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        10A/300V JBS整流管設計

        2018-07-23 02:15:28閆麗紅王永順劉繽璐
        電子科技 2018年8期
        關(guān)鍵詞:流片電場器件

        閆麗紅,王永順,劉繽璐

        (蘭州交通大學 電子與信息工程學院,甘肅 蘭州 730070)

        結(jié)勢壘肖特基整流管[1-3]是在功率肖特基二極管的基礎上,在漂移區(qū)集成了多個梳狀的p-n結(jié)柵,且結(jié)柵間的導電溝道保證在零偏時不被夾斷,正向電流通過柵間導電溝道時從陽極流向陰極。當反偏電壓超過幾伏時,結(jié)柵p-n結(jié)空間電荷區(qū)展寬并相互交迭,引起耗盡層穿通,導電溝道被夾斷。結(jié)勢壘肖特基整流管(Junction Barrier Schottky Rectifier,JBS)具有大電流、高電壓、低功耗等優(yōu)點[4],在電子、通信、計算機、自動化、儀器儀表等領域具有廣泛的應用。為此,本文設計并制造了10 A/300 V JBS整流管。

        1 有源區(qū)參數(shù)設計

        有源區(qū)是JBS整流管的核心部分,它的材料和結(jié)構(gòu)在很大程度上決定著JBS整流管的正向?qū)ㄌ匦约胺聪驌舸┨匦?。本次設計的目標是正向電流為10 A、泄漏電流小于20 μA、擊穿電壓為300 V的JBS整流管。要實現(xiàn)300 V的擊穿電壓,需要對器件進行終端造型設計,擬在器件中設置兩道場限環(huán)。對于半導體平面器件,單個場限環(huán)能使平面p-n結(jié)的實際擊穿電壓達到理想值的60%以上[5-6]。

        1.1 材料參數(shù)的確定

        有源區(qū)采用金屬鋁作為器件陽極,確定主結(jié)和場限環(huán)p+區(qū)的摻雜濃度為NA= 1 × 1019cm-3,鋁n-型漂移區(qū)的勢壘高度φB=0.81 eV。外延層(即n-型漂移區(qū))的厚度由器件的擊穿電壓決定,加場限環(huán)之后,器件的擊穿電壓大約是理想值的60%以上。因此,要實現(xiàn)實際300 V的擊穿電壓,設計的反向擊穿電壓要取到VB= 300 V/0.6 = 500 V。漂移區(qū)的摻雜濃度[7]為

        (1)

        將VB=500 V代入上式,得到ND=5×1014cm-3。

        1.2 結(jié)構(gòu)參數(shù)的確定

        根據(jù)式(2)可以得到臨界擊穿漂移區(qū)[8-15]的厚度tepi為

        圖1 JBS單胞結(jié)構(gòu)圖

        (2)

        當tepi=89 μm時,耗盡層已達到n+區(qū)邊緣,但考慮到柱面結(jié)情況,擊穿最先發(fā)生在曲率半徑最大處,p-n結(jié)柵的耗盡層實際并未達到最大耗盡層寬度89 μm,所以選取tepi=89 μm是可行的。

        JBS整流管的正向壓降

        (3)

        式中,k為玻爾茲曼常數(shù);T為溫度;q為元電荷電量;m為擴散掩膜尺寸;s是擴散結(jié)柵時的窗口寬度;xj為p+n結(jié)結(jié)深;tepi為漂移區(qū)厚度;A*為有效理查遜常數(shù);JF為流過每一單胞的電流密度;2d表示導電溝道寬度,如圖1所示。ρ表示電阻率

        (4)

        式中,μn表示電子遷移率。

        設橫向擴散結(jié)深是縱向結(jié)深的85%,則導電溝道寬度

        2d=m-2W0-2xj×85%,0≤d≤dmax

        (5)

        式中,W0為p+n結(jié)零偏時的耗盡層寬度,dmax為d的最大值。由式(3)可知,JBS的正向壓降VF不僅與勢壘高度φB、溫度T有關(guān),還與結(jié)構(gòu)參數(shù)m、s、tepi及ND有關(guān)。在正向壓降的表達式中p+n結(jié)內(nèi)建電勢

        (6)

        零偏時p+n結(jié)耗盡層寬度

        (7)

        反偏時p+n結(jié)耗盡層寬度

        (8)

        式中,VR為反偏電壓,εs為半導體介電常數(shù)。d的最大值

        dmax=WR(VR=VR0)-W0

        (9)

        式中,VR0表示導電溝道預夾斷時的反偏電壓。

        JBS整流管的反向電流密度

        (10)

        式中,JLS表示金屬-半導體結(jié)反向電流密度;JLD表示p+n結(jié)反向電流密度;D表示載流子擴散系數(shù);τ表示少子壽命;k表示肖特基勢壘區(qū)的電場強度[8]

        (11)

        在結(jié)構(gòu)參數(shù)中,首先確定m和s的取值。取φB=0.81 eV,JF=20 A/cm2,ND=5×1014cm-3,NA=1×1019cm-3,tepi= 89 μm,T=300 K,A*=252 A/cm2·K2,ni=1.5×1010cm-3,xj分別取2 μm、3 μm和4 μm。本次設計要求JBS整流管在反偏電壓VR0=15 V時必須夾斷,根據(jù)式(5)~式(9)可計算得到器件結(jié)構(gòu)參數(shù)m的取值范圍,如表1所示。取s=4 μm,隨著m的增大,VF減小,JL增大。這是由于隨著m的增大肖特基勢壘所占的比例增加。另外,隨著m的增大溝道寬度2d亦增大,導致溝道串聯(lián)電阻減小,所以m的取值需綜合考慮其對VF和JL的影響[8]。

