)定狀態(tài)。定時弛豫開始后,原子在原子間作用力下開始自由運動,原子位置坐標和原子速度都在不停變化,逐漸使系統(tǒng)原子趨于平衡狀態(tài)??赏ㄟ^勢能函數(shù)及原子運動方程計算,得到定時弛豫過程中系統(tǒng)勢能、原子位置坐標和原子速度[25]。當系統(tǒng)總能量值在一個恒定值附近小范圍波動時停止計算,此時系統(tǒng)達到平衡狀態(tài)。定時弛豫過程實質(zhì)上為能量再分配過程,系統(tǒng)中的微觀粒子通過原子間作用力進行能量交換,完成能量分配,從而使系統(tǒng)達到平衡狀態(tài)。

        為了提高計算效率,必須合理選擇定時弛豫的時間步,時間步不能太短或太長,太短時系統(tǒng)無法達到平衡,太長時則浪費時間[26-27]。采用NVE系綜對系統(tǒng)進行定時弛豫,時間步設定為1 fs,每10 fs對原子速度標定一次,每隔500 fs輸出一次計算結(jié)果,得到系統(tǒng)勢能、原子間作用力、原子位置坐標及原子速度。70 000 fs后系統(tǒng)總能量達到平衡狀態(tài),定時弛豫過程中總能量變化曲線如圖2所示。

        3 結(jié)果與分析

        3.1 切削力分析

        切削力能夠直觀地反映出材料的去除過程,直接影響著切削過程中的加工表面質(zhì)量、刀具磨損及工件精度等。宏觀傳統(tǒng)加工過程中,切削力主要來源于切削過程中工件、切屑變形所產(chǎn)生的抗力和刀具、工件、切屑三者之間產(chǎn)生的摩擦阻力。納米切削過程中,切削力主要來源于工件原子和刀具原子間的作用力。對單晶3C-SiC工件納米切削過程進行MD模擬計算,可得到不同時刻每個原子的位置坐標,并對工件原子每一時刻的位移進行標定,輸出刀具原子與工件原子間的作用力。通過3C-SiC材料的正交切削仿真過程,可得到切向力和法向力大小隨切削距離的變化曲線如圖3所示。采用每500 fs輸出一次切削力,設定刀具在x軸方向上移動速度為200 m/s,切削深度為0.5 ?.弛豫70 000 fs后,再使刀具開始移動。圖3中,力的單位為eV/?,與力的單位nN換算方法為:1 J=1 N·m,1 eV=1.6×10-19J,則1 eV/?=1.6 nN.

        由圖3可知,正交切削加工的初始階段,刀具原子與工件原子不完全接觸,切削力隨刀具沿切削方向移動距離的增大而逐漸增大。當移動距離至3 nm時,刀具與工件接觸面達到最大,即刀具原子與工件原子完全接觸,此后切削力大小在一定范圍內(nèi)波動。圖3中,切削力采樣時間間隔為500 fs,在刀具擠壓過程中,工件原子積蓄的應變能形成位錯能,隨著能量的繼續(xù)增大在某一時刻原子間共價鍵斷裂,切削力在很短時間內(nèi)表現(xiàn)出劇烈波動,因此材料去除過程的切削力變化是一種不連續(xù)狀態(tài),亦是一種共價鍵斷裂與新鍵組合生成的過程。

        3.2 切削速度分析

        在納米切削過程中,不同切削速度對單晶3C-SiC材料表面切屑形貌及基體內(nèi)部的缺陷分布區(qū)域有顯著影響。

        切屑去除過程主要通過切削力來反映。切削厚度為1.5 nm時,不同切削速度下切削力(切向力與法向力)隨刀具移動距離變化的曲線如圖4所示。

        由圖4可見,不同切削速度時,單晶3C-SiC材料納米切削過程中,切削初期的切削力均呈上升趨勢,且切削速度越大,切削力上升幅度越大。在達到穩(wěn)定切削狀態(tài)后,切削力圍繞穩(wěn)定值進行波動,該現(xiàn)象主要是由工件材料內(nèi)部共價鍵斷裂及部分產(chǎn)生位錯滑移等缺陷引起的。同時,整個刀具移動過程中切削力隨著切削速度增加而減小,原因在于切削速度增大,工件原子受刀具作用的時間減少,造成切屑的變形量減小,從而使得切削力降低。隨著切削速度增大,切削力波動程度變得劇烈,原因在于單位時間內(nèi)作用的工件原子大幅增多,共價鍵斷裂和刀具的快速進給所產(chǎn)生的切削力波動需要在更短時間內(nèi)完成。為了使不同切削速度下的切向力有一個定量、直觀的比較,平均切向切削力的計算取切削穩(wěn)定后3~7 nm之間切削力的平均值。切削速度為50 m/s、100 m/s和200 m/s時,對應的平均切向切削力分別為737.34 nN、635.29 nN和587.09 nN. 對不同切削速度下的平均切削力進行對比,可發(fā)現(xiàn)切削速度越大,切削力越小。

        文獻[10]在MD模擬仿真中,利用Tersoff勢函數(shù)研究了單晶3C-SiC材料特性,計算得到的材料特性仿真與試驗對比如表3所示。通過對比可知,采用MD模擬方法,建立單晶3C-SiC進行切削仿真實驗,得到的切削力、溫度和表面質(zhì)量對納米切削試驗有一定的預測能力,限于仿真模型尺度,無法通過試驗做更好的對比,但通過MD模擬獲得的3C-SiC材料特性證明其有一定的理論意義。

        表3 3C-SiC材料特性仿真與試驗結(jié)果對比[10]Tab.3 Material properties of single crystal 3C-SiC obtained by experiment and MD simulation[10]

        3.3 納米劃痕試驗

        采用美國Hysitron公司生產(chǎn)的TI950納米機械性能測試系統(tǒng)對單晶SiC晶片進行納米壓痕試驗,試驗參數(shù)如表4所示。通過二維電容傳感器可測出刻劃過程中的橫向力、正向位移、正向力,橫向位移數(shù)據(jù)則由帶動工作臺移動的壓電陶瓷提供。電容傳感器通過閉環(huán)系統(tǒng)保證法向力的勻速加載。劃痕長度為250 μm,劃痕速度為8 μm/s,探針半徑為200 nm. 仿真獲得的切削力為800 nN,劃痕力傳感器分辨率為20 μN,劃痕過程切削力如圖5所示。由圖5可看出,切削力隨刀具移動而增加,同仿真力趨勢一致。

        表4 劃痕試驗參數(shù)Tab.4 Scratch test parameters

        4 結(jié)論

        本文采用單點金剛石刀具對單晶3C-SiC晶片劃痕過程進行了MD模擬建模,研究了不同切削速度下對塑性域加工機理的影響,得到結(jié)論如下:

        1)利用MD模擬可以有效研究單晶SiC的納米切削機理。

        2) 納米切削下,切削力隨刀具原子與工件原子接觸數(shù)量增加而逐漸增加,完全接觸后切削力在一定范圍內(nèi)波動,這種波動在很短時間內(nèi)完成,是材料原子共價鍵斷裂以及部分產(chǎn)生位錯滑移等缺陷引起的。

        3)切削速度越大,切削力越小。工件原子受刀具作用的時間減少,造成切屑變形量減小,從而使得切削力降低。

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