        表1 不同xj值時m的取值范圍 /μm

        2 JBS終端造型設計

        對于功率半導體器件,曲面彎曲效應嚴重影響著器件的擊穿電壓。為了減小p+n結(jié)的曲面彎曲效應,在器件中設計了兩道場限環(huán),如圖2所示。分析時可將第一道場限環(huán)和主摻雜結(jié)當作一個整體,環(huán)二的浮空電場方向與環(huán)一相反,對主結(jié)的電場具有削弱作用,由此可以提高器件的擊穿電壓。用場限環(huán)技術(shù)可使器件的實際擊穿電壓達到理想值的60%,此時器件承受的實際電壓等于主結(jié)電壓和各個場限環(huán)電壓之和[9-12]。影響擊穿電壓的最主要因素是場限環(huán)的間距。若取值合適,主結(jié)與環(huán)結(jié)電場將同時達到雪崩擊穿的臨界點,從而可獲得最大的反向擊穿電壓。

        圖2 場限環(huán)示意圖

        在理想情況下,可以假設每個p+n結(jié)為單邊突變結(jié),結(jié)邊界可使用圓柱形對稱解作近似,忽略半導體到空氣的電場損耗,環(huán)間距(l1和l2)略小于結(jié)深(rj),兩道場限環(huán)在雪崩擊穿臨界點時均發(fā)生穿通,忽略環(huán)間的內(nèi)邊界勢壘。圖2中n-漂移區(qū)的泊松方程為

        (12)

        各場限環(huán)耗盡層分擔的電壓[8]

        (13)

        (14)

        (15)

        (16)

        主結(jié)右側(cè)的電場強度

        (17)

        環(huán)一右側(cè)的電場強度

        (18)

        環(huán)二右側(cè)的電場強度

        (19)

        環(huán)間距的最優(yōu)條件[8]為

        ED=EF1=EF2=ECC

        (20)

        式中,ECC=[6/Arj]1/7;A=1.8×10-35cm-1;rj=xj。當VB=500 V且xj=2,3,4 μm時,主結(jié)和各環(huán)結(jié)上的電壓和最佳環(huán)間距如表2所示[13]。

        表2 不同結(jié)深下場限環(huán)的設計參數(shù) /μm

        3 JBS工藝流片及測試結(jié)果分析

        3.1 JBS工藝流片設計

        根據(jù)前面設計的材料參數(shù)、結(jié)構(gòu)參數(shù),經(jīng)過外延片材料準備、初始氧化等40多道工藝制造,對JBS整流管從圓片制作成管芯并封裝成成品[13]進行一系列的工藝流程,如圖3所示。在具體生產(chǎn)過程中,廠房溫度24±3 ℃,相對濕度25%~50%;光刻間溫度22±2 ℃,相對濕度35%~50%。圖4是封裝后的JBS整流管正面外形圖。

        圖3 JBS整流器工藝流程圖

        圖4 封裝后的10 A/300 V JBS整流管

        3.2 JBS產(chǎn)品測試結(jié)果分析

        為保證產(chǎn)品流片后VBR可滿足大于300 V的要求,對生產(chǎn)過程進行測試。

        (1)引線孔腐蝕去膠后測試。根據(jù)實驗設計基本原則,確定外延片參數(shù)不變,對硼退火的流片溫度進行實驗,實驗數(shù)據(jù)結(jié)果如表3所示。

        表3 不同硼退火工藝溫度VBR數(shù)據(jù)值

        根據(jù)實驗結(jié)果可確認退火工藝溫度對VBR數(shù)據(jù)的影響很大,最終確定選擇硼退火工藝溫度 1 180 ℃進行生產(chǎn)流片。探針測試主結(jié)區(qū)域VBR值在340~450 V范圍內(nèi),測試電參數(shù)VBR曲線如圖5所示,已滿足設計要求300 V[14]。

        圖5 JBS 10A/300V產(chǎn)品引線孔腐蝕去膠后反向VR曲線:400 V

        (2)背面金屬化后測試。背面金屬蒸發(fā)后,產(chǎn)品已定型,測試的數(shù)據(jù)是準確的。VR為320~380 V,IR<20 μA,VF@10 A:0.8~0.84 V,均滿足設計標準要求,具體電參數(shù)曲線如圖6和圖7所示。

        圖6 JBS產(chǎn)品背面金屬化后主結(jié)反向曲線VR=380 V,IR=20 μA

        圖7 JBS產(chǎn)品背面金屬化后主結(jié)正向曲線VF=0.81 V@10 A

        (3)JBS產(chǎn)品可靠性試驗。JBS產(chǎn)品封裝完成后的可靠性試驗,主要進行了產(chǎn)品電參數(shù)測量、抗靜電試驗(ESD)、直流老化,經(jīng)試驗,該產(chǎn)品ESD水平高,可達15 kV水平,經(jīng)高溫直流老化后,產(chǎn)品電參數(shù)測試合格,可靠性水平滿足預期要求[15]。

        4 結(jié)束語

        本文設計并制造了具有場限環(huán)結(jié)構(gòu)的10 A/300 VJBS整流管。經(jīng)測試結(jié)果表明,電參數(shù)水平正向電壓VF=0.85~0.856 V,反向電流IR=4~50.5 μA,反向電壓VR=307.5~465.2 V,產(chǎn)品由于硼退火溫度的提升,增加了結(jié)深,ESD水平從低溫退火的6~12 kV提高到15 kV,經(jīng)高溫直流老化后,可靠性電參數(shù)水平滿足預期的設計要求,符合行業(yè)標準。

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